JPH03220722A - ワークの乾燥方法及び装置 - Google Patents

ワークの乾燥方法及び装置

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JPH03220722A
JPH03220722A JP1591590A JP1591590A JPH03220722A JP H03220722 A JPH03220722 A JP H03220722A JP 1591590 A JP1591590 A JP 1591590A JP 1591590 A JP1591590 A JP 1591590A JP H03220722 A JPH03220722 A JP H03220722A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、洗浄等により濡れた状態にあるワークを乾燥
するための乾燥方法及び装置に関するものである。
[従来の技術] 従来、特開昭64−53549号公報に開示されている
ように、洗浄等により濡れたワークを所定温度の温純水
中に浸漬させて加熱した後、ゆっくり引き上けることに
より、該ワークを自己の熱で乾燥させるようにした温純
水乾燥法は公知である。このような温純水乾燥法は、有
機溶剤を使用しないために環境汚染の問題かなく、且つ
設備や管理も簡単であるため、各種ワークの乾燥に最適
なものとして注目を集めている。
ところが、上記温純水乾燥法においては、ワークを温純
水から引き上げた際に該ワークの一部に水か溜っている
と、その部分の乾燥か遅れて乾燥終了まて時間かかかる
ばかってなく、部分的な乾燥遅れによりシくか残ること
かあり、そのため、水か溜り易い形状のワーク、例えば
、幅の広い上向き面や袋孔、四部等を備えたワークを乾
燥する場合に問題かあった。特に、温純水から引き上げ
たワークは、乾燥により気化熱を奪われるため徐々に冷
却し、その冷却と共に乾燥しにくくなるため、一部に水
滴が付着したり水か溜っている場合には、それをてきる
たけ速やかに蒸発させないとその部分にシくか残る確率
が高くなる。
ワークに温風を吹き付けることによって乾燥させる方法
もあるか、このような温風乾燥法ては、温風の吹き付は
方向によって乾燥むらを生したり、水滴が温風に吹き飛
ばされて既に乾燥した面を移動しながら蒸発、乾燥する
ため、シくの発生か避けられず、精密な乾燥を行うこと
かてきない。しかも、ワークの形状によっては水滴の付
着部分か温風に対して死角となり、乾燥に時間かかかる
という欠点もある。
更に、真空乾燥法も知られているか、かかる真空乾燥に
おいては、ワークに付着した水滴あるいは溜った水を蒸
発させるのに必要な熱エネルキーをワーク自身から得な
ければならないため、洗浄等により低温化したワークを
そのまま真空乾燥すると、ワークの温度が更に低下して
凍結したり、乾燥に長時間を要する等の問題かある。ワ
ークを真空乾燥装置内で補助的に加熱することもてきる
が、大掛かりな加熱装置か必要になるはかりてなく、該
加熱装置からワークへ効率良く且つ均等に熱を伝達する
ことか困難であるため所定の温度に加熱するまで時間か
かかり、例えば洗浄から乾燥まてな一連の工程て行うよ
うな場合に、乾燥工程に費やすことかできる限られた時
間(5分程度)内に必要な熱エネルギーを十分ワークに
与えて乾燥な短時間て終了させることは殆ど不可能に近
い。
し発明が解決しようとする課題j 本発明の課題は、ワークをその形状に拘らず確実且つ迅
速に乾燥させることのてきる乾燥方法及び装置を提供す
ることにある。
[課題を解決するための手段] 上記課題を解決するため、本発明の乾燥方法は、濡れた
ワークを温純水に浸漬して加熱したあと取り出すことに
より温純水乾燥した後、熱量を保有している間に真空槽
に収容し、該真空槽内において真空乾燥することを特徴
とするものである。
また、本発明の装置は、濡れたワークを浸漬する温純水
な充填するための温純水槽と、ワークを真空乾燥するた
めの真空槽とを備え、これらの温純水槽と真空槽との間
に温+11ff水槽から引き上げたワークを真空層へ搬
送するための搬送機構を設けたことを特徴とするもので
ある。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照しなから詳細に説明
する。
第1図に示す乾燥装置は、前段の洗浄機構等から濡れた
状態て送られてくるワーク4を温純水に浸漬して乾燥す
る温純水乾燥部1と、温純水乾燥したワーク4を真空乾
燥する真空乾燥部2と、上記温純水乾燥部1から真空乾
燥部2にワーク4を搬送する搬送機構3とを有している
。
上記温純水乾燥部】は、不純物を取り除かれて所定の温
度に加熱された温純水11を充填するための温純水槽1
0を備えており、該温純水槽10は、その底部に電熱や
スチーム等を熱源とする加熱器13を介して純水源12
か接続され、該純水fi12からの純水か加熱器I3に
より所定温度に加熱されて底部から供給されるようにな
っている。なお、上記加熱器13を温純水槽10の内底
部に設け、該槽10内て純水を加熱するようにしても良
い。また、上記温純水槽10の内部には泡取器14を設
置し、この泡取器14て、温純水の供給時又は槽内に設
けた加熱器で純水を力I熱する時に発生する気泡を集め
、排出管14aを通じて外部に排出するように構成して
おくことか望ましく、これにより、気泡か温純水11の
水面を波立たせて温純水乾燥に悪影響を及ぼすのを防止
することかできる。
上記温純水槽IOの周囲には、該温純水槽10からオー
バーフローした温純水を回収する回収溝15か形成され
、該回収溝15て回収した温純水を回収管16を通して
外部に排出するようになっている。
この場合、上記回収管16に耐熱性のフィルタ17を設
け、温純水中の不純物を該フィルタ17で除去したあと
該温純水を上記加熱器13又は純水源12に供給し、循
環的に再使用するように構成しても良い また、上記温純水槽10の上部には、隔壁21で囲まれ
た乾燥室20か形成されている。該乾燥室20は、温純
水11から引き上げたワーク4の乾燥を促進するための
もので、排気口22に接続された排気管23によりミス
トキャッチ24を介して排気ファン25に接続され、該
排気ファン25で水面及びワーク4の表面から蒸発する
水蒸気を吸引、排出することにより、該水蒸気かワーク
4に接触して該ワーク4を濡らすのを防止するようにな
っており、この際、水蒸気をはg水平方向に吸引してよ
り効果的な接触防止を図るため、該乾燥室20の内部に
は、水平方向の空気流を発生させる複数の仕切板26が
角度調整自在に設けられている。なお、上記くストキャ
ッチ24で捕集された純水は、排水管27を通じて上記
回収管16により排出され。
一方、上記真空乾燥部2には、蓋体31により開閉目在
で、内部にワーク4を載置するための載置台32とワー
ク4の乾燥を補助する槽内ヒータ33とを備えた真空槽
30か設けられている。該真空槽30は、吸引管35に
よりバルブ36及びコールドトラップ37を介して真空
ポンプ38に接続されると共に、ヒーター39及びエア
フィルタ40を備えた外気導入用の導気管41にバルブ
42を介して接続されており、これらの吸引管35と導
気管41とは連結管43によりバルブ44を介して相互
に連結されている。また、真空槽30の底部にはワーク
4から流下した水を排出するための排水管45が接続さ
れ、該排水管45と上記コールドトラップ37とか連結
管46により接続されている。該コールドトラップ37
は、空気中に含まれる水蒸気を分離して該水蒸気か空気
と共に真空ポンプ38に吸い込まれるのを防止するため
と、真空ポンプ38の潤滑用に使用されているオイルの
くストか吸引管35を介して真空槽3oに逆流してワー
ク4を汚染する現象を防ぐためのものであるか、必要に
応じて設置すれば良い。
なお、上記槽内ヒータ33は、赤外線ランプやパネルヒ
ータ等のような適宜の加熱源によって構成することかで
きる。
更に、ワーク4を搬送する上記搬送機構3は、ワーク4
を入れた籠50を吊持する搬送アーム51を有し、該搬
送アーム51をガイド52に沿って移動自在に配設する
と共に、その移動をボールネジやタイミングベルト、シ
リンダ等の駆動手段によって行うように構成したもので
、該搬送アーム51は、上記籠50を吊り下げるフック
53と、該フック53を昇降させるボールネジ55及び
モータ56からなる駆動手段54と、該フック53の昇
降を案内する一対のガイド57とで構成されている。な
お、上記フック53の駆動手段54は、タイミンクベル
トやシリンダ等によって構成することもてきる。
上記構成を有する乾燥装置は、例えば洗浄機構の後段に
配設され、洗浄により濡れた状態て送られてくるワーク
4を乾燥するもので、次のように作用する。
即ち、籠50に入れられたワーク4か搬送アーム51に
吊持されて温純水乾燥部1における温純水槽lOの上部
に運ばれて来ると、フック53か下降し、該ワーク4は
温純水11中に侵漬される。
このとき、該温純水乾燥部1においては、所定の温度に
加熱された温純水11か温純水槽10内に所定量づつ連
続的に供給され、オーバーフローした温純水は回収溝1
5に流れ込み、回収管16を通して排出されており、ま
た、乾燥室20内の空気は排気ファン25により吸引さ
れ、水面から蒸発した水蒸気がこの空気流と共にはg水
平方向に排出されている。
上記ワーク4か温純水11に一定時間浸漬されて加熱さ
れると、フック53がゆっくりと上昇し、該ワーク4は
液面か彼女たない程度のゆっくりとした速度で温純水か
ら引き出される。これにより該ワーク4は、自己の熱で
温純水より引き出された部分から順次乾燥し、温純水乾
燥か行われる。また、上記乾燥室20内においては、水
面から蒸発した水蒸気が排気ファン25によりはX水平
方向に排出され、ワーク4と接触しないようになってい
るため、乾燥したワーク4の表面か水蒸気によって再度
濡れることかなく、従って、再湿潤による乾燥むらやシ
くの発生がない。
1 上記温純水11の適温は、ワーク4の種類やフィルタ1
7その他の付帯設備の耐熱性等によっても相違するか、
それらの熱変性を生じない範囲内ててきるたけ高い温度
にしておくことか望ましく、例えばワーク4がガラスや
アルミニウム等である場合には、約80°C程度が好適
である。勿論これ以下の温度てあっても良い。また、ワ
ーク4の温純水11への浸漬時間や温純水11から引き
上げる際の引上速度等についても、温純水11の温度や
ワーク4の種類等によって異なるか、例えば、温純水の
温度を80°Cとした場合、ワーク4か計器のカバー等
に使用されるフラットな板状カラスである場合には、浸
漬時間は約30〜60秒、引上速度は8〜12+n+n
/sec程度か好適てあり、ワーク4かアルくニウム製
のタイキャスト品である場合には、浸漬時間は約30〜
60秒、引上速度は5〜8 mm/sec程度で良い。
なお、ワーク4を温純水から完全に引上げた後は、爾後
の作業を迅速化するため該ワーク4を 2 上記引上速度より早い速度で上昇させるようにしても良
い。
上記温純水乾燥か終了すると、熱かそれほど冷めないう
ちにワーク4は搬送アーム51により直ちに真空乾燥部
2に送られる。搬送アーム51が蓋体31の解放した真
空槽30の上部に移動して来ると、フック53の下降に
よりワーク4は籠50に入れられたまま真空槽30内の
載置台32上に載置され、該籠50がフック53から外
される。そして、籠50を解放したフック53は上昇し
、蓋体31か閉じられる。このとき、ワーク4の幅の広
い上向き面や袋孔、凹部等に付着していた水滴か流下し
て真空槽30の底部に溜っている場合には、それか排水
管45により排出される。
続いて、導気管41のハルツ42が閉しると共に吸引管
35のハルツ35か開口し、真空ポンプ38によって真
空槽30内の空気か排出され、該真空槽30か所定の真
空度に達したところてハルツ42か適量開口し、ヒータ
ー39て加熱されたカロ熱エアか導気管4工を通して適
量づつ流入している状態で該真空槽30が所定の真空度
(例えば4.5torr程度)に保持され、その状態で
ワーク4の真空乾燥か行われる。
このとき、必要に応して槽内ヒータ33によりワーク4
が補助的に加熱される。
上記真空乾燥により、ワーク4の上向き面や袋孔、四部
等に付着して上記温純水乾燥では完全に除去され得なか
った水分か直ちに蒸発、排除され、ワーク4は速やかに
乾燥する。従って、温純水乾燥した後に水滴か長時間残
留することによるシミの発生かない。しかも、温風乾燥
する場合のように水滴が熱風に吹き飛ばされて乾燥した
ワーク4表面を移動することかないため、これによるシ
ミの発生もない。また、加熱エアの供給と槽内ヒータ3
3による加熱とによって真空乾燥に伴うワーク4の温度
低下が防止されるため、ワーク4の凍結か防止されて乾
燥効率が向上する。但し、ワーク4を温純水乾燥した後
十分に熱量を保有している状態て真空乾燥するようにす
れば、必ずしもこのような加熱エアの供給と槽内ヒータ
33による加熱とを行う必要はなく、その何れか一万或
は両方を省略することもてきる。
上記真空乾燥に要する時間は、ワーク4の種類にもよる
か、通常は約30〜50秒程度て十分である。
かくして真空乾燥か終了すると、真空槽30内は大気圧
に戻され、蓋体31か開放されてワーク4は搬送アーム
51により籠50と共に取り出され、次の工程に送られ
る。
[発明の効果J このように本発明によれば、ワークを温純水乾燥と真空
乾燥とを併用して乾燥するようにしたのて、水切れの良
い単純形状のワークは勿論のこと、水滴か付着したり水
か溜り易い特殊形状のワーク、例えば幅の広い上向き面
や袋孔、凹部等 5 を備えたワーつてあっても、それらの水滴や水を確実に
且つ速やかに蒸発させ、乾燥むらや乾燥遅れ等によるシ
よを生しることなくそれを乾燥することかてきる。
また、ワークを温純水乾燥した後未た十分に熱量を保有
している状態で真空乾燥するようにしたので、真空乾燥
に当って該ワークを特別に予熱する必要がなく、従って
、ワークを直接真空乾燥する場合のような予熱に必要な
大掛かりな設備や時間等を縮小又は省略することができ
るという利点かある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る乾燥装置の一実施例を示す構成国
である。 3・・搬送機構、    4・・ワーク、10・・温純
水槽、   11・・温純水30・・真空槽。  6

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  1、濡れたワークを温純水に浸漬して加熱したあと取
    り出すことにより温純水乾燥した後、熱量を保有してい
    る間に真空槽に収容し、該真空槽内において真空乾燥す
    ることを特徴とするワークの乾燥方法。  2、濡れたワークを浸漬する温純水を充填するための
    温純水槽と、ワークを真空乾燥するための真空槽とを備
    え、これらの温純水槽と真空槽との間に温順水槽から引
    き上げたワークを真空層へ搬送するための搬送機構を設
    けたことを特徴とするワークの乾燥装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5520744A (en) * 1993-05-17 1996-05-28 Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Device for rinsing and drying substrate
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