JPH03225622A - 垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH03225622A JPH03225622A JP2086790A JP2086790A JPH03225622A JP H03225622 A JPH03225622 A JP H03225622A JP 2086790 A JP2086790 A JP 2086790A JP 2086790 A JP2086790 A JP 2086790A JP H03225622 A JPH03225622 A JP H03225622A
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- JP
- Japan
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- layer
- thickness
- sputtering
- magnetic recording
- perpendicular magnetic
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ０発明の目的
〔産業上の利用分野〕
本発明はスチルビデオ用フロッピーディスク等に用いら
れる垂直磁気記録媒体の製造方法に関する。
れる垂直磁気記録媒体の製造方法に関する。
近年、磁気記録の高密度化の要求に伴い磁性層が磁性材
料のみによって形成された、いわゆる連続磁性薄膜磁気
記録媒体（以下連続媒体と称す）の研究が盛んに行われ
ている。
料のみによって形成された、いわゆる連続磁性薄膜磁気
記録媒体（以下連続媒体と称す）の研究が盛んに行われ
ている。
真空蒸着法、スパッタ法、あるいはメツキ法によって作
製される連続媒体は、磁性層が連続した磁性薄膜である
ため長手記録は勿論のこと、垂直磁気記録に於て特に磁
気記録密度の飛躍的向上が期待されており、画像或いは
ＯＡ用の各種磁気テープ、或いは磁気ディスク等様々な
製品形態への応用開発が進められている。
製される連続媒体は、磁性層が連続した磁性薄膜である
ため長手記録は勿論のこと、垂直磁気記録に於て特に磁
気記録密度の飛躍的向上が期待されており、画像或いは
ＯＡ用の各種磁気テープ、或いは磁気ディスク等様々な
製品形態への応用開発が進められている。
一方、最近のフロッピーディスクの小型化の要求ととも
に、磁気記録技術の向上によって、テレビ信号の１画面
分を表示するのに要する時間にあたる、１７６０秒の周
期で回転させながら静止画の映像信号を記録する、いわ
ゆる２インチスチルビデオ用フロッピーディスク（以下
Ｓｖ用ＦＤと称す）が登場している。この２インチＳｖ
用ＦＤに記録される映像信号は、原理的にはＶＴＲに使
用されているものと同じであり、低周波数領域に色信号
を、高周波領域に輝度信号を記録している。しかしなが
ら、静止画であるＳＶは、動きのあるＶＴＲに比べ高い
画質が要求されるため、記録する周波数帯域をＶＴＲよ
りも広く設定し、水平解像度を標準のベータＶＴＲの２
４０本に対して標準Ｓｖは３５７本となっている。更に
ベータＶＴＲ，ＳＶともに高画質化の要求は高く、記録
周波数の帯域を広くしたハイバンド化が進められ、エキ
ステンデッド°デイフイニションベータＶＴＲ（以下Ｅ
ＤベータＶＴＲ）と、ハイバンドＳｖが商品化されてい
る。しかしながら、ＥＤベータＶＴＲの水平解像度は５
６０本であるのに対し、ハイバンドＳｖは５２０本とほ
ぼ同程度の解像度が要求される。
に、磁気記録技術の向上によって、テレビ信号の１画面
分を表示するのに要する時間にあたる、１７６０秒の周
期で回転させながら静止画の映像信号を記録する、いわ
ゆる２インチスチルビデオ用フロッピーディスク（以下
Ｓｖ用ＦＤと称す）が登場している。この２インチＳｖ
用ＦＤに記録される映像信号は、原理的にはＶＴＲに使
用されているものと同じであり、低周波数領域に色信号
を、高周波領域に輝度信号を記録している。しかしなが
ら、静止画であるＳＶは、動きのあるＶＴＲに比べ高い
画質が要求されるため、記録する周波数帯域をＶＴＲよ
りも広く設定し、水平解像度を標準のベータＶＴＲの２
４０本に対して標準Ｓｖは３５７本となっている。更に
ベータＶＴＲ，ＳＶともに高画質化の要求は高く、記録
周波数の帯域を広くしたハイバンド化が進められ、エキ
ステンデッド°デイフイニションベータＶＴＲ（以下Ｅ
ＤベータＶＴＲ）と、ハイバンドＳｖが商品化されてい
る。しかしながら、ＥＤベータＶＴＲの水平解像度は５
６０本であるのに対し、ハイバンドＳｖは５２０本とほ
ぼ同程度の解像度が要求される。
従って、更に飛躍的な画質の向上を図るため、高密度磁
気記録が期待され、特に２インチＳＶ用ＦＤのスパッタ
リング法により作製された垂直磁気記録媒体の採用が検
討されている。ここで高画質Ｓｖシステムを垂直磁気記
録媒体で行う場合に於て、従来の標準Ｓｖシステム及び
ハイバンドＳｖシステムに対して解像度の低いシステム
との互換性（以下下位互換性と称す）をとることを考え
た場合、デジタル記録などの大幅な記録方式の変更を行
わず、色信号及び輝度信号の記録帯域のみ更に広くした
高画質化の方法が考えられる。
気記録が期待され、特に２インチＳＶ用ＦＤのスパッタ
リング法により作製された垂直磁気記録媒体の採用が検
討されている。ここで高画質Ｓｖシステムを垂直磁気記
録媒体で行う場合に於て、従来の標準Ｓｖシステム及び
ハイバンドＳｖシステムに対して解像度の低いシステム
との互換性（以下下位互換性と称す）をとることを考え
た場合、デジタル記録などの大幅な記録方式の変更を行
わず、色信号及び輝度信号の記録帯域のみ更に広くした
高画質化の方法が考えられる。
ところが、垂直磁気記録媒体の記録特性は非常に高い記
録密度まで記録再生ができる反面、低記録密度の時の再
生出力が低いため、従来のＳｖ用映像信号をそのまま記
録再生した場合、色信号のＣ／Ｈの値が足りず、下位互
換性がとれないという欠点があった。この点に対し、本
発明者はかねてより垂直磁気記録媒体に於ける低周波数
領域での再生出力を向上させる手段として、ＣｏＣｒ層
の磁気記録層のみで形成される垂直記録層が形成される
初期の、まだ十分に垂直配向ができていない、いわゆる
初期配向層のはたらきを検討してきた。この初期配向層
は、第１図に示すように垂直磁気記録媒体の静磁気特性
を振動型磁気特性測定装置であるＶＳＭなどで測定し、
垂直磁気記録の場合に磁化困難方向である膜面に平行な
方向（面内方向）について磁気ヒステリシス曲線を測定
した時、初期配向層は磁気ヒステリシス曲線原点付近の
初期磁化曲線領域に生ずる磁化の跳躍部分Ａをいうが、
従来数多く作製されたＣｏＣｒ層のみから成る垂直磁気
記録媒体のうち、再生出力の大きなものがごくまれに含
まれており、その媒体の面内方向の磁気ヒステリシス曲
線を検討したところ、再生出力の大きな垂直磁気記録媒
体に於ては、第２図に示すように初期配向層の長手磁化
方向の成分を多く含む層、即ち初期配向層４の厚い垂直
磁気記録媒体であることが分かった。これは従来の製造
方法で作られたＣｏＣｒ垂直磁気記録媒体の初期配向層
の厚さが約５０オングストロームであるのに対し、再生
出力の大きい垂直磁気記録媒体については初期配向層の
厚さは２００〜５００オングストロームであった。この
再生出力の増加のメカニズムについてはまだ十分に解明
されていないが以下のように考えられる。
録密度まで記録再生ができる反面、低記録密度の時の再
生出力が低いため、従来のＳｖ用映像信号をそのまま記
録再生した場合、色信号のＣ／Ｈの値が足りず、下位互
換性がとれないという欠点があった。この点に対し、本
発明者はかねてより垂直磁気記録媒体に於ける低周波数
領域での再生出力を向上させる手段として、ＣｏＣｒ層
の磁気記録層のみで形成される垂直記録層が形成される
初期の、まだ十分に垂直配向ができていない、いわゆる
初期配向層のはたらきを検討してきた。この初期配向層
は、第１図に示すように垂直磁気記録媒体の静磁気特性
を振動型磁気特性測定装置であるＶＳＭなどで測定し、
垂直磁気記録の場合に磁化困難方向である膜面に平行な
方向（面内方向）について磁気ヒステリシス曲線を測定
した時、初期配向層は磁気ヒステリシス曲線原点付近の
初期磁化曲線領域に生ずる磁化の跳躍部分Ａをいうが、
従来数多く作製されたＣｏＣｒ層のみから成る垂直磁気
記録媒体のうち、再生出力の大きなものがごくまれに含
まれており、その媒体の面内方向の磁気ヒステリシス曲
線を検討したところ、再生出力の大きな垂直磁気記録媒
体に於ては、第２図に示すように初期配向層の長手磁化
方向の成分を多く含む層、即ち初期配向層４の厚い垂直
磁気記録媒体であることが分かった。これは従来の製造
方法で作られたＣｏＣｒ垂直磁気記録媒体の初期配向層
の厚さが約５０オングストロームであるのに対し、再生
出力の大きい垂直磁気記録媒体については初期配向層の
厚さは２００〜５００オングストロームであった。この
再生出力の増加のメカニズムについてはまだ十分に解明
されていないが以下のように考えられる。
第２図に示すように記録及び再生時に磁性層と磁気ヘッ
ド６との間に流れる磁力線７は、垂直磁気記録層３の中
ではベースフィルム５に対しほぼ垂直に流れ、初期配向
層４で水平方向に流れる。
ド６との間に流れる磁力線７は、垂直磁気記録層３の中
ではベースフィルム５に対しほぼ垂直に流れ、初期配向
層４で水平方向に流れる。
この時、初期配向層はベースフィルム方向の面内方向の
磁化を持つことにより、長手記録の記録再生を行うとと
もに磁力ＮＡ７のリターンパスとなり、再生出力を増大
させる。
磁化を持つことにより、長手記録の記録再生を行うとと
もに磁力ＮＡ７のリターンパスとなり、再生出力を増大
させる。
この初期配向層の厚さについてベースフィルムの磁気記
録層を形成する前のベースフィルムからのガス出し条件
、及びベースフィルムの表面状態などの変化によって変
化することはわかっているが、主に初期配向層の厚さを
薄くする方向で検討されており、そのなかでゲルマニウ
ム、チタンなどの下地層を設けて垂直磁気記録層を形成
し易くするものが主流であった。
録層を形成する前のベースフィルムからのガス出し条件
、及びベースフィルムの表面状態などの変化によって変
化することはわかっているが、主に初期配向層の厚さを
薄くする方向で検討されており、そのなかでゲルマニウ
ム、チタンなどの下地層を設けて垂直磁気記録層を形成
し易くするものが主流であった。
従って、意図的に初期配向層を厚くし、その厚みを再現
性よく制御する方法は確立されていなかった。
性よく制御する方法は確立されていなかった。
本発明はかかる現状に鑑みてなされたものであり、その
目的とするところは、垂直磁気記録の際の再生出力を高
めるため、ベースフィルム上の初期配向層を厚くして、
垂直磁気記録の際の記録密度を向上すると共に、再生出
力を増大した垂直磁気記録媒体を得るため、初期配向層
の厚みを制御する垂直磁気記録媒体の製造方法を提供す
ることにある。
目的とするところは、垂直磁気記録の際の再生出力を高
めるため、ベースフィルム上の初期配向層を厚くして、
垂直磁気記録の際の記録密度を向上すると共に、再生出
力を増大した垂直磁気記録媒体を得るため、初期配向層
の厚みを制御する垂直磁気記録媒体の製造方法を提供す
ることにある。
口０発明の構成
〔課題を解決するための手段〕
本発明は以上の課題を解決するために、ベースフィルム
上に垂直磁気記録層の容易磁化方向と直角方向に容易磁
化方向を持つ初期配向層の形成時のスパッタ時のアルゴ
ンガス圧力を制御した製造方法を提供するもので、本発
明により初期配向層の厚さを再現性良く制御した垂直磁
気記録媒体が得られる。
上に垂直磁気記録層の容易磁化方向と直角方向に容易磁
化方向を持つ初期配向層の形成時のスパッタ時のアルゴ
ンガス圧力を制御した製造方法を提供するもので、本発
明により初期配向層の厚さを再現性良く制御した垂直磁
気記録媒体が得られる。
即ち本発明は、スパッタリング法により高分子のベース
フィルム上にＣｏＣｒ膜を形成する際に、スパッタ時の
アルゴンガス圧力を７Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ以上の高い圧
力でＣｏＣｒ第１層を形成し、更にその上に１×１０−
３Ｔｏｒｒ以下の低い圧力でＣｏＣｒ第２層を形成する
ことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法である。
フィルム上にＣｏＣｒ膜を形成する際に、スパッタ時の
アルゴンガス圧力を７Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ以上の高い圧
力でＣｏＣｒ第１層を形成し、更にその上に１×１０−
３Ｔｏｒｒ以下の低い圧力でＣｏＣｒ第２層を形成する
ことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法である。
スパッタ圧力を変化させつつＣｒが１８．５重量％を含
むＣｏＣｒ膜を形成し、様々な膜厚に於けるベースフィ
ルム面内方向についての磁気ヒステリシス曲線の第１図
に示す初期磁化曲線領域の跳躍の幅Ａの量を測定した結
果を第３図に示す。
むＣｏＣｒ膜を形成し、様々な膜厚に於けるベースフィ
ルム面内方向についての磁気ヒステリシス曲線の第１図
に示す初期磁化曲線領域の跳躍の幅Ａの量を測定した結
果を第３図に示す。
即ち、横軸にスパッタリングを行ったＣｏＣｒ膜の全膜
厚を示し、その中で初期配向層にあたる磁気ヒステリシ
ス曲線の跳躍量を厚さに換算して測定した値を縦軸に示
す。
厚を示し、その中で初期配向層にあたる磁気ヒステリシ
ス曲線の跳躍量を厚さに換算して測定した値を縦軸に示
す。
従って第３図はＣｏＣｒ層の厚さと初期配向層の厚さと
の関係を示すが、横軸のＣｏＣｒ層の全層の厚さに対し
、縦軸に示すＣｏＣｒ層の厚さが垂直磁気記録層でない
初期配向層となっていることを示している。
の関係を示すが、横軸のＣｏＣｒ層の全層の厚さに対し
、縦軸に示すＣｏＣｒ層の厚さが垂直磁気記録層でない
初期配向層となっていることを示している。
ここでスパッタの人力電力は５００Ｗとし、スパッタ時
のアルゴンガス圧力の条件の範囲は１〜９ Ｘｌ０−”
Ｔｏｒｒ、又全膜厚の範囲はＯ〜１０００オングストロ
ームとした。第３図より、５Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ以上の
スパッタアルゴンガス圧力の時には厚さが２００オング
ストロ一ム以上の初期配向層が得られることがわかる。
のアルゴンガス圧力の条件の範囲は１〜９ Ｘｌ０−”
Ｔｏｒｒ、又全膜厚の範囲はＯ〜１０００オングストロ
ームとした。第３図より、５Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ以上の
スパッタアルゴンガス圧力の時には厚さが２００オング
ストロ一ム以上の初期配向層が得られることがわかる。
次に５〜９Ｘ１０−３Ｔｏｒｒで、第１回目のＣｏＣｒ
スパッタ膜を２００オングストローム形成し、さらに１
×１０−３Ｔｏｒｒで第２回目のＣｏＣｒスパッタ膜を
０．２μｍ形成した。
スパッタ膜を２００オングストローム形成し、さらに１
×１０−３Ｔｏｒｒで第２回目のＣｏＣｒスパッタ膜を
０．２μｍ形成した。
この時の初期配向層の厚さをＶＳＭにより測定した結果
を第４図に示す。
を第４図に示す。
第４図より、初期配向層の厚みは第１回目ＣｏＣｒスパ
ッタ膜の厚さとほぼ同じ２００オングストロームで一定
値を示している。従って、７Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ以上で
初期配向層を形成し、その上に通常の０．８〜ｌＸ１Ｏ
−３Ｔｏｒｒで垂直磁気記録層を形成する時、初期配向
層の厚さはほぼ第１回目のＣｏＣｒスパッタ膜の厚さと
することができることが確認され、本発明の目的とした
初期配向層の厚さの制御ができる垂直磁気記録媒体の製
造方法を提供出来る。
ッタ膜の厚さとほぼ同じ２００オングストロームで一定
値を示している。従って、７Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ以上で
初期配向層を形成し、その上に通常の０．８〜ｌＸ１Ｏ
−３Ｔｏｒｒで垂直磁気記録層を形成する時、初期配向
層の厚さはほぼ第１回目のＣｏＣｒスパッタ膜の厚さと
することができることが確認され、本発明の目的とした
初期配向層の厚さの制御ができる垂直磁気記録媒体の製
造方法を提供出来る。
以下、本発明の実施例を図を用い説明する。
（実施例１）
厚さ３０μｍのポリイミドフィルム上に、スパッタパワ
ー５００Ｗ、スパッタアルゴンガス圧力５Ｘ１０−３Ｔ
ｏｒｒで、２００オングストロームの厚さにＣｒが重量
比で１８．５％のＣｏＣｒ第１層膜を作製し、その上に
スパッタパワー５００Ｗ、スパッタアルゴンガス圧力１
×１０− ”Ｔｏｒｒで０．２μｍの厚さに第１層と同
一組成のＣｏＣｒ第２層膜を形成した。
ー５００Ｗ、スパッタアルゴンガス圧力５Ｘ１０−３Ｔ
ｏｒｒで、２００オングストロームの厚さにＣｒが重量
比で１８．５％のＣｏＣｒ第１層膜を作製し、その上に
スパッタパワー５００Ｗ、スパッタアルゴンガス圧力１
×１０− ”Ｔｏｒｒで０．２μｍの厚さに第１層と同
一組成のＣｏＣｒ第２層膜を形成した。
（実施例２）
実施例１の条件に於て、第１層膜形成のスパッタ圧力を
７Ｘ１０”−３Ｔｏｒｒとし厚さを３００オングストロ
ームとし、第２層膜は実施例１と同一条件とした。
７Ｘ１０”−３Ｔｏｒｒとし厚さを３００オングストロ
ームとし、第２層膜は実施例１と同一条件とした。
（実施例３）
実施例１の条件に於て、第１層膜形成のスパッタ圧力を
８Ｘ１０−３Ｔｏｒｒとし厚さを４００オングストロー
ムとし、第２層膜は実施例１と同一条件とした。
８Ｘ１０−３Ｔｏｒｒとし厚さを４００オングストロー
ムとし、第２層膜は実施例１と同一条件とした。
（実施例４）
実施例１の条件に於て、第１層膜形成のスパッタ圧力を
９Ｘ１０’−”Ｔｏｒｒとし、厚さを５００オングスト
ロームとし、第２層膜は実施例１と同じ条件とした。
９Ｘ１０’−”Ｔｏｒｒとし、厚さを５００オングスト
ロームとし、第２層膜は実施例１と同じ条件とした。
（実施例５）
実施例１の条件に於て、第１層膜形成のスパツタ圧力を
９ Ｘ１Ｏ−３Ｔｏｒｒとし厚さを２００オングストロ
ームとし、第２層膜は実施例１と同じ条件とした。
９ Ｘ１Ｏ−３Ｔｏｒｒとし厚さを２００オングストロ
ームとし、第２層膜は実施例１と同じ条件とした。
（実施例６）
実施例１の条件に於て、第１層膜形成のスパッタ圧力を
９ Ｘｌ０−３Ｔｏｒｒとし厚さを３００オングストロ
ームとし、第２層膜は実施例１と同じ条件とした。
９ Ｘｌ０−３Ｔｏｒｒとし厚さを３００オングストロ
ームとし、第２層膜は実施例１と同じ条件とした。
（実施例７）
実施例１の条件に於て、第１層膜形成のスパッタ圧力を
９ Ｘｌ０−３Ｔｏｒｒとし厚さを４００オングストロ
ームとし、第２層膜は実施例１と同じ条件とした。
９ Ｘｌ０−３Ｔｏｒｒとし厚さを４００オングストロ
ームとし、第２層膜は実施例１と同じ条件とした。
実施例１ないし７により生成したＣｏＣｒ磁性層につい
てＶＳＨにより初期配向層の厚さを測定し、第１層膜の
厚さと比較した結果を第５図に示す６第５図から、初期
配向層厚さと第１層膜厚さはほぼ等しいことが分かる。
てＶＳＨにより初期配向層の厚さを測定し、第１層膜の
厚さと比較した結果を第５図に示す６第５図から、初期
配向層厚さと第１層膜厚さはほぼ等しいことが分かる。
ハ１発明の効果
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によるＣｒが１８．５重量％
含むＣｏＣｒ合金をポリイミドフィルム上にスパッタし
て垂直磁気記録媒体を形成し、ポリイミドフィルム上に
初期配向層を形成する時、スパッタ時のアルゴンガス圧
力の値を従来に比べて高い圧力とし、スパッタ層の厚さ
を制御することにより垂直磁気記録層に直角方向に容易
磁化方向を持つ初期配向層の形成により再生出力が大き
い高密度記録を可能とするＣｏＣｒ垂直磁気記録媒体が
形成出来る。又ベースフィルム上にスパッタする時のア
ルゴンガス圧力を制御することにより、初期配向層の厚
さを再現性良く制御したＣｏＣｒ垂直磁気記録媒体が得
られる。
含むＣｏＣｒ合金をポリイミドフィルム上にスパッタし
て垂直磁気記録媒体を形成し、ポリイミドフィルム上に
初期配向層を形成する時、スパッタ時のアルゴンガス圧
力の値を従来に比べて高い圧力とし、スパッタ層の厚さ
を制御することにより垂直磁気記録層に直角方向に容易
磁化方向を持つ初期配向層の形成により再生出力が大き
い高密度記録を可能とするＣｏＣｒ垂直磁気記録媒体が
形成出来る。又ベースフィルム上にスパッタする時のア
ルゴンガス圧力を制御することにより、初期配向層の厚
さを再現性良く制御したＣｏＣｒ垂直磁気記録媒体が得
られる。
第１図はベースフィルム上の初期配向層を示す垂直磁気
記録媒体のベースフィルム面内方向の磁気ヒステリシス
曲線の図。 第２図は十分な初期配向層を持った垂直磁気記録媒体の
記録再生過程を示す断面図。 第３図はＣｏＣｒ膜厚さ全体の厚さと、その初期配向層
の厚さとの関係をスパッタ時のアルゴンガス圧力を変え
測定した特性図。 第４図はＣｏＣｒ第１層のスパッタ圧力を変化させて、
ＣｏＣｒ第２層を形成した時の初期配向き厚さを示す特
性図。 第５図は本発明の実施例に於けるＣｏＣｒ第１層の厚さ
と、初期配向層の厚さとの関係を示す特性図。 Ａ・・・初期配向層による磁化の跳躇の領域、Ｂ・・・
ＣｏＣｒ磁性層全体の磁束密度の値、３・・・垂直磁気
記録層、４・・・初期配向層、５・・・ベースフィルム
、６・・・磁気ヘッド、７・・・磁力線。
記録媒体のベースフィルム面内方向の磁気ヒステリシス
曲線の図。 第２図は十分な初期配向層を持った垂直磁気記録媒体の
記録再生過程を示す断面図。 第３図はＣｏＣｒ膜厚さ全体の厚さと、その初期配向層
の厚さとの関係をスパッタ時のアルゴンガス圧力を変え
測定した特性図。 第４図はＣｏＣｒ第１層のスパッタ圧力を変化させて、
ＣｏＣｒ第２層を形成した時の初期配向き厚さを示す特
性図。 第５図は本発明の実施例に於けるＣｏＣｒ第１層の厚さ
と、初期配向層の厚さとの関係を示す特性図。 Ａ・・・初期配向層による磁化の跳躇の領域、Ｂ・・・
ＣｏＣｒ磁性層全体の磁束密度の値、３・・・垂直磁気
記録層、４・・・初期配向層、５・・・ベースフィルム
、６・・・磁気ヘッド、７・・・磁力線。
Claims (1)
- １、スパッタリング法により高分子のベースフィルム上
にＣｏＣｒ膜を形成する際に、スパッタ時のアルゴンガ
ス圧力を７×１０＾−＾３Ｔｏｒｒ以上の高い圧力でＣ
ｏＣｒ第１層を形成し、更にその上に１×１０＾−＾３
Ｔｏｒｒ以下の低い圧力でＣｏＣｒ第２層を形成するこ
とを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2086790A JPH03225622A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2086790A JPH03225622A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03225622A true JPH03225622A (ja) | 1991-10-04 |
Family
ID=12039108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2086790A Pending JPH03225622A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03225622A (ja) |
-
1990
- 1990-01-31 JP JP2086790A patent/JPH03225622A/ja active Pending
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