JPS6186461U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6186461U JPS6186461U JP17161384U JP17161384U JPS6186461U JP S6186461 U JPS6186461 U JP S6186461U JP 17161384 U JP17161384 U JP 17161384U JP 17161384 U JP17161384 U JP 17161384U JP S6186461 U JPS6186461 U JP S6186461U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dry etching
- etching device
- electrode
- high frequency
- frequency power
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Weting (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例であるドライエツチ
ング装置の概略構成を模式化して示す構成図、第
２図は従来のドライエツチング装置の概略構成を
模式化して示した構成図である。 ２１…エツチング室本体、２２…上部電極、２
３…下部電極表面、２４…下部電極本体、２５…
高周波電源、２６…真空排気口、２７…ガス導入
パイプ、２８…上部電極アース、２９…被加工基
板。
ング装置の概略構成を模式化して示す構成図、第
２図は従来のドライエツチング装置の概略構成を
模式化して示した構成図である。 ２１…エツチング室本体、２２…上部電極、２
３…下部電極表面、２４…下部電極本体、２５…
高周波電源、２６…真空排気口、２７…ガス導入
パイプ、２８…上部電極アース、２９…被加工基
板。
Claims (1)
- 真空槽とその中に電極及び基板ホルダが装備さ
れ、これらに付属する真空排気系、ガス導入系お
よび高周波電源部を有するドライエツチング装置
において、電極表面の材質をバツチ交換し得るよ
うに構成したことを特徴とするドライエツチング
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17161384U JPS6186461U (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17161384U JPS6186461U (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6186461U true JPS6186461U (ja) | 1986-06-06 |
Family
ID=30729289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17161384U Pending JPS6186461U (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6186461U (ja) |
-
1984
- 1984-11-14 JP JP17161384U patent/JPS6186461U/ja active Pending