JPH0322218A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH0322218A JPH0322218A JP15740889A JP15740889A JPH0322218A JP H0322218 A JPH0322218 A JP H0322218A JP 15740889 A JP15740889 A JP 15740889A JP 15740889 A JP15740889 A JP 15740889A JP H0322218 A JPH0322218 A JP H0322218A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分９｝］
この発明は、例えば、磁気ディスク装置に使用されるｆ
ａ ２ディスクの製造方法に関するものである。
ａ ２ディスクの製造方法に関するものである。
［従来の技術］
近年コンビ；Ｌ一タシスデムにおける磁気ディスク装置
などの外部記憶装同の重責性が増大し，高記＃Ｊ密度に
対する要求がますます高まっている．磁気ディスク装置
は記録再生ヘッドおよび磁気ディスクの主構成部から構
成されている．ｉｌ％ディスクは高進で回転し、記録再
生ヘッド、即ちＩＩａ気ヘッドは磁気ディスクより微小
間隔で浮上している．ｆ１１１気ディスクの高記録密度
化、及び高性能化を図るためには、磁気記録媒体の薄層
化、均一一−一様化、保磁力や角形比の向Ｌなどの磁気
特性の改良、磁気ベッドの低＋． ｔ−．化などが挙げ
られる．これまで、＆Ｉ１′ｘＸディスクは塗布形とい
い、バインダーなどの高分子材科とγ一Ｆａｘ（Ｌ＋磁
気記録媒体粒子を混合して塗布して製作していた．しか
しこの方法では、磁気記録媒体の薄層化、均一一一様化
に限界がある。このため最近では、磁気記録媒体をスパ
ッタリングなどの方法により連続薄膜として基材に設け
るようになってきた。
などの外部記憶装同の重責性が増大し，高記＃Ｊ密度に
対する要求がますます高まっている．磁気ディスク装置
は記録再生ヘッドおよび磁気ディスクの主構成部から構
成されている．ｉｌ％ディスクは高進で回転し、記録再
生ヘッド、即ちＩＩａ気ヘッドは磁気ディスクより微小
間隔で浮上している．ｆ１１１気ディスクの高記録密度
化、及び高性能化を図るためには、磁気記録媒体の薄層
化、均一一−一様化、保磁力や角形比の向Ｌなどの磁気
特性の改良、磁気ベッドの低＋． ｔ−．化などが挙げ
られる．これまで、＆Ｉ１′ｘＸディスクは塗布形とい
い、バインダーなどの高分子材科とγ一Ｆａｘ（Ｌ＋磁
気記録媒体粒子を混合して塗布して製作していた．しか
しこの方法では、磁気記録媒体の薄層化、均一一一様化
に限界がある。このため最近では、磁気記録媒体をスパ
ッタリングなどの方法により連続薄膜として基材に設け
るようになってきた。
現在、磁気ディスク装置では、起動および停ＩＦ時に磁
気ディスクと磁気ヘットが接触するコンタクト・スター
ト・ストップ（ＣＳＳ）ｈ゛式を採用しており、起動お
よび停止時には＆Ｂ気ヘッドと磁気ディスク表面が接触
したまま回転する．この接触摩擦状態における磁気ヘッ
ドと磁気ディスクの間に生じる摩擦力は、磁気ヘッドと
磁気ディスク表面を摩耗させ、ついには磁気ヘッドおよ
び磁気記録媒体層に傷を作ることがある．磁気記録媒体
に連Ｖｔ薄膜を用いた場合、わずかな傷であっても記録
媒体の欠如となり、記Ｂ（８号の消失につながる．この
ことは、磁気ディスク装置の外部記憶装置としての信頼
性に関わる重大な問題である．そこで、磁気ヘッドと磁
気記録媒体との接触摩擦および接触破壊から磁気記録媒
体を保護するために、磁気ディスクの表面に、Ｓｉｎ．
膜、カーボン膜、ＡｌｔＯｓｌＢｊのような保護膜を設
けることが提案されている．例えば、第８回日本応用磁
気学会学術講演概要集（ １９８４年目月）、第２２２
頁、「磁気ディスク用カーボン保護膜」 （田子窄男他
）：昭和６１年度電子通信学会総合全国大会予稿集（１
９８６年）、第１−１６６頁、「磁気ディスク用酸化物
保護膜の検討」 （本町良弘他）：日本潤滑学会第３０
期春期研究発表会予稿集（ １９８６年）、第１４１頁
（刈本博保他）などに記載されている．また、磁気記録
媒体が金属の場合、この保護膜は金属膜の腐食を防ぐ保
護も兼ねる役目がある． ［９．明が解決しようとする課題］ 以上のような従来の磁気ディスクの製造方法により設け
られた保護膜は媒体膜土に数百八の膜厚をｆ■する。一
方、磁気ヘッドの低浮し化においては現在浮Ｅ間隔は２
０００人程度にまで小さくなってきており、これにより
再生出力のｆ氏下を防ぎ、高記録密度を達成している．
ところが媒体膜−Ｌに保護膜を設けると、その存在だけ
で数百人のスベーシングロスを生じることになり、磁気
ヘッドと媒体の間隔は実質的に浮−ト距離以上のものに
なってしまうという問題点があった。すなわち保護膜な
媒体層上に設けることにより、媒体と磁気ヘッドの実効
的な間隔が広がってしまい、再生出力が低下するという
問題点があった． この発明は上記のような問題点を解決するためのなされ
たもので媒体膜の保護を確実に行うことができ、磁気ヘ
ッドと媒体膜の実効的な間隔を広げることのない信頼性
の高い磁気ディスクを製造できる磁気ディスクの製造方
法を得ることを目的とする． ［ａ＊Ｍを解決するための千段〕 この発明に係る磁気ディスクの製造方法は、基Ｈに合金
又は金属による磁気記録媒体層を設ける工程，磁気記録
媒体層が設けられた基材をｌｏｏ〜３００℃の大気中又
は酸素中で熱処理を行って磁気記Ｍ＆Ｍ体層の表面に酸
化膜層を設ける１程、およびこの酸化ＨＭに潤滑膜を設
ける工程を施したちのである． ［作川〕 この発明に係る磁気ディスクＱ）製造方法では、熱処理
によって媒体表面にごく薄い酸化膜層ができる．この酸
化膜層は金属又は合金による磁気記録媒体層の保護膜と
して作用し、従来の保ａｉ膜に比べて磁気ヘッドと媒体
層とのスペーシングロスを生じることがないので、再生
出力の低下などの欠点がなくなり、信頼性が向上する． ［実施例］ 以下、この発明の一実施例を図について説明する．第１
図はこの発明の一実施例による磁気ディスクの製造方法
で製逍した磁気ディスクを示す断面図である．図におい
て、（０は基材で、例えば＾１−Ｍｇ合金基材、（２）
は磁気記録媒体層（３）のＦ地層、（３）は磁気記録媒
体層、（４）は表面酸化膜層、（５）は潤滑膜である， ＡＩ−Ｍｇ合金基Ｈの表面にＮｉ−Ｐメッキ膜を成膜し
鏡面加工した基ｔイに対して、テープ研磨機を用い、ラ
ッピングテーブＷ Ａ ＃ ６［１００、押し圧ＩＫｇ
、基板回転数２００ｒｐｌｌ，デープ送り速度２０麟一
／ｗｉｎの条件でテクスチャ加工を行った．この加工に
よりＲ園ａｘ ５００入程度の基材＋１）が得られる。
気ディスクと磁気ヘットが接触するコンタクト・スター
ト・ストップ（ＣＳＳ）ｈ゛式を採用しており、起動お
よび停止時には＆Ｂ気ヘッドと磁気ディスク表面が接触
したまま回転する．この接触摩擦状態における磁気ヘッ
ドと磁気ディスクの間に生じる摩擦力は、磁気ヘッドと
磁気ディスク表面を摩耗させ、ついには磁気ヘッドおよ
び磁気記録媒体層に傷を作ることがある．磁気記録媒体
に連Ｖｔ薄膜を用いた場合、わずかな傷であっても記録
媒体の欠如となり、記Ｂ（８号の消失につながる．この
ことは、磁気ディスク装置の外部記憶装置としての信頼
性に関わる重大な問題である．そこで、磁気ヘッドと磁
気記録媒体との接触摩擦および接触破壊から磁気記録媒
体を保護するために、磁気ディスクの表面に、Ｓｉｎ．
膜、カーボン膜、ＡｌｔＯｓｌＢｊのような保護膜を設
けることが提案されている．例えば、第８回日本応用磁
気学会学術講演概要集（ １９８４年目月）、第２２２
頁、「磁気ディスク用カーボン保護膜」 （田子窄男他
）：昭和６１年度電子通信学会総合全国大会予稿集（１
９８６年）、第１−１６６頁、「磁気ディスク用酸化物
保護膜の検討」 （本町良弘他）：日本潤滑学会第３０
期春期研究発表会予稿集（ １９８６年）、第１４１頁
（刈本博保他）などに記載されている．また、磁気記録
媒体が金属の場合、この保護膜は金属膜の腐食を防ぐ保
護も兼ねる役目がある． ［９．明が解決しようとする課題］ 以上のような従来の磁気ディスクの製造方法により設け
られた保護膜は媒体膜土に数百八の膜厚をｆ■する。一
方、磁気ヘッドの低浮し化においては現在浮Ｅ間隔は２
０００人程度にまで小さくなってきており、これにより
再生出力のｆ氏下を防ぎ、高記録密度を達成している．
ところが媒体膜−Ｌに保護膜を設けると、その存在だけ
で数百人のスベーシングロスを生じることになり、磁気
ヘッドと媒体の間隔は実質的に浮−ト距離以上のものに
なってしまうという問題点があった。すなわち保護膜な
媒体層上に設けることにより、媒体と磁気ヘッドの実効
的な間隔が広がってしまい、再生出力が低下するという
問題点があった． この発明は上記のような問題点を解決するためのなされ
たもので媒体膜の保護を確実に行うことができ、磁気ヘ
ッドと媒体膜の実効的な間隔を広げることのない信頼性
の高い磁気ディスクを製造できる磁気ディスクの製造方
法を得ることを目的とする． ［ａ＊Ｍを解決するための千段〕 この発明に係る磁気ディスクの製造方法は、基Ｈに合金
又は金属による磁気記録媒体層を設ける工程，磁気記録
媒体層が設けられた基材をｌｏｏ〜３００℃の大気中又
は酸素中で熱処理を行って磁気記Ｍ＆Ｍ体層の表面に酸
化膜層を設ける１程、およびこの酸化ＨＭに潤滑膜を設
ける工程を施したちのである． ［作川〕 この発明に係る磁気ディスクＱ）製造方法では、熱処理
によって媒体表面にごく薄い酸化膜層ができる．この酸
化膜層は金属又は合金による磁気記録媒体層の保護膜と
して作用し、従来の保ａｉ膜に比べて磁気ヘッドと媒体
層とのスペーシングロスを生じることがないので、再生
出力の低下などの欠点がなくなり、信頼性が向上する． ［実施例］ 以下、この発明の一実施例を図について説明する．第１
図はこの発明の一実施例による磁気ディスクの製造方法
で製逍した磁気ディスクを示す断面図である．図におい
て、（０は基材で、例えば＾１−Ｍｇ合金基材、（２）
は磁気記録媒体層（３）のＦ地層、（３）は磁気記録媒
体層、（４）は表面酸化膜層、（５）は潤滑膜である， ＡＩ−Ｍｇ合金基Ｈの表面にＮｉ−Ｐメッキ膜を成膜し
鏡面加工した基ｔイに対して、テープ研磨機を用い、ラ
ッピングテーブＷ Ａ ＃ ６［１００、押し圧ＩＫｇ
、基板回転数２００ｒｐｌｌ，デープ送り速度２０麟一
／ｗｉｎの条件でテクスチャ加工を行った．この加工に
よりＲ園ａｘ ５００入程度の基材＋１）が得られる。
実施例ｌ
上述の基材（１）土に下地層（２）としてＣ「を既知の
方法に従いスパッタリングにより成膜した．次に磁気記
録媒体層（３）として、例えばＣｏ−Ｎｉを既知の方法
に従いスパッタリングにより成膜した．成膜後，２００
℃に設定したクリーンオーブン中に１時間保管した。乾
燥空気の流量は５０リットル／分であった．この熱処理
により、Ｍ化ｖ４層（４》が形成される。熱処理を終ｒ
後、液体潤滑Ｍ（商品名、Ｋ Ｒ ＹＴＯ Ｘ １ ５
７ Ｆ Ｓ／Ｍ ： テュポン社’５Ｊ）の２％溶液
（溶媒：フロン１１３）を潤滑削としてスビンコートし
、酸化ＦＡ層（４）の１二に潤滑膜（５） を形成した
。スパッタリングによる磁気デｆスクの製造方法は，目
本電子情報通信′？会磁〉ｔ記録研究会、ＭＨＩＩＩＳ
−２ ，第９頁〜第ｌ６頁「スパッタリング金属Ｆ＃膜
ディスクの媒体ノイズ」に記載されている． 実施例２ Ｌ述の基材（！）七に下地層（２）としでＣｒを既知の
方法に従いスパッタリングにより成膜した．次に磁気記
録媒体層（３）として．例えばＣｏ−Ｎｉを既知の方法
に従いスパッタリングにより成膜した。
方法に従いスパッタリングにより成膜した．次に磁気記
録媒体層（３）として、例えばＣｏ−Ｎｉを既知の方法
に従いスパッタリングにより成膜した．成膜後，２００
℃に設定したクリーンオーブン中に１時間保管した。乾
燥空気の流量は５０リットル／分であった．この熱処理
により、Ｍ化ｖ４層（４》が形成される。熱処理を終ｒ
後、液体潤滑Ｍ（商品名、Ｋ Ｒ ＹＴＯ Ｘ １ ５
７ Ｆ Ｓ／Ｍ ： テュポン社’５Ｊ）の２％溶液
（溶媒：フロン１１３）を潤滑削としてスビンコートし
、酸化ＦＡ層（４）の１二に潤滑膜（５） を形成した
。スパッタリングによる磁気デｆスクの製造方法は，目
本電子情報通信′？会磁〉ｔ記録研究会、ＭＨＩＩＩＳ
−２ ，第９頁〜第ｌ６頁「スパッタリング金属Ｆ＃膜
ディスクの媒体ノイズ」に記載されている． 実施例２ Ｌ述の基材（！）七に下地層（２）としでＣｒを既知の
方法に従いスパッタリングにより成膜した．次に磁気記
録媒体層（３）として．例えばＣｏ−Ｎｉを既知の方法
に従いスパッタリングにより成膜した。
成膜後，２００℃に設定したクリーンオーブン中に３０
分保管した．酸素空気の流Ｑは２０リットル／分であっ
た。この熱処理により、酸化膜＠（４）が形成される。
分保管した．酸素空気の流Ｑは２０リットル／分であっ
た。この熱処理により、酸化膜＠（４）が形成される。
熱処理終了後、この＆ａ気ディスク−１にシランカップ
リング剤（商品名、Ｋ Ｂ Ｍ ８ ０ ：３ ：信越
化学製、アミノシラン系）の５％溶液（溶媒：ＩＰＡ）
をスビンコートし５その後、液体潤滑削（ Ｋ Ｒ Ｙ
Ｔ Ｏ Ｘ ｌ ５ ７ Ｆ Ｓ ／ Ｍ ） （７
） ２％溶液（溶媒：フロン１１３）を潤滑膜｛５｝と
してスビンコートした． 比較例１ 実施例と同様の基材（１）上に下地Ｃｒｌ崎（２）、磁
気記録媒体Ｊｔｆ（３１ としてＧｏ−Ｎｉをスパッタ
リングにより成膜した．この磁気記録媒体層（３）の−
しに保護膜としてＣｒとカーボンを既知のｌｊ法に従い
スパッタリングにより成膜した．この保護膜はＦ地Ｃｒ
層（２）を含めて６００人であった。この比較例では、
酸化膜層（４）と潤滑剤（５）のかわりに、Ｃｒとカー
ボンによる保護膜を形成している．比較例２ 磁気Ｊ己録媒体層（３） としてＣｏ−Ｎｉを用いた。
リング剤（商品名、Ｋ Ｂ Ｍ ８ ０ ：３ ：信越
化学製、アミノシラン系）の５％溶液（溶媒：ＩＰＡ）
をスビンコートし５その後、液体潤滑削（ Ｋ Ｒ Ｙ
Ｔ Ｏ Ｘ ｌ ５ ７ Ｆ Ｓ ／ Ｍ ） （７
） ２％溶液（溶媒：フロン１１３）を潤滑膜｛５｝と
してスビンコートした． 比較例１ 実施例と同様の基材（１）上に下地Ｃｒｌ崎（２）、磁
気記録媒体Ｊｔｆ（３１ としてＧｏ−Ｎｉをスパッタ
リングにより成膜した．この磁気記録媒体層（３）の−
しに保護膜としてＣｒとカーボンを既知のｌｊ法に従い
スパッタリングにより成膜した．この保護膜はＦ地Ｃｒ
層（２）を含めて６００人であった。この比較例では、
酸化膜層（４）と潤滑剤（５）のかわりに、Ｃｒとカー
ボンによる保護膜を形成している．比較例２ 磁気Ｊ己録媒体層（３） としてＣｏ−Ｎｉを用いた。
液体潤滑Ｍ（商品名、Ｋ Ｒ Ｙ ＴＯ Ｘ ｌ ５７
Ｆ Ｓ ／ Ｍ：デュポン社製）の２％溶液（溶媒：
フロン１１３）をスビンコートした。この比較例は、酸
化膜ＩｆＡ（４）を形成せず、潤滑膜（５）を形成した
ものである． 実施例１．２、比較例１．２の谷方法で製逍した磁気デ
ィスクの再生出力を調べた．表ｌは比較例２の再生出力
を１とした規格化出力をに示すちのである。
Ｆ Ｓ ／ Ｍ：デュポン社製）の２％溶液（溶媒：
フロン１１３）をスビンコートした。この比較例は、酸
化膜ＩｆＡ（４）を形成せず、潤滑膜（５）を形成した
ものである． 実施例１．２、比較例１．２の谷方法で製逍した磁気デ
ィスクの再生出力を調べた．表ｌは比較例２の再生出力
を１とした規格化出力をに示すちのである。
表！
この粘果から明らかなように、実施例による磁気ディス
ク及び保護膜を設けた比較例ｌの場合にはエラー数に変
化がなく、磁気記録媒体の腐食などの変質などが防よで
きている。一ｈ゛、保護膜を設けていない比較例２の場
合にはエラー数が非常に増大しており、６ｉ１気記録媒
体層（３）の腐食の発生に伴う磁気特性の劣化、媒体の
欠如が生じたと考えられる。
ク及び保護膜を設けた比較例ｌの場合にはエラー数に変
化がなく、磁気記録媒体の腐食などの変質などが防よで
きている。一ｈ゛、保護膜を設けていない比較例２の場
合にはエラー数が非常に増大しており、６ｉ１気記録媒
体層（３）の腐食の発生に伴う磁気特性の劣化、媒体の
欠如が生じたと考えられる。
表２
以Ｌの結果から明らかなように、比較例ｌの磁気記録媒
体一ヒに保護膜を設けている場合には、再生出力の低下
が認められる。
体一ヒに保護膜を設けている場合には、再生出力の低下
が認められる。
実施例１．２、比較例１．２による磁気ディスクを温度
６０℃、湿度９０％Ｒ．Ｈ．のｔｌ′ｉ温ｔＦｉ湿槽中
に２０目間放置し、誠験前後のエラーの数をサーテイフ
ァイアにより調べた結果を表２に示した．磁気ディスク
の耐久性試験であるＣＳＳ試験を行ったが、実施例１．
２及び比較例ｌによる磁気ディスクの場合、ＣＳＳ２１
１０ロロ万回後においても磁気記録媒体上に偶発生が認
められず、エラーの増加や、再生出力の減少などの現象
ち認められなかった．なお、比較例２の場合にはすぐに
傷が発生し、ＣＳＳ試験を行うことができなかった。
６０℃、湿度９０％Ｒ．Ｈ．のｔｌ′ｉ温ｔＦｉ湿槽中
に２０目間放置し、誠験前後のエラーの数をサーテイフ
ァイアにより調べた結果を表２に示した．磁気ディスク
の耐久性試験であるＣＳＳ試験を行ったが、実施例１．
２及び比較例ｌによる磁気ディスクの場合、ＣＳＳ２１
１０ロロ万回後においても磁気記録媒体上に偶発生が認
められず、エラーの増加や、再生出力の減少などの現象
ち認められなかった．なお、比較例２の場合にはすぐに
傷が発生し、ＣＳＳ試験を行うことができなかった。
また、実施例１．２による＆！ｌ気ディスクのＣＳＳ
２００００回終Ｙ後の潤滑Ｍ膜厚をＦＴ−ＩＨによって
測定した．試験開始前に比べて実施例ｉは８８％、実施
例２は９４％であった．中間層としてカップリング剤を
塗布すると、磁気ディスク同転に対する潤滑剤の保持に
効果があったと考えられる（この効果にー）いては星訃
光利ら、昭和６１年度電子通信学会総合全国大会講演集
（ １９８６年） ． Ｉ−１６７頁、「化学結合形磁
気ディスク表面潤滑層」にも記載されている）．シかし
、実用的には実施例ｌによるディスクであっても差し支
えないことは結果より明白である． なお、］一記実施例では熱処理温度が２００℃の場合に
ついて説明したが、１００℃以４二でｆ分熱処理の効果
は得られる．３００℃以−Ｌでは下地のＮｉ−Ｐが磁性
体化してしまうので奸ましくない。すなわち、１００〜
３００℃の範囲であれば熱処理の効果は得られる。生産
性などの観点から、１５０〜２８０ ”Ｃの範囲が好ま
しく、特に約１５０’Ｃで３時間程度の熱処理が適当で
ある。
２００００回終Ｙ後の潤滑Ｍ膜厚をＦＴ−ＩＨによって
測定した．試験開始前に比べて実施例ｉは８８％、実施
例２は９４％であった．中間層としてカップリング剤を
塗布すると、磁気ディスク同転に対する潤滑剤の保持に
効果があったと考えられる（この効果にー）いては星訃
光利ら、昭和６１年度電子通信学会総合全国大会講演集
（ １９８６年） ． Ｉ−１６７頁、「化学結合形磁
気ディスク表面潤滑層」にも記載されている）．シかし
、実用的には実施例ｌによるディスクであっても差し支
えないことは結果より明白である． なお、］一記実施例では熱処理温度が２００℃の場合に
ついて説明したが、１００℃以４二でｆ分熱処理の効果
は得られる．３００℃以−Ｌでは下地のＮｉ−Ｐが磁性
体化してしまうので奸ましくない。すなわち、１００〜
３００℃の範囲であれば熱処理の効果は得られる。生産
性などの観点から、１５０〜２８０ ”Ｃの範囲が好ま
しく、特に約１５０’Ｃで３時間程度の熱処理が適当で
ある。
また、１一記実施例では磁気記録媒体がＣｏ−Ｎｉの場
合について説明したが、他のＣｏ−Ｎｉ−Ｐ ， Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｃｒなどの合金薄膜媒体、「ｅなどの金属薄
膜媒体であってもよく上記実施例と同様の効果を奏する
。
合について説明したが、他のＣｏ−Ｎｉ−Ｐ ， Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｃｒなどの合金薄膜媒体、「ｅなどの金属薄
膜媒体であってもよく上記実施例と同様の効果を奏する
。
また、」二記実施例では液体潤滑剤の場合について説明
したが、他の固体潤滑剤であってもよくＥ記実施例と同
様の効果を奏する． また、−４二記実施例ではＮｉ−Ｐメッキ膜の場合につ
いて説明したが、他のＮｉ−Ｃｕ−Ｐメッキ膜、アルマ
イト膜なとであってもよく上記実施例とｒ＝＋ 様の効
果を奏する。
したが、他の固体潤滑剤であってもよくＥ記実施例と同
様の効果を奏する． また、−４二記実施例ではＮｉ−Ｐメッキ膜の場合につ
いて説明したが、他のＮｉ−Ｃｕ−Ｐメッキ膜、アルマ
イト膜なとであってもよく上記実施例とｒ＝＋ 様の効
果を奏する。
［発明の効果］
以上のように、この発明によれば、基Ｈに合金又は金属
による磁気記録媒体層を設ける工程、磁気記録媒体層が
設けられた基材を１ｏロ〜３００”Ｃ （７）大気中又
は酸素中で熱処理を行って磁気記録媒体層の表面に酸化
膜層を設ける工程、及びこの酸化膜層に潤滑膜を設ける
１程を施すことにより、磁気記録媒体を保護し，磁気デ
ィスクと磁気へットスライダ間の間隔を小さくでき、再
生出カの低下を防ぐことができ、さらに］一分に耐食性
及び信頼性の高い磁気ディスクを製造する方法が得られ
る効果がある。
による磁気記録媒体層を設ける工程、磁気記録媒体層が
設けられた基材を１ｏロ〜３００”Ｃ （７）大気中又
は酸素中で熱処理を行って磁気記録媒体層の表面に酸化
膜層を設ける工程、及びこの酸化膜層に潤滑膜を設ける
１程を施すことにより、磁気記録媒体を保護し，磁気デ
ィスクと磁気へットスライダ間の間隔を小さくでき、再
生出カの低下を防ぐことができ、さらに］一分に耐食性
及び信頼性の高い磁気ディスクを製造する方法が得られ
る効果がある。
第１図はこの発明の一大施例による磁気ディスクの製造
方法によって製造された磁気ディスクを示す断面図であ
る． （１）・・・合金雇材、（２）・・・磁気記録媒体下地
層、（３）・・・磁気記録媒体層、（４） ・・・酸
化膜屑、（５）・・・潤滑膜． 第１図
方法によって製造された磁気ディスクを示す断面図であ
る． （１）・・・合金雇材、（２）・・・磁気記録媒体下地
層、（３）・・・磁気記録媒体層、（４） ・・・酸
化膜屑、（５）・・・潤滑膜． 第１図
Claims (1)
- 基材に合金又は金属による磁気記録媒体層を設ける工程
、上記磁気記録媒体層が設けられた上記基材を１００〜
３００℃の大気中又は酸素中で熱処理を行って上記磁気
記録媒体層の表面に酸化膜層を設ける工程、及びこの酸
化膜層に潤滑膜を設ける工程を施したことを特徴とする
磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15740889A JPH0322218A (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | 磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15740889A JPH0322218A (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0322218A true JPH0322218A (ja) | 1991-01-30 |
Family
ID=15648979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15740889A Pending JPH0322218A (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0322218A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9186428B2 (en) | 2009-03-12 | 2015-11-17 | Dow Global Technologies, Llc | Sterilization and decontamination of an enclosed environment |
| KR20210147249A (ko) | 2020-05-28 | 2021-12-07 | 현대제철 주식회사 | 클라우스 공정의 테일가스 처리 장치 및 방법 |
-
1989
- 1989-06-19 JP JP15740889A patent/JPH0322218A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9186428B2 (en) | 2009-03-12 | 2015-11-17 | Dow Global Technologies, Llc | Sterilization and decontamination of an enclosed environment |
| KR20210147249A (ko) | 2020-05-28 | 2021-12-07 | 현대제철 주식회사 | 클라우스 공정의 테일가스 처리 장치 및 방법 |
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