JPH0322049B2 - - Google Patents

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JPH0322049B2
JPH0322049B2 JP56179094A JP17909481A JPH0322049B2 JP H0322049 B2 JPH0322049 B2 JP H0322049B2 JP 56179094 A JP56179094 A JP 56179094A JP 17909481 A JP17909481 A JP 17909481A JP H0322049 B2 JPH0322049 B2 JP H0322049B2
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JP
Japan
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elevator
drive shaft
vacuum chamber
cylinder
platform
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Application number
JP56179094A
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JPS57114233A (en
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Matsuku Arufuretsudo
Korinzu Ooneiru Buraian
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International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
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Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
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Publication of JPH0322049B2 publication Critical patent/JPH0322049B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/30Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
    • H10P72/33Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H10P72/3308Vertical transfer of a single workpiece
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
    • H10P72/76Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches
    • H10P72/7604Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H10P72/7612Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by lifting arrangements, e.g. lift pins
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/70Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
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    • H10P72/7604Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H10P72/7626Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the construction of the shaft
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/139Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber

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  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、エレベータ駆動機構、特にエレベー
タの上昇及び下降時に高い大気圧及び真空室の条
件がかかる半導体ウエハ電子ビーム描画装置に適
した駆動機構及びエレベータの移動中に装置部品
に対する振動的衝撃及び歪みを最小化するための
構成に関する。
電子ビーム描画技術は半導体ウエハ上にチツプ
のパターンを描く手段として満足に用いられてい
る。この技術は例えば3×10-6トル等の非常に高
い真空条件の下で描画が行なわれる事を要求す
る。半導体ウエハは真空室外の事実上大気圧の位
置から真空条件の下に導入され、パターン描画後
に真空室から外へ取り出される。
作業片を満足に取り扱い、電子ビームの印加が
起きる真空室からのあるいは真空室へのそのよう
なウエハの移動を容易にするための装置が、米国
特許第3968885号明細書に示されている。そこで
は半導体ウエハの輸送は、主真空室の外部及び内
部の可動な部品によつて形成される仮想的副室の
利用によつて比較的高速に行なわれている。真空
室の体積と比較して相対的に小さな体積の、例え
ば真空室の大きさの約100分の1程度の副室を用
いる事によつて、副室内に真空室と同じ真空レベ
ルを保つ必要がなくなる。というのは比較的小さ
な副室内の圧力条件は、副室と真空室との間に連
絡が生じた時に真空室内の真空レベルに影響を与
える程充分な重要性を持たないからである。副室
の体積が比較的小さい事及び副室にはより低レベ
ルの真空しか必要でない事により、大気圧におい
て副室に半導体ウエハを置いた後副室を排気する
ための時間は半導体ウエハの電子ビーム・パター
ン描画が行なわれる真空室と基本的に同じ真空条
件に補助室を維持する必要のある従来の装置より
もかなり減少している。さらにエレベータは、真
空室の外部にアクセス可能な副室内の位置からあ
るいはその位置へと半導体ウエハを上昇及び下降
させる事に加えて副室と真空室との間の弁として
も機能し、副室と真空室との間の連絡を遮断する
機能を有する。真空室内部でウエハが外部から気
密状態になると、エレベータからX−Yテーブル
の一方の側にウエハが横に移動する事が可能にな
る。ここでウエハは入射電子ビームに対して正確
に位置付けられる。
第1の高い位置即ちウエハが副室にあつて真空
室からは閉ざされ、エレベータ上にウエハを置く
か又はそこから取り去るために真空室の外部から
エレベータに接近するために副室のカバーあるい
は蓋を上げることのできる位置と、第2の低い位
置即ちウエハが真空室内にあつてX−Yテーブル
に移動させるための横方向移動機構に接近可能な
位置との間で、ウエハを保持するエレベータを昇
降させるために、前記の特許文献の装置はタンデ
ム・エア/オイル・シリンダーから成る駆動機構
を用いている。エア・シリンダーは駆動力として
機能し、オイル・シリンダーは調整装置として機
能する。駆動シリンダーは、真空室を画成してい
る装置の上板に対して気密で且つ副室に対しては
開放されたエレベータの上部が、副室の蓋が上昇
し大気に露される時に生じる力に対抗するための
寸法を有している。真空室が非常に高い真空で且
つエレベータの上部が大気圧であれば、約450Kg
程度の圧力差に対抗してシリンダーを駆動するた
めにかなり大きな圧縮空気力あるいは水力が必要
である。さらに、もしエレベータからウエハを横
方向に移動させる内部の移動機構とエレベータと
が順序を乱して動作すれば、これらの構成部品及
びエレベータによつて保持されるウエハ・キヤリ
アに大きな損傷が引き起こされるであろう。その
結果、装置を修理するために数日間の使用不能期
間が生じるかもしれない。
エレベータ駆動機構はいくつかの異なつた圧力
状態の下で動作しなければならない。即ち、 (1) 例示した装置において副室及び主室が両方共
高真空状態にあつて、主真空室の底壁を通つて
気密可能に突出するエレベータの底面に作用す
る大気圧によつて、駆動機構に対して上向き方
向に約63Kgの力が作用する状態。
(2) エレベータが完全に上昇した位置にあり、主
真空室の上部壁に密接し、副室を真空室に対し
て気密にしている状態。真空室が高真空で且つ
副室が大気圧なので、機構の重量並びにエレベ
ータの底部及び上部に作用する大気圧による力
の間の差が例えば駆動機構に対して下向きに作
用する約450Kgの力を生じさせる。(これは以前
に論じた条件である。) (3) 装置全体が大気圧中にあり、エレベータ部分
の重量が駆動機構に対して下向きに約23Kgの力
を加える状態。
従つて本発明の目的は、副室及び真空室の種々
の圧力条件の下でエレベータに作用する圧力差に
よつて生じる負荷が、つり合わされ弱められる事
によつてきわめて小さい力でエレベータを上下に
駆動する事が可能で、エレベータの上昇駆動が終
了しつり合い力が除去された時に圧力差がエレベ
ータを真空室壁に対して自動的に気密にする事を
可能にするような改良されたエレベータ駆動機構
を提供する事である。
本発明の他の目的は、電子ビーム鏡筒に対する
衝撃及び振動をなくし、従つて描画が行なわれて
いる時に真空室からあるいは真空室へ一方のウエ
ハをロードあるいはアンロードしながら同時に別
のウエハに電子ビーム描画ができるような、電子
ビーム半導体ウエハ描画装置用の改良されたエレ
ベータ駆動機構を提供する事である。
本発明の他の目的は、エレベータ上部が大気圧
に露され真空室が高真空の時にエレベータが下降
するのを防ぐために機械式ロツク装置を設けた、
電子ビーム描画装置用の改良されたエレベータ駆
動機構を提供する事である。
本発明は、電子ビーム描画装置の一部分として
真空室内に配置された垂直に移動可能なエレベー
タのための改良されたエレベータ駆動機構に係
る。真空室は、真空室内に配置されビームに位置
合せされた作業片にビームで描画するための電子
ビーム発生装置を有する。またエレベータ機構
は、駆動シヤフトに固定されたエレベータ・プラ
ツトフオーム並びにエレベータ・シヤフト及びプ
ラツトフオームを垂直に上昇及び下降させるため
の付勢装置を含んでいる。
改良点は、動作中にエレベータ機構に作用する
種々の負荷力につり合せるためにエレベータ駆動
シヤフトに接続された負荷力つり合い装置にあ
る。負荷力つり合い装置は、負荷力に反対向きに
エレベータ駆動シヤフトに力を加えるためのピス
トン装置を含む事もある。これは、エレベータ機
構を事実上ゼロ質量の条件に置き、従つて最小限
度の力で、しかも装置に対して最小限度の振動及
び衝撃しか与えずにエレベータ・プラツトフオー
ムをエレベータ付勢装置によつて急速に移動させ
る事ができる。そのような構成の下では、第1の
作業片をエレベータ機構によつて移動させなが
ら、同時に真空室内で第2の作業片に電子ビーム
描画を行なつてもよく、作業片のスループツトが
増加する。
真空室は、開口を有する水平な壁を持つ。この
開口は、エレベータ・プラツトフオームが開口中
に移動し、上昇したプラツトフオームで真空室を
気密にする時に、エレベータ・プラツトフオーム
上に作業片を置いて作業片を真空室内に入れる事
を可能にする。好ましくは、装置はさらに機械式
のインターロツク装置を含む。これは、少なくと
もエレベータ・プラツトフオームが上昇した位置
にあり、真空室を外部に対して閉ざしている時
に、真空室とその外部との間のエレベータ・プラ
ツトフオームに働きエレベータ・プラツトフオー
ムを真空室開放位置へと押しやろうとする圧力差
によつてプラツトフオームが開口から離脱し真空
が低下する事故を防ぐために、エレベータ・シヤ
フトと係合できるようになつている。機械式イン
ターロツク装置は、エレベータ・プラツトフオー
ムにかかる圧力差が所定の値以下になるまでエレ
ベータ駆動シヤフトの解放を阻止する装置より成
る。
さらに装置は、エレベータ・プラツトフオーム
が上昇位置から移動する時に室壁の開口を大気か
ら真空気密にするように働く可動な蓋を有する。
プラツトフオームが上昇された位置にある時に蓋
とエレベータ・プラツトフオームはその間に副室
を形成し、蓋は室の壁の開口を真空気密にする。
さらに装置はプラツトフオームが室の外部から作
業片を受け取つた後プラツトフオームがその位置
から降下する前に副室内に真空を作る装置を有す
る。インターロツク装置は、蓋が室壁開口封止位
置にあり、副室内の圧力が大気圧から所定の真空
圧力にまで減少するまで、エレベータ駆動シヤフ
トの解放を阻止する装置を有する。
機械式インターロツク装置は、駆動シヤフトに
接近し又は離隔するように横方向に移動可能な駆
動シヤフト・ロツキング・バー及びロツキング・
スライド付勢シリンダーを有する。駆動シヤフ
ト・ロツキング・バーは、ロツキング・スライド
付勢シリンダーにより、駆動シヤフトの側面にあ
る少なくとも1つのノツチに関して突出位置と後
退位置との間で推移可能である。このノツチは、
ロツキング・バーが突出位置にありプラツトフオ
ームが垂直に上昇した位置にある時に駆動シヤフ
ト・ロツキング・バーの端部を受け入れる。
ロツキング・スライド付勢シリンダーが駆動シ
ヤフト・ロツキング・バーを選択的に上記突出位
置及び後退位置に推移させるために、空気圧が供
給される。真空室が真空条件下にあり真空室壁開
口を覆うプラツトフオームの表面が大気圧にさら
される時、駆動シヤフト・ロツキング・バーと駆
動シヤフト・ノツチとの接触により高い摩擦力が
駆動シヤフト・ロツキング・バーに作用する。シ
ステムは、駆動シヤフト・ロツキング・バーを突
出位置から後退位置へ移動させる方向でロツキン
グ・スライド付勢シリンダーに加えられる空気圧
を、上記ノツチにおける駆動シヤフト・ロツキン
グ・バー上の摩擦力のレベル以下のレベルにまで
制限するための空気圧制御装置を含む。
負荷力つり合い装置は、エレベータ駆動シヤフ
トと同軸に真空室の下に固定して取り付けられた
負荷つり合いシリンダーを有し得る。ピストンは
エレベータ駆動シヤフトに固定して結合され、負
荷つり合いシリンダー内で摺動可能である。真空
室内外の圧力差によるエレベータ機構に作用する
力をつり合わせるために負荷つり合いシリンダー
内のピストンの与えられた面に適当な値の空気圧
が選択的に加えられる。駆動シヤフト付勢シリン
ダーは、負荷つり合いシリンダーに平行に且つ駆
動シヤフトの側面に駆動機構本体に取り付けられ
ている。駆動シヤフト付勢シリンダーは、エレベ
ータ・プラツトフオームに対面するシリンダー端
部から突出する縦に伸縮可能なピストン・ロツド
を有する。駆動シヤフトに対してその片側に固定
されたオフセツト・ブラケツトは駆動シヤフト付
勢シリンダー・ピストン・ロツドの経路内に突出
する部分を有する。ピストン・ロツドは、上記駆
動シヤフト付勢シリンダーの内部にピストンを有
し、その反対側の端部は、駆動シヤフト付勢シリ
ンダー・ピストン・ロツドの前進後退が、真空室
壁開口を閉ざす上昇位置と上記開口を通じて真空
室の内部に接近可能な下降位置との間でエレベー
タ駆動シヤフトの前進後退を引き起こすように、
オフセツト・ブラケツトに結合されている。また
駆動シヤフト付勢シリンダーに対して、それによ
つて、支持されているピストンの各々の側に、制
御された圧力及び流量で、圧力を加えた空気を選
択的に供給するための装置が設けられている。負
荷つり合いシリンダー内のピストンは、エレベー
タ・プラツトフオームを上昇位置と下降位置との
間で移動させるための両ストロークから底に届く
間に空気クツシヨンされる。下降した位置におい
て、横に移動した所で電子ビーム描画を行なうた
めに、作業片のプラツトフオームからの横移動が
真空室内で可能になる。
弾性のある端部を有する垂直上昇運動停止部材
がエレベータ駆動シヤフトに真空室の外部で調整
可能に固定して取り付けられるが、これはエレベ
ータ駆動シヤフトが垂直上方に移動し固定された
振動遮断板と接触して、エレベータ・プラツトフ
オームの位置を上昇した位置に固定し、真空室内
の開口を気密に保ち、駆動シヤフトのノツチを駆
動シヤフト・ロツキング・バーと整合させるため
である。またエレベータ機構は、上昇した位置か
ら下降した位置へのエレベータ・プラツトフオー
ムの下降移動を制限し、それによつてエレベータ
の移動の終点における衝撃を除去するために、エ
レベータ・プラツトフオームの垂直移動経路内に
あり且つエレベータ機構に固定して取り付けられ
たエレベータ停止部材を有する。
第1A図及び第1B図を参照すると、多くの点
で米国特許第3874525号明細書に記載されたもの
に構造、機能及び動作が類似した電子ビーム鏡筒
を含む半導体ウエハ電子ビーム描画装置6並びに
真空室10が示されている。真空室10は振動遮
断板あるいは振動遮断テーブル8の上部に取り付
けられている。真空室10は上部壁12、底部壁
14及び側壁16によつて形成される。順次に供
給される半導体ウエハの電子ビーム描画が行なわ
れる主室である真空室10は、イオン・ポンプ及
びチタン・サブリメーシヨン・ポンプの組み合せ
等の真空ポンプ(図示せず)によつて適当な真空
圧力に保たれる。また真空圧力は矢印18で示さ
れるように、ソレノイド動作弁20、上部壁12
内のチヤネル22を経て、上部壁12内の円形の
開口24によつて一部分が形成された副室36の
内部にも供給される。
(適当に位置付けられた時に)半導体ウエハ2
6への電子ビームの印加を制御する光学鏡筒4は
真空室の上部壁12上に支持されている。図では
ウエハ26は、エレベータ30によつて支持され
その中央に置かれたウエハ・キヤリア28上に置
かれている。エレベータ30は、ウエハ・キヤリ
ア28を直接支持している垂直に移動可能なプラ
ツトフオーム40を有する。これは、室10内の
下降した位置にあつて、エレベータ30の右のX
−Yテーブル(図示せず)にウエハ・キヤリア2
8を横に移動させる事を可能にする高さにあるよ
うに図示されている。この移動は移動機構32に
よつて行なわれる。
各ウエハ26は、開口24を経て真空室外部か
ら真空室10に入れられる。エレベータ30は、
ウエハ・キヤリヤ28を上部壁12の上面12a
付近の上昇した位置にまで持ち上げるように垂直
に移動可能である。装置には、開口を覆うように
上部壁12の開口24の直径より大きな直径を有
する、垂直に変位可能な副室の蓋34が設けられ
ている。蓋34は、下降した位置にある時、その
周辺部のシール34bで開口24を気密に保つ。
エレベータ30が上昇した位置にある時、エレベ
ータ・プラツトフオーム40の直径が拡大された
縁38によつて主真空室10の内部から気密にさ
れた副室36が形成される。プラツトフオーム4
0の縁38は面38b上の環状凹部38a内に弾
性Oリング・シール82を有し、上部壁12の底
面12bに取り付けられたダイアフラム・アセン
ブリ88に気密封止される。副室蓋34が上面1
2aに気密封止されると、比較的小さな容積の副
室36は、通路22によつて副室36を矢印18
で示されるように真空圧力の源に接続するソレノ
イド動作型制御弁20によつて真空室10内の圧
力よりも遥かに低い真空レベルの真空圧力に保た
れ得る。
ウエハ・キヤリア28及びウエハ26の真空室
10の外部の地点から内部への移動は、真空室1
0内の真空レベルの重大な変化を伴なわずに行な
われる。副室蓋34と室10の上部壁12との間
及びエレベータ・プラツトフオーム縁38bと環
状弾性金属ダイアフラム88との間が気密封止さ
れると、プラツトフオーム40の直径の小さな部
分42は開口24内に入り込み、その周囲には間
隙が生じる。副室36を形成する要素の間の小さ
なすきまによつて、非常に小さな容積の副室36
が生じる。
従来のシステム及び装置では、副室蓋34及び
エレベータ30に関する駆動機構は駆動シリンダ
ーに対する停止部材を持たず、エレベータ・プラ
ツトフオーム40及び副室蓋34の周辺部を停止
させるためにそれら気密封止面に頼るだけであつ
た。一方本発明では、副室36が形成される時
に、エレベータ及び副室蓋と真空室上部壁12と
の気密接触を緩衝するための手段がエレベータ及
び副室蓋に設けられている。
両駆動機構は、エレベータ機構のわきのウエハ
上に電子ビームによつて書き込まれるパターンに
歪みを生じさせ得る真空室構成要素に対する過度
の力の印加をなくすために一体的な停止部材を有
する。さらに封止面における停止部材に接触する
時の衝撃負荷を許容できるものにするために副室
蓋34及びエレベータ・プラツトフオーム40の
ストロークの終点で速度を制御するために内部ク
ツシヨンが設けられている。副室蓋34の気密封
止を保証するために、その部材の環状フランジ3
4aに固定された弾性Oリング44には最小限度
の力が加えられなければならない。Oリング44
は特に、逆カツプ状の副室蓋34の対面縁34c
の円形の溝34b内に受け入れられる。Oリング
44は真空室10の上部壁12の上面12a上に
定着する。カツプ状の副室蓋34は、横方向に開
口24の拡がりを持つ基部34d及び環状の縁部
34aを有する。縁部34aは、開口24の側壁
と整合するように開口24程度の内径を有し得
る。
真空室10の上部壁12にはブラケツト・アセ
ンブリ46が設けられ、その基部48は開口24
のわきの上部蓋12の上面12aにねじ込まれる
か又は固定され得る。ブラケツト・アセンブリ4
6には垂直の立ち部材52の上端に横方向支持梁
50が設けられ、これらの部材は構造を堅固にす
るために溶接され補強材54で補強されている。
梁50は一端で固定され、その端部50aはエレ
ベータ30及びそのプラツトフオーム40並びに
真空室上部壁12の開口24の中心線上にある。
支持梁50は56に円筒状開口が設けられ、その
中に副室蓋付勢エア・シリンダー58の直径の小
さな部分58aが突出している。エレベータに関
する完全な制御システムは空気で動く事が好まし
い。副室蓋付勢シリンダー58の下端から下向き
にピストン・ロツド60が突出し、その上端はシ
リンダー58内のピストン59を支持している。
ロツド60は、調整可能な衝撃吸収機構62によ
つて下端が副室蓋34に機械的に結合される。こ
れに関して、副室蓋34に対してそれと同軸に、
円筒型ケーシング64が固定的に取り付けられて
いる。その下端には直径の拡大された縁即ちフラ
ンジ部分64aを有する。円筒形ケーシング64
には、内径66が与えられ、縁64aの付近68
ではくり広げられている。内径66は、内径66
の直径よりも少し小さな外径を有するシリンダー
70を摺動可能に取り付けている。シリンダー7
0はねじ立て及びねじ切りされた内径72を有
し、さらに74においてくり広げられている。ピ
ストン・ロツド60は下端が60aにおいてねじ
切りされ、シリンダー70のねじ立て及びねじ切
りされた内径72に通されている。シリンダー7
0は半径方向に拡大したフランジ70aでその下
端が終端する。このフランジの外径はケーシング
64のくり広げられた内径68の直径よりもいく
らか小さいが、ケーシングの内径66の直径より
は大きい。フランジ70aはケーシング64内で
のシリンダー70の上向き移動を制限する停止部
材として機能する。好ましくは、副室蓋34の上
部は中心に浅い円形の凹部76を有する。くり広
げられた内径74及び凹部76の直径よりも小さ
な直径を有するコイルばね78が、一端が内径7
4内に置かれ、他端が浅い円形の凹部76内に置
かれている。コイルばね78は、コイルばねが部
分的に弛緩及び伸張された時にシリンダー70の
縁部分70aが、ケーシング64のくり広げられ
た内径68と内径66との間に形成された肩部分
80に接するような、軸方向長さを有している。
さらにロレク・ナツト82がシヤフト60のねじ
切りされた端部60aに通され、これはピスト
ン・ロツド60の所定の軸方向のねじ切りされた
位置にシリンダー70をロツクし、従つてばね7
8を圧縮するように機能する。
副室蓋34は通常真空室10の上部壁12の上
面12a上約10数cmの上昇した位置から、副室3
6あるいは真空室10を装置の外部に対して気密
に保つためにOリング・シール44が上部壁12
の上面12aに対して押し付けられる位置まで、
強制的に下降される。副室蓋34の押し下げは、
管路61を経て副室蓋付勢シリンダー58に、そ
してシリンダー58内のピストン59の上面に加
圧空気を供給する事によつて起きる。ピストン・
ロツド60がシリンダー58から突出しているの
で、シリンダー70と副室蓋34との間のコイル
ばね78の介挿により蓋34はピストン・ロツド
60と共に、弾性Oリング・シール44が真空室
上部壁12の上面12aに接触する地点まで下降
する。これらの部材の間の初期の衝撃が第1A図
に示すように緩く圧縮されたコイルばね78によ
つて緩衝されるのみならず、コイルばね79の圧
縮はOリング・シール44のばね圧力圧縮による
副室蓋34の気密封止を保証するように調整可能
にプリセツトされる。コイルばね78の圧縮によ
りOリング44上に最小限度の力が維持される。
従つて付勢シリンダー58は、上部壁12の表面
12aに対し開口24の周辺部付近でいくらか平
坦になつたOリング44によつて生じる気密封止
力を純粋に制御するためにコイルばね78に対し
て下向きの力を加える。蓋34を上昇させるに
は、管路63を経てピストン59の反対側に空気
圧が加えられる。エア・シリンダー58は
ALCONの商標で販売されているもののような標
準的なエア・クツシヨン型の空気シリンダーであ
る。
シリンダー58内のピストン59は、上昇位置
及び下降位置の両者において内径内で底に届いて
いる。上昇位置の蓋34の高さはブラケツト46
の高さによつて決定される。蓋34と気密封止面
12aとの間のOリングに対して働く下向きの力
はシリンダー70のねじ60aによつてピスト
ン・ロツド60を調整する事によつて決定され
る。ピストン59が底に届く時にばね78が圧縮
される量はOリング44に対する圧縮力を制御す
る。
さらに副室における、エレベータ・プラツトフ
オーム40と主真空室10との間の気密は、エレ
ベータ・プラツトフオーム40によつて支持され
ている第2のOリングによつて達成される。これ
に関連して、気密構造は米国特許第3968885号と
同様に、エレベータ・プラツトフオーム40の縁
38によつて支持されたOリング82を用いてい
る。しかしながら真空室10の上部壁12の底面
12bに直接接触する代わりに、開口24の付近
でエレベータ・プラツトフオーム40と真空室1
0との間に気密封止を行なう最初の時の衝撃の軽
減を保証する機構によつて、真空室10に変型を
与える事なくエレベータ30の少しの行きすぎを
許容し、この接触を緩衝するためめの手段が設け
られる。
浅い環状の溝38aは縁38の上面38bに形
成され、特に圧縮性の弾性Oリング即ちシール部
材82を受け入れる。上部壁12の底面12bは
開口24の周囲に環状の凹部12cを有する。こ
の凹部はダイアフラム・シール・アセンブリ84
を固定的に取り付けている。アセンブリ84は変
型L字形断面の環状基体部材即ちダイアフラム取
り付け環86を有している。この部材は開口24
程度の内径を有し、上部壁12の凹部12cの直
径よりは少し小さな外径を有する。環86には、
その内側周辺部を形成する脚86aに環状の凹部
90が設けられている。ばね鋼等で形成され、環
86に等しい内径及び外径を有する環状の薄板金
属ダイアフラム88が、環86にその外側周辺部
88aで取り付けられる。その内側の周辺縁88
bは取り付け環86に拘束されず、取り付け環凹
部90に延在している。ダイアフラム88は内側
ではいくらかたわむ事ができるが、外側では取り
付け環86によつて固定されている。一連のボル
ト91が、ダイアフラム88を環87によつて取
り付け環86に、そしてアセンブリを上部壁12
に取り付けるように作用する。さらに取り付け環
86は面86bに環状溝92が設けられ、この溝
は環86と凹部12cの底部との間でサンドイツ
チされるOリング・シール94を有する。また、
環86とダイアフラム88との間に他のOリン
グ・シール93が必要である。これは環86の面
86c上の第2の環状溝内にある。これは、蓋3
4が上昇し副室36即ちプラツトフオーム40の
上面40aの上部が大気に開放され真空室10が
高真空の時に存在する高い圧力差の下で副室36
と真空室10との間の気密の維持を保証する。
エレベータ30と真空室10との間の副室36
における気密は、エレベータ・プラツトフオーム
40のリング82が柔軟なダイアフラム88の内
側縁88b上に当る事によつて達成される。Oリ
ング82がダイアフラム88に接触した後、エレ
ベータ30の駆動機構を強制的に停止させる停止
部材に接触する前に、プラツトフオーム40は上
向きに少し行きすぎる。ダイアフラム88の内側
縁88bはダイアフラム・アセンブリ84の基体
86の凹部90の方にたわむ事が可能なので、真
空室10は変型しない。またダイアフラム88
は、エレベータに支持されたOリング82がアセ
ンブリのダイアフラム内側縁88bによつて与え
られる柔軟性の気密封止面に接触する時及びエレ
ベータ30がその上昇した位置で停止する時に衝
撃を軽減するようにも機能する。
エレベータ30及び蓋34に関する操作は、エ
レベータ30の垂直上昇が完了し縁38とダイア
フラム88との間にOリング・シール82によつ
て気密が生じるようになるまでは、即ちエレベー
タ・プラツトフオーム40によつて上部壁12と
の第2の気密封止が形成されるまでは、蓋34が
上昇して真空室10の上部壁12との気密接触が
失なわれる事のないように、制御が行なわれる。
第1B図にエレベータ駆動機構96及びその制
御システムが示されている。機構96は真空室1
0の外部の振動遮断板8の下にある。エレベータ
30は、エレベータ駆動シヤフト98を含む駆動
シヤフト・アセンブリ97によつて垂直に昇降さ
れる円筒形エレベータ・プラツトフオーム40に
よつて主に形成される。駆動シヤフト98の上端
98aはエレベータ・プラツトフオーム40の中
心の円形孔100内に受け入れられる。シヤフト
98の端部98cはねじ山を切られた孔及びそれ
に通されたねじ102を有し、シヤフト98の上
端98aにプラツトフオーム40をロツクするよ
うに機能する。ねじ102は、プラツトフオーム
40の上面の孔及びくり広げ孔の中に受け入れら
れる。エレベータ駆動シヤフト98は下方に伸
び、主室の底部壁14及び振動遮断板8を突き抜
けている。これに関して、米国特許第3968885号
に記載されているように、エレベータはボルト1
06によつてフランジ部分が底部壁14の上面に
固定された円筒形の台104の内側を上昇する。
底部壁14には台104の下向き突出部分104
bよりも少し大きな適当な大きさの直径の孔10
8が設けられる。従つて台104は、エレベータ
駆動シヤフト98の周囲で上方に突出するよう
に、主真空室の底部壁14上に固定され真空室1
0内に置かれる。円筒形金属管110は上端がエ
レベータ・プラツトフオーム40の底に縁38の
内側で溶接され、エレベータ・プラツトフオーム
及び駆動シヤフト98と同軸になつている。管1
10の下端は環状のブロツク112及び環状の板
114が固定されている。管110の内部には従
来技術と同様の金属性ベロー・アセンブリ(図示
せず)が設けられる。ベローは一端が環状の板1
14に固定され、他端が環状隣接板107を介し
て台104の上端に固定されている。ベロー及び
付加的なシールの機能は軸方向に可動な駆動シヤ
フト98を経て真空室から外部へ圧力損失が生じ
るのを防ぐためである。従つて真空室10は、シ
ヤフト98が通る中空の台104とシヤフトとの
間の空間から気密封止される。この構成は本発明
の一部分をなすものではない。プラツトフオーム
40は、下向きに移動するエレベータ30の停止
を緩衝する弾性Oリング109を下面に有する環
状停止部材105を有する。
シヤフト98に対する負荷を吸収し、システム
の必要に応答したエレベータ30の上昇及び下降
を可能にするために、適当な減磨軸受(図示せ
ず)がシヤフト98と台104との間に介挿され
る。
環状ブロツク112の上面には、水平軸の回り
の回転のために1対のローラー118を有するロ
ーラー支持アーム116が取り付けられる。ロー
ラー118は各々垂直な縦の誘導部材120の両
側に接して水平軸の回りに回転するようにアーム
116に取り付けられる。部材120はブラケツ
ト122を経て側壁16に固定される。この構成
はエレベータ30のシヤフト軸の回りの回転を抑
えるがエレベータの昇降に対しては何の拘束も与
えない。エレベータ駆動機構96はアセンブリと
して鋳造金属駆動機構部材124によつて振動遮
断板8の下に取り付けられる。部材124は平ら
な基体即ち板部分124aから上向きに伸びる複
数の垂直な柱126によつて支持される。柱12
6の上端はねじ切りされ、振動遮断板にねじ切り
された孔の中に取ち付けられる。駆動機構部材基
体124aは、駆動シヤフト・アセンブリ97の
一部特に付勢駆動シヤフト99が貫通する、中心
のかなり直径の大きな孔130を有する。シヤフ
ト99は断面が矩形でも良く、クロス・ローラー
軸受スライド(図示せず)上に取り付けられるの
が好ましい。部材124の基体124aから下向
きに、横断面が一般にU字形の垂直脚124bが
突き出している。脚124bは凹部132を有す
るフランジ部分124cで終端する。駆動機構部
材124のフランジ部分124cの底部には、負
荷つり合いシリンダー取付板134が取り付けら
れる。負荷つり合いシリンダー取付板134は、
前記特許文献記載のエレベータ駆動機構の付勢シ
リンダーの場所に負荷つり合いシリンダー136
を取り付けている。シリンダー136は、直径の
小さな部分140で終端する端部キヤツプ138
を上端に有する。端部キヤツプ138の直径の小
さな部分140は、シリンダー136が固定され
た取付板134内の孔142に嵌入する。負荷つ
り合いシリンダー136の一端から上向きにピス
トン・ロツド144が突出する。これはその端部
において、適当にねじ切りされた管状の継手を介
して付勢駆動シヤフト99に接続する。負荷つり
合いシリンダー136の機能はエレベータをその
上昇位置と下降位置との間で駆動する事ではな
い。それは、副室36及び真空室10の内外の圧
力条件に依存して、種々の位置でエレベータの経
験する負荷を純粋につり合わせるためのものであ
る。
エレベータの駆動は、負荷つり合いシリンダー
136の側方の駆動機構部材脚124bに固定さ
れた駆動シヤフト付勢シリンダー148を経て行
なわれる。それは取付けブラケツト150によつ
て上端が部材脚124bに固定される。シリンダ
ー148は上端が直径の小さくなつた部分148
aで終端する。この部分はブラケツト150の横
に突き出た脚150aに嵌入するようにねじ切り
されている。シリンダー148のねじ切り部分
は、駆動シヤフト付勢シリンダー148をブラケ
ツト150にロツクするロツク・ナツト152を
有する。駆動シヤフト付勢シリンダーは、その軸
及びそのピストン・ロツド154の軸が負荷つり
合いシリンダー136のロツド144の軸に平行
になるように支持される。矩形断面駆動シヤフト
部分の側面から外側にオフセツト・カツプリン
グ・ブラケツトが突き出し、その下面に管状の継
手部材158が固定されている。継手部材158
の下端はピストン・ロツド154の上端をねじ式
に受け入れる。従つてピストン・ロツド154の
昇降によつて、付勢駆動シヤフト99が昇降させ
られる。但しクロス・ローラー・ベアリング・ス
ライドによつて垂直以外のいかなる移動も禁じら
れている。付勢駆動シヤフト99の上端99b
は、エレベータ駆動シヤフト98と付勢機構駆動
シヤフト99との間のいかなる角度変位又は直線
変位も補償する継手166を経てエレベータ駆動
シヤフト98に接続される。直径の小さくなつた
シヤフト部分99bは、継手166のねじ切りさ
れた孔166aに通される。また継手166のね
じ切りされた部分166bはエレベータ駆動シヤ
フト98の端部に通される。98bのねじ切りさ
れた部分166bはロツク・ナツト162を有
し、調整可能に固定された軸関係で継手166を
経て付勢駆動シヤフト99をエレベータ駆動シヤ
フト98にロツクする事を可能ならしめる。
付勢駆動シヤフト99の直径の減少した部分9
9bに通された継手166は、シヤフト99のよ
り大きな直径の部分99aに接する。継手166
は駆動シヤフト99にねじロツクされ、それはシ
ヤフト部分99aの直径を少し越える外径を有す
る。従つてそれはカツプ形の上昇運動停止部材1
70の軸運動に関する上方の停止部材として機能
する。停止部材170は、一体的に横方向の基体
170a及び環状の垂直な側壁170bを有し、
中心部に孔172を有する。これはねじ切りされ
たシヤフト部分99aと嵌合するようにねじ切り
され、停止部材170がその上で調製可能にされ
ている。ねじ切りされたシヤフト部分99aは、
エレベータ30の上昇運動を制限する上昇運動停
止部材170をロツクするロツク・ナツト174
を有する。エレベータ30は、カツプ形上昇運動
停止部材170上の弾性リング170cと振動遮
断板8の底との間の接触によつて停止する。
駆動シヤフト付勢シリンダー148の動作によ
るエレベータ30の下降は、接触点107の上部
に接触するエレベータ30に取り付けられた停止
部材105によつて限定される範囲に制限され
る。Oリング109は接触の衝撃を緩衝するため
に停止部材105の中に挿入される。
上昇運動停止部材170は、エレベータの上向
きの移動を制動し上昇運動停止部材170と固定
された振動遮断板8との間の衝撃をかなり低減さ
せるためにエレベータ・プラツトフオーム40の
縁38上のOリング・シール82がダイアフラム
88と接触しダイアフラムを少したわませた後に
カツプ形停止部材の弾性リング170cが振動遮
断板に接する事を保証するように付勢駆動シヤフ
ト99のシヤフト部分99a上の垂直位置を調整
し得る。またリング170cの弾性は減衰機能に
も寄与する。
図示に示されたシリンダーの全てはエア・シリ
ンダーである。実施例の負荷つり合いシリンダー
136は、シリンダー136のピストン・ロツド
144の端部にピストン137が固定されてい
る。負荷つり合いシリンダー136は、ストロー
クの両端において衝撃を消去するためにエア・ク
ツシヨンを用いたピストン137を有する
ALCON型のエア・クツシヨン式エア・シリンダ
ーでも良い。蓋34が上昇している時に副室36
から真空室10へ又は雰囲気から真空室へのプラ
ツトフオームにかかる圧力差に応答してつり合い
シリンダーがエレベータ・プラツトフオームに作
用する力につり合わせるように荷重をかけるよう
に、管路139及び141がピストン137の
各々の側のいずれかに空気圧を加える事を可能に
する。従つて駆動シヤフト98の底部に結合され
たエア・シリンダー136は、シリンダー・ピス
トン137の適当な側に必要な空気圧を加える事
によつて、前に説明した動作条件1及び3の下で
の力につり合いを取るように機能する。
また装置には、ロツキング・スライド付勢アセ
ンブリ182のための可動な停止部材を形成する
駆動シヤフト・ロツキング・バー180が設けら
れている。このアセンブリは駆動シヤフト部分9
8bの軸に直角な開口184によつて駆動機構機
体の脚124bに取り付けられる。開口は円筒形
のケーシング186を有し、その中に適当な寸法
の駆動シヤフト・ロツキング・バー180が摺動
可能に取り付けられる。ケーシング186は駆動
シヤフト部分98bから遠い端部にロツキング・
スライド付勢エア・シリンダー188を取り付け
ている。シリンダー188は内部にピストン19
1を有するピストン・ロツド190を有する。ロ
ツド190はその外部の端部において駆動シヤフ
ト・ロツキング・バー180に結合される。シリ
ンダー188は、ピストンが図面の左側に変位し
た時に駆動シヤフト・ロツキング・バーを突出し
た位置から後退させ駆動シヤフト98の垂直上昇
を可能にするように管路192及び194によつ
て選択的に加圧空気を受け取る。これに関して、
付勢駆動シヤフト99にはその一側面に上側及び
下側のロツキング・ノツチ196及び198が設
けられ、これはエレベータ30が完全に上昇及び
完全に下降した位置にある時に各々駆動シヤフ
ト・ロツキング・バー180の突出端部を選択的
に受け取る。従つて駆動シヤフト・ロツキング・
バー機構182は確実なエレベータ昇降位置の制
御を与える。またそれは前述の動作条件2の下で
エレベータに生じる下向きの力に打ち勝ち主室の
真空度の低下を阻止するための機械的インターロ
ツクを提供するためにも使用し得る。機械的イン
ターロツクは、動作条件2の下でエレベータの上
部に作用する大気圧によつて生じるロツキング・
バーに対して作用する磨擦力以下に、ロツキング
機構シリンダーの付勢力を管路194から供給さ
れる空気圧力によつて維持する事により達成され
る。従つて副室が排気されない限りロツキング・
バーは解離し得ない。
管路194に圧力調整器を設置する事によつ
て、管路194を経てロツキング・スライド付勢
シリンダー188に供給される空気圧力は、(前
述の動作条件2の下で)エレベータ・プラツトフ
オームの上部に作用する大気圧によつてロツキン
グ・バー180に対して作用する磨擦力よりも小
さな力しかピストン191及びロツド190を介
して駆動シヤフト・ロツキング・バー180に加
えることができない。従つて副室36が排気さ
れ、シリンダー188内のピストンを左に動かし
バー180をノツチ198からはずすための適当
な圧力が管路194を経て得られるようになるま
では、ロツキング・バー180はロツキング・ノ
ツチ198から解離し得ない。上記条件が得られ
れば、シヤフト99は駆動シヤフト付勢シリンダ
ー148によつて下向きに駆動され得る。シリン
ダー148には管路200及び202が設けら
れ、それらはロツド154の端部に固定されシリ
ンダー148内にあるピストンの所定の側に加圧
空気を供給することによつて、オフセツト・ブラ
ケツト156の所望の上昇下降運動を生じさせ、
したがつてシヤフト・アセンブリ97及びエレベ
ータを上昇位置又は下降位置に垂直に駆動する。
さらに第2図を参照すると、駆動シヤフト・ア
センブリ97のエレベータ付勢駆動シヤフト99
に作用する、エレベータ30のための圧縮空気制
御システムが図示されている。この制御システム
を用いて、エレベータ付勢機構はエレベータを最
小限度の駆動力(約10Kg)で昇降させる。この軽
い付勢力は、もしシステムが論理あるいはハード
ウエアの故障により誤つた順序で付勢された場合
に、ウエハ・キヤリア又は内の移送機構に対する
損傷を防止する。駆動シヤフト付勢シリンダー1
48、負荷つり合いシリンダー136及びロツキ
ング・スライド付勢シリンダー182のために、
正の空気圧力が上記シリンダー内に保持されたピ
ストンの所定の側に制御された圧力で選択的に供
給され、適当な3方弁及び4方向弁によつてそこ
から排出される。駆動シヤフト付勢シリンダー9
6に関しては、ピストン149の対向する側に開
いた管路200及び202が4方弁204を経て
供給管206及び排出管208に導かれる。矢印
で示すように40psi(約1.4Kg/cm2)の正の空気圧
力が供給管206に供給される。管200及び2
02内には各々空気流量制御弁210及び212
が設置される。
負荷つり合いシリンダー136に関しては、シ
リンダー内のピストン137の上部に開いた管路
139が、3方弁214に導かれ、そして供給管
路216又は排出管路218のいずれかに交互に
接続される。負荷つり合いシリンダーのピストン
137の上側は、矢印に示すように40psiの正の
空気圧が3方弁214を経て選択的に供給される
か、又は大気圧がかけられる。また調整可能圧力
逃し弁220が3方弁214と負荷つり合いシリ
ンダー136との中間の管路139中に設置され
る。
さらに負荷つり合いシリンダー・ビストン13
7の下側に通じる管路141は3方弁222によ
つて供給管路224及び排気管路226に接続さ
れる。矢印に示すように、20psiの空気圧力が3
方弁222の制御の下に供給管路224に供給さ
れる。3方弁222と負荷つり合いシリンダー1
36との中間の管路141には調整可能圧力逃し
弁228が設けられる。
圧力逃し弁220及び228は、室10が真空
条件及び大気圧条件の場合に、各々エレベータの
上昇及び下降中にエレベータに対して負荷として
働く力を一定にする事を保証する機能がある。
ロツキング・スライド付勢シリンダー182に
関しては、各々シリンダーのピストン191の対
向する側に開口する管路194及び192が、4
方弁230によつて供給管路232及び排気管路
234に接続されている。矢印に示すように
20psiの空気圧力が供給管路232に供給される。
管路192及び194内には、速度制御機能を与
えるために、これらの管路がシリンダー182に
接続される点において各々固定されたオリフイス
236,238が設けられている。ピストン19
1の右側に20psiの圧力を供給すると、ピストン
191は左へ移動してロツキング・スライド・バ
ー180をノツチ198又は196から解離させ
る。管路194及び200は通常は閉じた管路で
あり、管路192,202,139及び141は
通常は開いた管路である。
調整可能圧力逃し弁220及び228は、エレ
ベータの移動によりピストン137が変位する時
に所望の空気圧力を維持するために負荷つり合い
シリンダー136に通じる空気管路に設置されて
いる。エレベータの通常の動作期間中(前述の条
件1)、つり合いシリンダー136のピストン1
37の上部に働く正の空気圧力はエレベータ30
が上昇した後、止められる。これは、エレベー
タ・プラツトフオーム40にかかる圧力差により
開口24において、主真空室のダイアフラム88
によつて与えられるダイアフラム気密封止面とエ
レベータのフランジ38の変型可能な弾性Oリン
グとの間の気密封止を自動的に保証する。この構
造は主真空室10と副室36との間を気密にす
る。ロツキング・スライド・バー180は、負荷
つり合いシリンダー136への空気圧力が止まら
なければ、エレベータ付勢駆動シヤフト99と係
合又は解離し得ない。エレベータ30が下降し得
る前に、ロツキング・スライド・バー180はエ
レベータ付勢駆動シヤフト99のノツチ198か
ら解離されなければならず、空気圧力はつり合い
シリンダー136に戻されなければならない。即
ちつり合いシリンダー・ピストン137の上面に
空気圧力が加えられなければならない。この機能
を実現するためのスイツチングは、電子的ハード
ウエア(図示せず)によつて自動的に行なわれ
る。制御システムは主真空室10及び副室36の
内部の圧力に応答する。適当な圧力感知器(図示
せず)を設置して、各エア・シリンダー96,1
36及び182の適正な動作のために自動的制御
システムによつて用いられる信号を発生するよう
にしてもよい。通常の真空ゲージを真空室内に設
置しても良く、真空室10は室内に所望の非常に
低い真空圧力を維持するためにターボモレキユラ
ー真空ポンプ等に接続されている。負荷つり合い
シリンダー136、駆動シヤフト付勢シリンダー
96及びロツキング・スライド付勢シリンダー1
82に加えられる圧力は注意深く制御及び制限す
る必要がある。圧力調整器(図示せず)が供給管
路206,224及び232に設けられている。
さらに駆動シヤフト付勢シリンダー96への加圧
された空気流の流速は、エレベータ付勢駆動シヤ
フト99を含む、種々の素子の移動速度を制御す
るために制御され、従つてエレベータが昇降する
時の加速度を制御する。エレベータはエレベータ
付勢駆動シヤフト99のノツチ196,198及
びロツキング・スライド・バー180によつて選
択的にロツクされる。システムにLED光検出器
(図示せず)の形のエレベータ昇降感知器を用い
てもよい。この感知器は駆動シヤフト・アセンブ
リ97に取り付けられた標識(図示せず)が最大
上昇位置又は最大下降位置において約1.5mm以上
に係合しないように調整される。
ロツキング・スライド付勢シリンダー182に
関して、本発明の図面の実施例の場合にロツキン
グ・スライドを動作させ得る空気圧は20psi(1.4
Kg/cm2)に設定されている。シリンダーのピスト
ン191の所定の側に20psiの空気圧を選択的に
印加する事によつてスライド・バーを係合又は解
離させるのに充分な力が与えられる。固定された
オリフイス236及び238はシリンダーの動作
速度従つてロツキング及びアンロツキングの速度
を制御する。固定された2つのオリフイス値は、
アンロツキング動作に対してより速いロツキング
動作を行なうため又はその逆にするために異なつ
ていてもよい。調整は不必要である。
エレベータ30を上下に駆動するのに必要な空
気圧は40psiである。この空気圧は、ピストン1
37によるつり合いシリンダー動作と一致する滑
らかなエレベータ移動を達成するためにこの設定
値を調整する必要はない。しかしながら管路20
0及び202内の空気流制御弁210及び212
がシリンダー96への空気流の流速を制御し、駆
動シヤフト付勢シリンダー96によつて駆動され
るエレベータ付勢駆動シヤフト99の移動速度を
変化させる。これらの弁はエレベータの速さを制
御するために任意に調節できる。その調整により
さらにエレベータ30の上昇下降に関して必要な
サイクルが与えられる。
負荷つり合いシリンダー136に関して、シリ
ンダーの上端即ちピストン137の上の室は3方
弁214によつて供給管路216から約40psiの
圧力が加えられる。この空気圧は、システムが通
常の動作モードにある時即ち室10が真空で副室
もこの真空圧力の時にエレベータ機構にかかる力
をつり合わせるよう機能する。空気圧が約40psi
であれば、エレベータは下降した位置から上昇し
た位置への及びその逆方向の移動時に滑らかに動
作するであろう。
もしエレベータ30が同じ速さで滑らかに上昇
又は下降しなければ、この事はシリンダー136
へかかる空気圧が増加もしくは減少されるべき事
を示しているのである。もし上昇が緩慢で下降が
急速であれば圧力を減じなければならない。もし
下降が緩慢で上昇が速ければ、シリンダー136
のこの側の圧力を高めるべきである。管路139
に関してシリンダーの出入口付近に位置する圧力
逃し弁220は、供給管路216内の調整器(図
示せず)の圧力設定に整合するように調整されな
ければならない。これは調整可能圧力逃し弁22
0の出口の設定ねじを調整する事によつて行なう
事ができる。この調整は2つの設定ねじの1つを
調整する事によつて行なわれる。第1のねじはロ
ツクねじであり、第2のねじはばねと係合し逃し
圧力を制御するねじである。機能を制御するため
に圧力調整器を設定した後、圧力逃し弁はちよう
ど大気への漏れを停止させる点に調整されるべき
である。適当な圧力が決定されると、基準のため
に圧力ゲージ(図示せず)のレンズの上にマーク
をつけてもよい。
つり合いシリンダーの上述の動作は前述の動作
条件1に対応する。
主室と副室が高真空の場合、エレベータ30の
底に作用する大気圧によつて駆動機構に対して約
63Kgの上向きの力が生じる。
エレベータ30が上昇位置にあつて、主真空室
10が高真空状態、副室が大気圧の時、エレベー
タの底及び上部に作用する大気圧並びに機構の重
量は約450Kgの下向きの力を駆動機構に作用させ
る。この力はエレベータ付勢駆動シヤフト99の
ノツチ198及びロツキング・スライド・バー1
80によつて支えられる。
全システムに大気圧がかかる第3の動作条件の
下では、そして真空室に関して保守作業が行なわ
れる場合には、エレベータ部品の重量が約23Kgの
下向きの力を駆動機構に与えるが、これは負荷つ
り合いシリンダー136のピストン137の底に
正の空気圧を与える事によつて補償されなければ
ならない。それには20psi(約1.4Kg/cm2)の圧力
を3方弁222を作動させて供給管路224から
管路141を経てシリンダー136に供給すれば
良い。シリンダーの底に約20psiの圧力が加わる
と、エレベータ30は滑らかに昇降し得る。しか
しながらもしエレベータが急速に上昇し緩やかに
下降するならば、シリンダー136内のピストン
137のこの側の圧力は減らされなければならな
い。これは調整可能圧力逃し弁228及び管路の
調整器(図示せず)を調整する事によつて行なわ
れる。もしエレベータが緩やかに上昇し急速に下
降するならば、ピストン137のこの面の圧力を
高めなければならない。つり合いシリンダー13
6の真空側を調整する時に以前用いた手続は、管
路139の圧力逃し弁220に対応する圧力逃し
弁228を調整するのにも応用できる。
要約すると、エレベータ30は圧縮空気駆動シ
ヤフト付勢シリンダー96によつて昇降され、速
度調整のために流量制御が用いられる。調整は、
管路200及び202内の空気流制御弁210を
経てシリンダーに至る空気流入力を絞る事によつ
て行なわれる。さらに電力又は空気圧が失なわれ
た時にエレベータが移動するのを阻止するために
推移可能なスライド・バーがエレベータ付勢駆動
シヤフト99に係合する。エレベータ制御機能を
得るために空気流は、上下運動を制御する4方弁
204、スライド・バーの係合及び解離を制御す
る4方弁230、及びつり合いシリンダーへの空
気流を制御する2つの3方弁214,222を構
成するソレノイド弁によつて、選択的に供給及び
抑圧される。シリンダー・ピストン137の反対
側には異なつた空気圧が必要である。室10が真
空状態の場合エレベータ30の昇降時にシステム
に働く力をつり合わせるためにピストン137の
上側に普通40psiの圧力が必要である。一方エレ
ベータ機構が大気圧の下にありエレベータ30を
上昇又は下降させる必要のある時はピストン13
7の下面に20psiの圧力が必要である。
負荷つり合いシリンダー136は、エレベータ
の上昇時及び下降時の両方においてエレベータに
関して事実上ゼロ質量の条件を作り出すように機
能する。この事はエレベータが軽い付勢力で動く
事を可能にし、急速な運動、初期の急速な加速及
び運動の終期における急速な減速を上昇及び下降
時に所定の方向において行なう事を可能にし、さ
らに任意の点における衝突時にシステム、特に電
子ビーム鏡筒への衝撃及び振動の伝達を最小限に
する。本発明はこの基本的な進歩を修飾する付加
的な態様を有する。
より具体的に言えば、それはエレベータ・プラ
ツトフオーム40が所定の位置を少し行きすぎる
ように駆動され得る事である。これはOリング・
シール82が弾性ダイアフラム88と接触する時
少し変型しながら、ダイアフラムを上向きにたわ
ませ得るからであり、従つてプラツトフオーム4
0と真空室の壁に支持されたダイアフラム88と
の間の完全性の高い真空気密が保証される。これ
は弾性Oリング82と柔軟なダイアフラム88と
の間に作用する最小の動的力での初期の接触及び
最小の静的力でのその後の接触において達成さ
れ、例えOリング82あるいは柔軟な弾性金属ダ
イアフラム88に少しの歪みが生じたとしても完
全性の高い気密を保ちながら電子ビーム発生器へ
の衝撃及び振動の伝達を減少させる。エレベー
タ・アセンブリは各方向のストロークの終点にお
いてエレベータの運動が終了する時の衝撃及び起
り得る室の変形をさらに減少させるために上昇及
び下降の停止部材の両者に弾性緩衝材を有する。
駆動シヤフト付勢シリンダー96へ通じる管路中
に空気流制御弁210及び212を設ける事は、
駆動シヤフト付勢シリンダー96によるエレベー
タ駆動アセンブリの運動に迅速且つ精密な制御を
保証する。負荷つり合いシリンダー136に通じ
る管路中の調整可能圧力逃し弁220及び22
8、並びに2つの異なつた圧力レベルを供給する
ための圧力調整器の使用は、駆動シヤフト付勢シ
リンダー96によつて駆動される負荷つり合いシ
リンダー・ピストン137の移動中に一定の負荷
つり合い力を維持する。さらに本発明の実施例で
は真空室10を真空条件から正の圧力条件に変化
させ、またエレベータ機構を実効ゼロ質量駆動す
るためにそのような圧力条件の下で負荷つり合い
シリンダーに所定の圧力を印加するのに手動的に
切り換えしか必要でないが、本発明は真空室1
0、副室36又は大気それ自身の圧力条件を連続
的に監視するために圧力感知器が用いられ、エレ
ベータ駆動機構の自動制御のために蓋34が上昇
されるような自動化システムにも完全に適用でき
る。さらにエア・クツシヨン型の空気シリンダー
58及び136を用いる事によつて、システムに
衝撃を与える事なく各ストロークの終りにピスト
ンの減速が制御される。シリンダー58及び13
6はアルコン社製の調整可能ポペツト・クツシヨ
ン付きALCONシリーズKエア・シリンダーでも
良い。
【図面の簡単な説明】
第1A図及び第1B図は電子ビーム描画装置の
ための、本発明の実施例の改良されたエレベータ
駆動機構の各々上部及び下部の縦断面図である。
第2図は第1A図及び第1B図のエレベータ駆動
機構のための制御システムの概略図である。 10……主真空室、12……真空室上部壁、2
4……開口、30……エレベータ、34……副室
蓋、36……副室、40……エレベータ・プラツ
トフオーム、58……副室蓋付勢シリンダー、6
2……衝撃吸収機構、88……ダイアフラム、9
6……駆動シヤフト付勢シリンダー、97……エ
レベータ駆動アセンブリ、136……負荷つり合
いシリンダー、180……ロツキング・バー。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 真空室と、 上記真空室内に設けられたビーム描画領域の側
    方にあつて、作業片を支持するエレベータ・プラ
    ツトフオーム及び上記エレベータ・プラツトフオ
    ームを上記真空室内で変位させるために上記真空
    室に取り付けられ且つ上記プラツトフオームに固
    定されたエレベータ駆動シヤフト・アセンブリを
    含むエレベータ機構と、 上記エレベータ駆動シヤフト・アセンブリ及び
    それに支持された上記プラツトフオームを、第1
    の上昇した位置と第2の下降した位置との間で垂
    直に上昇及び下降させるために、上記エレベータ
    駆動シヤフト・アセンブリに結合された付勢装置
    とを含む、上記作業片に電子ビーム描画するため
    の電子ビーム描画システムにおいて、 上記エレベータ機構に対して動作中に作用する
    種々の負荷力につり合せるために、上記エレベー
    タ駆動シヤフト・アセンブリに接続された負荷力
    つり合い装置を設けたことを特徴とする電子ビー
    ム描画システム。 2 少なくとも上記エレベータ・プラツトフオー
    ムが上記上昇した位置にあつて上記真空室を外部
    に対して閉ざしている時に、上記エレベータ駆動
    シヤフト・アセンブリと係合可能な機械的インタ
    ーロツク装置を含む特許請求の範囲第1項記載の
    電子ビーム描画システム。 3 上記負荷力つり合い装置が、上記真空室の下
    で上記エレベータ駆動シヤフト・アセンブリと同
    軸に固定して取り付けられた負荷つり合いシリン
    ダーと、上記エレベータ駆動シヤフト・アセンブ
    リに固定的に結合され上記負荷つり合いシリンダ
    ー内で摺動可能なピストンと、加圧空気供給装置
    と、条件に応じて上記負荷つり合いシリンダーの
    ピストンの所定の側に所定の空気圧を選択的に供
    給するための装置とより成る特許請求の範囲第1
    項又は第2項記載の電子ビーム描画システム。
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4592926A (en) * 1984-05-21 1986-06-03 Machine Technology, Inc. Processing apparatus and method
DE3788973T2 (de) * 1986-04-04 1994-08-11 Materials Research Corp Verfahren und Vorrichtung zur Handhabung und Behandlung von scheibenartigen Materialien.
KR100303075B1 (ko) 1992-11-06 2001-11-30 조셉 제이. 스위니 집적회로 웨이퍼 이송 방법 및 장치
US5397214A (en) * 1993-06-11 1995-03-14 Cheung; Yau T. Apparatus for handling thin, flexible sheets of material
US5540821A (en) * 1993-07-16 1996-07-30 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for adjustment of spacing between wafer and PVD target during semiconductor processing
US5863170A (en) * 1996-04-16 1999-01-26 Gasonics International Modular process system
US5855465A (en) * 1996-04-16 1999-01-05 Gasonics International Semiconductor wafer processing carousel
US5992239A (en) * 1998-09-10 1999-11-30 Boehringer Laboratories, Inc. Gauge
ATE222209T1 (de) * 1998-11-04 2002-08-15 At Anlagetechnik Ag Vorrichtung zum uebertragen fliessfähigen materials
CA2476109A1 (en) * 2003-08-01 2005-02-01 Columbia Trailer Co., Inc. Dba Columbia Corporation Method and apparatus for handling pipe and other materials
US8033245B2 (en) * 2004-02-12 2011-10-11 Applied Materials, Inc. Substrate support bushing
CN100587104C (zh) * 2004-03-26 2010-02-03 日新电机株式会社 硅膜形成装置
US7731778B2 (en) * 2006-03-27 2010-06-08 Magnesium Technologies Corporation Scrap bale for steel making process
WO2008068845A1 (ja) * 2006-12-05 2008-06-12 Shimadzu Corporation パレット搬送装置、および基板検査装置
CN104619124B (zh) * 2015-01-22 2018-03-09 咸阳威迪机电科技有限公司 一种适应各种脆性材料线路板的真空压合机
CN108896595B (zh) * 2018-06-15 2020-11-17 昆明理工大学 一种保护探头的扫描电镜试样台
DE102018009871A1 (de) * 2018-12-19 2020-06-25 Vat Holding Ag Stifthubvorrichtung mit Zustandsüberwachung
US20230072156A1 (en) * 2021-09-02 2023-03-09 Wonik Ips Co., Ltd. Substrate processing apparatus
JP2023115438A (ja) * 2022-02-08 2023-08-21 株式会社ディスコ 洗浄装置
CN114807906B (zh) * 2022-06-27 2022-09-16 江苏邑文微电子科技有限公司 一种原子层沉积设备

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1136140A (en) * 1914-09-09 1915-04-20 Standard Plunger Elevator Company Hydraulic elevator.
US3968885A (en) * 1973-06-29 1976-07-13 International Business Machines Corporation Method and apparatus for handling workpieces
DE2529018A1 (de) 1975-06-28 1977-01-13 Ibm Deutschland Einrichtung zur automatischen einzelfoerderung von werkstuecken in eine unter unterdruck stehende bearbeitungsstation
JPS5548598A (en) * 1978-09-29 1980-04-07 Fujitsu Fanuc Ltd Load reducing device of industrial robot

Also Published As

Publication number Publication date
DE3169064D1 (en) 1985-03-28
JPS57114233A (en) 1982-07-16
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EP0054624B1 (en) 1985-02-20
US4382739A (en) 1983-05-10

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