JPH0322528U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0322528U JPH0322528U JP8415989U JP8415989U JPH0322528U JP H0322528 U JPH0322528 U JP H0322528U JP 8415989 U JP8415989 U JP 8415989U JP 8415989 U JP8415989 U JP 8415989U JP H0322528 U JPH0322528 U JP H0322528U
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- JP
- Japan
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- collection electrode
- vacuum chamber
- vacuum
- dust collection
- device equipped
- Prior art date
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- Pending
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- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 7
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は、本考案の実施例を説明する静電塵埃
吸着機付き真空装置の概略図、第２図は、従来の
ドライエツチング装置の概略図である。 １……ドライエツチング装置（真空装置）、２
……予備室（真空槽）、３……ゲートバルブ、４
……処理室（真空槽）、５……静電塵埃吸着器、
６……集塵用電極、７……高電圧発生器、８……
上部電極、９……下部電極、１０……高周波電源
、５０……被加工物。
吸着機付き真空装置の概略図、第２図は、従来の
ドライエツチング装置の概略図である。 １……ドライエツチング装置（真空装置）、２
……予備室（真空槽）、３……ゲートバルブ、４
……処理室（真空槽）、５……静電塵埃吸着器、
６……集塵用電極、７……高電圧発生器、８……
上部電極、９……下部電極、１０……高周波電源
、５０……被加工物。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 排気ポンプを有する真空槽を備えた真空装置で
あつて、 前記真空槽内に設けた集塵用電極と、 この集塵用電極を接続した高電圧発生器とによ
つて構成した静電塵埃吸着器を設けたことを特徴
とする静電塵埃吸着器付き真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8415989U JPH0322528U (ja) | 1989-07-18 | 1989-07-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8415989U JPH0322528U (ja) | 1989-07-18 | 1989-07-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0322528U true JPH0322528U (ja) | 1991-03-08 |
Family
ID=31632412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8415989U Pending JPH0322528U (ja) | 1989-07-18 | 1989-07-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0322528U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08325733A (ja) * | 1995-05-26 | 1996-12-10 | Tel Varian Ltd | 真空処理方法および真空処理装置 |
| JP2002151495A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-24 | Sharp Corp | プラズマ処理装置およびそれを用いて作製した半導体装置 |
| JP2018116984A (ja) * | 2017-01-16 | 2018-07-26 | 株式会社アルバック | 仕切弁装置 |
-
1989
- 1989-07-18 JP JP8415989U patent/JPH0322528U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08325733A (ja) * | 1995-05-26 | 1996-12-10 | Tel Varian Ltd | 真空処理方法および真空処理装置 |
| JP2002151495A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-24 | Sharp Corp | プラズマ処理装置およびそれを用いて作製した半導体装置 |
| JP2018116984A (ja) * | 2017-01-16 | 2018-07-26 | 株式会社アルバック | 仕切弁装置 |