JPH03225626A - 光学的記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光、熱等の手段によりその光学的性質が変化
する記録膜を光記録媒体の基板上に備え、この記録膜の
適正面に光源からのレーザビームを収束させて、情報の
記録・再生、若しくは消去を行う光学的記録方法に係り
、特に、光記録媒体が面振れ等を起こしても記録・再生
に支障を来さない光学的記録方法の改良に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

この光学的記録方法とは、例えば、第９図に示すように
、１．２帥程度の透明基板（ａ）と記録膜（ｂ）とで光
記録媒体（ｃ）の主要部を構成し、図示外の対物レンズ
により直径１μｍ程度に絞ったレーザビーム（２）を上
記光記録媒体（Ｃ）の記録膜（ｂ）面上へ照射し、この
記録膜（ｂ）の光学的性質を変化させて情報の記録・再
生を行う方法である。

ところで、この光学的記録方法においては対物レンズを
通ったレーザビームを常に記録膜（ｂ）の適正面に収束
させる必要があるため、通常、上記対物レンズについて
その位置を制御するフォーカシング・サーボがかけられ
ている。

この場合、対物レンズの開口数を（ＮＡ）、レーザビー
ムの波長を（λ）とすると、その焦点深度は、±２・λ
／（２・ＮＡ）’で与えられ、例えば、従来の光学的記
録装置に適用されている半導体レーザ、並びに、対物レ
ンズの代表的な数値（λ＝７８０　ｎｍ、　ＮＡ＝０．
４８）を代入してその焦点深度を求めてみると、その値
は高々、±２μｍ程度である。

従って、第１０図に示すように上記記録膜（ｂ）とは反
対側の透明基板（ａ）の表面はレーザビームの焦点位置
から大きく離れており、この表面上にキズやゴミ等が付
いていても記録・再生に影響を及ぼすことが少ないため
、この光学的記録方法においては、第９図に示すように
透明基板（ａ）側から記録膜（ｂ）面へ向けてレーザビ
ームを照射する方式が採られている。

そして、上記対物レンズのフォーカシング制御方式とし
て、例えば、第１１図に示すように、光学ヘッド（Ｈｅ
）にフォーカス制御用コイル（Ｆｃ）を組み込み、この
フォーカス制御用フィル（Ｆｃ）への通電信号により対
物レンズ（ｄ）をフォーカス方向へ移動制御する方法が
知られている。

しかし、この方式においては、上記フォーカス制御用コ
イル（Ｆｃ）を組み込む分だけ光学ヘッド（Ｈｅ）の重
量が嵩むため、この光学ヘッド（Ｈｅ）を光記録媒体の
所望のトラックへ移動するのに要する時間、所謂、アク
セスタイムが長時間かかる欠点があった。

そこで、近年、第１２図に示すように、適宜バネ状サス
ペンション（ｅ）により光学ヘッド（Ｈｅ）を浮動可能
に取付け、光記録媒体（Ｃ）の回転に伴う空気流を利用
して光学ヘッド（Ｈｅ）をフォーカス方向へ移動制御す
る簡便な方法が考案されている。

すなわち、この方法によると光記録媒体（ｃ）の面振れ
に追従して光学ヘッド（Ｈｅ）が浮動するため、例えば
、上記光学ヘッド（Ｈｅ）の浮動量を５μｍとした場合
、光記録媒体（ｃ）と対物レンズ（ｄ）間の距離の変動
を±０．５μｍ以下に抑えることが可能とり、かつ、上
記フォーカス制御用コイルが搭載されない分、光学ヘッ
ド（Ｈｅ）が軽量となるため、上記アクセスタイムを短
縮できる利点を有する方法であった。

しかし、この方法においては、上記光記録媒体（ｃ）の
回転に伴う空気流を利用して光学ヘッド（Ｈｅ）のフォ
ーカス制御を行う方式のため、定速度で回転する一般の
光記録媒体（ｃ）に適用された場合、回転速度が異なる
内周側と外周側とてその浮動量が変化し、フォーカス制
御が充分になされなくなる欠点があった。

尚、この浮動量の変化を考慮して上記光記録媒体（ｃ）
の回転速度を可変制御する方法も考えられるが、この方
法を採った場合、その駆動制御が極端に複雑になってし
まうことから現実的な方法にはなり得ないと共に、たと
え、上記浮動量を一定に制御できたとしても、光記録媒
体（ｃ）の透明基板（ａ）側から記録膜（ｂ）面へ向け
てレーザビームを照射させている関係上、上記透明基板
（ａ）の厚みムラによって対物レンズ（ｄ）と記録膜（
ｂ）間距離が常に変動するため、依然としてそのフォー
カス制御が充分になされない欠点があった。

このような技術的背景の下で、本件出願人は新たなフォ
ーカス制御手段が組み込まれた光学的記録方法を既に提
案している。

すなわち、この方法は、第１３図に示すように凸レンズ
又は凹レンズで構成され光源（ｆ）からのレーザビーム
を拡散する拡散用レンズ（ｇ）と、光記録媒体（ｃ）の
回転に伴う空気流により浮動する光学ヘッド（Ｈｅ）に
搭載され、上記拡散用レンズ（ｇ）により拡散されたレ
ーザビームを光記録媒体（ｃ）の記録面へ収束させる対
物レンズ（ｄ）と。

上記拡散用レンズ（ｇ）と対物レンズ（ｄ）間の光軸上
に設けられ上記拡散用レンズ（ｇ）により拡散されたレ
ーザビームを平行ビームにするコリメート用レンズ（ｈ
）とを備え、 光記録媒体（ｃ）の面振れや光学ヘッド（Ｈｅ）の浮動
量等に対応させて拡散用レンズ（ｇ）又はコリメート用
レンズ（ｈ）の少なくとも一方を光軸方向へ摂動するこ
とにより、 第１４図（Ａ）〜（Ｃ）に示すように対物レンズ（ｄ）
に対するレーザビームの入射角度を変化させ、この変化
に伴ってレーザビームの収光位置が変動して上記レーザ
ビームを記録膜（ｂ）の適正面へ確実に収束できるよう
にしたもので、上記光記録媒体（ｃ）の面振れや光学ヘ
ッド（Ｈｅ）の浮動量変化に拘らずそのフォーカス精度
が飛躍的に向上する方法であった。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、この光学的記録方法を採ることにより光源か
らのレーザビームを常に記録膜の適正面に収束させるこ
とは可能になったが、その反面、上記記録膜の適正面に
収束されるレーザスポットの収束位置如何によってスポ
ット内の照度分布が低下し、光量不足を引き起こすとい
った新たな問題が浮上してきた。

すなわち、上記光記録媒体の面振れ等が無く、従って拡
散用レンズやコリメート用レンズ等が摂動しないときに
は、上記対物レンズ（ｄ）に第１４図（Ｂ）に示すよう
な平行ビームが入射され、上記記録膜（ｂ）の適正面上
に照度分布の最も高いレーザビームが収束される（以下
、このときのレーザビームの収束位置を「最適収光位置
」と称する）ことになるが、光記録媒体の面振れ等に伴
って上記コリメート用レンズ等が摂動し、レーザビーム
の収束位置がこの「最適収光位置」より対物レンズ（ｄ
）側へ移動したり（第１４図Ｃ参照）、あるいは、その
反対側へ移動したりした場合（第１４図Ｃ参照）、その
レーザスポット内の照度分布が低下する問題である。

尚、第１５図（Ａ）〜（Ｂ）はこの現象を示したもので
、上記「最適収光位置」を横軸上０で表示し、この位置
からのずれ量に対応したレーザビームのピーク強度変化
を順次プロットすると第１５図（Ａ）に示すようになっ
ており、一方、上記「最適収光位置」からのずれ量に対
応したレーザビームにおける半値幅の変化量をプロット
すると第１５図（Ｂ）に示すようになっている。

そして、フォーカシングを行うためのピーク強度及び半
値幅の許容変化範囲は、通常、１０％程度であるため、
第１５図（Ａ）〜（Ｂ）からレーザビームにおける収束
位置の可変範囲は高々±２０μｍ程度であり、従って、
光量不足を起こさずに適正なフォーカス制御を行うには
光源からのレーザビームを上記「最適収光位置」から±
２０μｍ程度の位置に収束させる必要があった。

ところで、この種の光学的記録方法に適用される光記録
媒体は、上述したように基板側からレーザビームを照射
する関係上、透明基板と記録膜とでその主要部が構成さ
れているが、この透明基板はＰＭＭＡ　（ポリメタクリ
ル酸メチル）やＰＣ（ポリカーボネート）等の射出成形
により一般的に製造されている。そして、約１ｍｍ程度
の厚みを持つ透明基板の場合、通常の生産においては、
ロット内及びロット間で最大±１００μｍ程度の厚さム
ラ、バラツキが発生する。しかし、このようなバラツキ
が発生しても、フォーカス制御用コイルが搭載された光
学ヘッド方式にこの光記録媒体が適用される場合にはそ
のフォーカス制御が可能であり、従って、記録・再生に
大きな支障を来すことがないため、光記録媒体の厚さに
対する規格制限は、従来、比較的緩く設定されている。

しかしながら、このようなバラツキを有する光記録媒体
を上述した浮動ヘッド方式の記録方法に適用した場合、
記録膜と対物レンズ間距離の変化範囲は透明基板の厚み
のバラツキ分である±１００μｍ以上となり、従って、
光源からのレーザビームを上記「最適収光位置」から±
２０μｍ程度の位置に収束させることは不可能となり、
記録・再生時において光量低下に伴う誤動作を引き起こ
す問題点があった。

尚、透明基板としてガラス材を適用することで厚さの精
度を向上させることは可能であるが、精密研磨を必要と
する分コストが上昇する問題点があった。

また、上記透明基板の厚みが大きい場合、この透明基板
を介して記録膜面ヘレーザビームを照射している関係上
、その記録・再生特性が、透明基板内の屈折率ムラ、複
屈折、あるいは光記録媒体のスキュー等の影響を受は易
いといった問題点もあった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は以上の問題点に着目してなされたもので、その
課題とするところは、光記録媒体が面振れ等を起こして
も記録・再生に支障を来さない新たな光学的記録方法を
提供することにある。

すなわち、本発明は、 凸レンズ又は凹レンズで構成され光源からのレーザビー
ムを拡散する拡散用レンズと、光記録媒体の回転に伴う
空気流により浮動する光学ヘッドに搭載され上記拡散用
レンズにより拡散されたレーザビームを光記録媒体の記
録膜面へ収束させる対物レンズと、 上記拡散用レンズと対物レンズ間の光軸上に設けられ上
記拡散用レンズにより拡散されたレーザビームを平行ビ
ームにするコリメート用レンズとを備え、 上記光記録媒体の面振れ等に対応させて拡散用レンズ又
はコリメート用レンズの少なくとも一方を光軸方向へ摂
動し、光源からのレーザビームを上記記録膜の適正面に
収束させて光学的に情報の記録・再生、若しくは消去を
行う光学的記録方法を前提とし、 上記光記録媒体の主要部を、基板と、この基板の少なく
とも一面に設けられた記録膜と、この記録膜を覆う光透
過性の保護膜とで構成し、かつ、上記光源からのレーザ
ビームを光記録媒体の保護摸側から照射させると共に、 上記保護膜を形成する際の膜厚形成誤差が±ｔ％である
場合に、 保護膜の膜厚を（２０００／　ｔ　）μｍ以下に設定す
ることを特徴とするものである。

このような技術的手段において、基板としては従来と同
様に、ガラス、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリ
ル、ポリメタクリル酸メチル、エポキシ樹脂、ポリテン
ペン等の透明な単体材料、若しくはこれ等の積層材料で
構成してもよく、また、アルミニウム等光不透過性の材
料でもってこれを構成してもよい。尚、ポリカーボネー
ト等樹脂材料を適用した場合には、樹脂材料の熱的損傷
を防ぐため、例えば、ＳｉＯ□、ＺｒＯ２等の下地材料
を基板上に設けてもよい。

また、上記基板に設けられる記録材料としては、従来、
ｒ穴開は方式１及びｒバブル方式Ｊ等に広く利用されて
いる書換え不能な記録材料群が適用出来る他、以下に示
すような書換え可能な記録材料群も適用可能である。

すなわちＴｅａ、　、　Ｉｎ−５ｅ　、　Ｉｎ−３ｂ−
Ｔｅ、　Ｇｅ−３ｂ−Ｔｅ等の相変化型記録材料やＴｅ
ＦｅＣｏ、　Ｃｄ−Ｃｏ　、Ｍｎ−Ｂ１、Ｃｏ／Ｐｔ等
の光磁気記録型材料群が適用できる。

尚、これ等記録材料で構成される記録膜については、基
板の片面側のみに設けても、あるいは、両面にそれぞれ
設けても当然のことながらよい。

次に、上記記録膜を覆う保護膜としては、光透過性を有
し、薄膜形成が可能であり、しかも、適度な強度を有す
る材料なら適用可能であり、例えば、ガラス、Ｓｔｏｗ
　、ＺｎＳ　、　５ｉｈＮａ　、Ｔａ２０５、ＡＩＮ　
、　ＺｎＳ−ＳｉＯ□等があり、また、その形成方法に
ついては、予めシート状に加工された保護膜材を基板側
へ貼り合わせて保護膜としてもよいし、上記材料群をス
パッタリング法や蒸着法等の適宜着膜手段により直接形
成する方法を採ってもよく、その形成方法は任意である
。尚、この保護膜面上に光透過性を有するカーボン薄膜
を形成することにより、光学ヘッドと光記録媒体との間
に充分な潤滑性を付与できる利点がある。

また、この技術的手段においては、透明基板側からレー
ザビームを照射する従来方式と異なり、上記保護膜側か
ら記録膜へ向けてレーザビームを照射させる方式である
ため保護膜の膜厚寸法は重要な技術的意味を有する。

すなわち、この保護膜が厚すぎると、従来の透明基板側
からレーザビームを照射する方式と同様に、その膜厚形
成誤差に伴う厚みの変動により、上記「最適収光位置」
から±２０μｍ程度の位置にレーザビームを収束させる
ことが困難となり、また、上記保護膜が薄すぎると、保
護膜表面とレーザビームの焦点位置が近づき過ぎるため
、保護膜表面に付いたキズ、ゴミ等により記録・再生に
影響を及ぼす危険性が生ずるからである。

従って、上記保護膜における膜厚の上限値を求める場合
には、光源からのレーザビームを上記「最適収光位置」
から±２０μｍ程度の位置に収束させることが可能で、
かつ、保護膜内の屈折率ムラや光記録媒体のスキューに
より記録・再生特性が影響を受けない範囲で設定するこ
とを要する。

そして、保護膜材として薄膜のガラス板を適用した場合
を例に挙げて説明すると、通常の生産による厚さ５０〜
１０００μｍのガラス板の膜厚形成誤差（１）は厚さ寸
法の略±１０％程度であるため、ガラス板の膜厚を、２
０００−、　ｌＯ＝　２００μｍ以下に設定することに
よりその厚さムラを±２０μｍ以下に収めることができ
、従って、光源からのレーザビームを上記「最適収光位
置」から±２０μｍ程度の位置に確実に収束させること
が可能となる。

一方、上記保護膜における膜厚の下限値を求める場合に
は、上述した記録・再生時におけるキズ、ゴミ等の影響
を考慮すると共に、保護膜の耐磨耗性、製造時における
薄膜の形成可能性等を考慮して設定する必要がある。

そして、記録・再生時におけるキズ、ゴミ等の影響につ
いては以下に示す文献が知られている。

すなわち、この［ＥＥＥ　ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮ　Ｃ
ＯＮＳＵＭＥＲＥＬＥＣＴＲＣ０Ｎ５Ｕ、ＮＯＶＥＭＢ
ＥＲ１９７６“ＳＹＳＴＥＭ　ＣＯＤＩＮＧＰＡＲＡＭ
ＥＴＥＲ３，ＭＥＣＨＡＮＩＣ３ＡＮＤ　ＥＬＥＣＴＲ
Ｏ−ＭＥＣＨＡＮＩＣ３ＯＦ　ＴＨＥ　ＲＥＦＬＥＣＴ
ＩＶＥ　ＶＩＤＥＯＤｉｓｃ　ＰＬＡＹＥＲ”　ｉ：お
いては、保護カバー表面に通常の閉空間に存在すると考
えられる粒子径２０μｍの塵埃、指紋等が付着した場合
、上記保護カバーの厚みを３００μｍ以下にすると急激
に反射光量の変調度（α）が下がること、及び、上記塵
埃の粒子径が５μｍ以下の場合、上記保護カバーめ厚み
を１００μｍ以上にすると記録・再生特性には影響がで
ないことを述べている。

ここで、「反射光量の変調度（α）」とは、α＝（反射
光量最大値−反射光量最小値）＝（反射光量最大値十反
射光量最小値）で求められる値をいう。

第５図は保護層の厚み（μｍ）と上記反射光量の変調度
（％）との関係を示したグラフ図であるが、このグラフ
図から塵埃の粒子径が５μｍ以下の条件下において、上
記保護膜の厚みを１００μｍ以上にすることにより記録
・再生特性に影響を及ぼさなくなることが確認できる。

尚、図中（β）は指紋や付着した塵埃の粒子径が２０μ
ｍの場合、（γ）は付着した塵埃の粒子径が５μｍ以下
の場合をそれぞれ示している。

そして、このような条件は、上記光記録媒体をシャッタ
ー付きのカートリッジに入れて取扱い、かつ、使用時に
は清浄な空気を光記録媒体面へ流すことにより容易に達
成することが可能である。

従って、上記保護膜における膜厚の下限値を求める場合
、上述した条件が満たされることを前提に、かつ、保護
膜の耐磨耗性、製造時における薄膜の形成可能性等を考
慮して適宜値に設定可能である。尚、当然のことながら
、清浄な条件を更に向上させることにより、上記保護膜
の厚みの下限値を１００μｍ以下に設定できる。

また、この技術的手段において、上記光記録媒体の面振
れ、及び、その面振れ量等を検出する手段については従
来法がそのまま適用でき、例えば、非点収差法、ビーム
偏心法、ナイフエ・フシ法、ウォーブリング法等が適用
できる。

更に、光記録媒体の面振れ等を検出する上記手段の配設
位置については、光源と拡散用レンズ間の光軸上、ある
いは、拡散用レンズと対物レンズ間の光軸上のいずれの
位置に設けてもよい。

また、光記録媒体の面振れ等に対応させて摂動（移動）
するレンズは、コリメート用レンズ、又は凸レンズ若し
くは凹レンズで構成される拡散用レンズであり、場合に
よってはコリメート用レンズと拡散用レンズの両者を摂
動（移動）させてもよい。

〔作用〕

上述したような技術的手段によれば、 上記光記録媒体の主要部を、基板と、この基板の少なく
とも一面に設けられた記録膜と、この記録膜を覆う光透
過性の保護膜とで構成し、かつ、上記光源からのレーザ
ビームを光記録媒体の保護膜側から照射させると共に、 上記保護膜を形成する際の膜厚形成誤差が±ｔ％である
場合に、 保護膜の膜厚を（２０００／　ｔ　）μｍ以下に設定し
ているため、 上記保護膜の膜厚誤差は （２０００／　ｔ　）　ｘ　（±ｔ／１００）＝±２０
μｍとなり、 記録膜とこの記録膜面ヘレーザビームを収束させる対物
レンズ間距離の変動が±２０μｍ以内に収まることとな
って、光源からのレーザビームを上記「最適収光位置」
から±２０μｍ程度の位置に確実に収束させることが可
能となり、 かつ、膜厚（２０ｏＯ／　ｔ　）μｍ以下の薄い保護膜
側からレーザビームが照射されることから、対物レンズ
が搭載される光学ヘッドと記録膜間距離を従来と較べて
より接近させることが可能となる。

〔実施例〕

以下、本発明を光磁気記録型記録方法に適用した実施例
について図面を参照して詳細に説明する。

◎第一実施例 この実施例において使用した装置は、第１２図〜第１３
図で示された従来の光磁気記録型記録装置がそのまま適
用されており、この装置に組み込んだ光磁気ディスクの
構造とレーザビームの照射方向が従来と相違するもので
ある。

すなわち、この光磁気ディスクは第１図〜第２図に示す
ように、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メタル等
の合成樹脂で形成された厚さ１．２市程度の基板（１）
と、この基板（１）上に形成された張り合わせ用の紫外
線硬化樹脂層（２）と、この紫外線硬化樹脂層（２）上
に設けられ、耐食性、及び、記録／再生特性の劣化防止
に効果のある５ｔＪｔ製の下地膜（３）と、この下地膜
（３）上に設けられＴｅＦｅＣｏ等の希土類−遷移金属
系の合金にて形成された磁気光学効果を有する記録膜（
４）と、この記録膜（４）上に設けられカー回転角を増
加させるための５ｉｓＮｔ製の透明誘電体膜（５）と、
この透明誘電体層（５）上に設けられた厚さ１００μｍ
のガラスシート製の保護膜（６）とでその主要部が構成
されており、上記保護膜（６）側から図示外の浮動型光
学ヘッドを介してレーザビームが記録膜（４）面へ照射
される一方、この光磁気ディスク（７）の収光面へ向け
て２００〜３０００ｅの垂直磁界が印加されて記録操作
を行い、かつ、光磁気ディスク（７）面からの反射レー
ザビームか同一光路を通って図示外のフォトダイオード
側へ入射されて再生操作を行うものである。

そして、この実施例に係る記録方法においては、上記光
磁気ディスク（７）のガラスシート製保護膜（６）の厚
さが１００μｍであり、その膜厚形成誤差を±１０％と
見積もっても保護膜（６）の膜厚誤差は±１０μｍ以内
に収まることとなる。

よって、上記記録膜（４）とこの記録膜（４）面ヘレー
ザビームを収束させる対物レンズ間距離の変動が±１０
μｍ以内に収まるため、光源からのレーザビームを照度
分布が最大の上記「最適収光位置」から±１０μｍ程度
の位置に確実に収束させることが可能となり、 かつ、膜厚が１００μｍという薄い保護膜（６）側から
レーザビームが照射されることから、上記記録膜（４）
と対物レンズが搭載される光学ヘッド間距離を従来と較
べてより接近させることが可能となる。

従って、光量不足を引き起こすことなくフォーカス制御
が可能となり、かつ、保護膜（６）内の屈折率ムラ、複
屈折等の影響も薄膜が故に小さいため、記録・再生時に
おける誤動作を防止できる利点を有している。

また、記録膜（４）と対物レンズが搭載される光学ヘッ
ド間距離が接近することから、従来よりビーム径の小さ
い光源を使用することが可能となり、光学系が小さくな
る分装置の小型化が図れる利点を有しており、更に、上
記光学ヘッドの接近に伴いこのヘッドに搭載された図示
外の磁界発生用コイルによる磁界形成効率が高まるため
、従来と同一のコイルを適用した場合には磁界強度が高
まってその記録又は書換え速度を速められる利点を有し
、一方、コイルを小型にしても従来と同程度の磁界強度
をだすことが可能なことより、光学ヘッドの軽量化と小
型化が図れてアクセスタイムを速められる利点を有して
いる。

更に、磁界発生用コイルが小さく十分インダクタンスが
低いときは、高速の極性反転が可能となるため、磁界変
調方式によるオーバー・ライトが可能となる利点を有し
ている。

尚、第４図は、半径５００μｍ１比透磁率１０００の軟
磁性コアに起磁力ＮＩを与えたとき、コイル軸上でコイ
ルから距離ｒ（μｍ）離れた点のコイル軸方向の磁界強
度（Ｏｅ）を示したグラフ図である。

そして、このグラフ図から、光磁気ディスクにおける保
護膜の厚さを薄く設定し、光学ヘッドと記録膜面間距離
を小さく保つことにより、小さな起磁力ＮＩで充分な垂
直方向磁界が得られることが理解できる。因みに、距離
ｒが１００μｍ以下のとき、起磁力Ｎ　Ｉ　＝０．０２
Ａ　Ｔで光磁気記録において必要とされる２００　Ｏｅ
以上の充分な磁界を与えることが可能である。

ｒ光磁気ディスクの製造、」 以下、第一実施例において使用された光磁気ディスクの
製造方法について説明する。

先ず、第３図（Ａ）に示すように厚さ１００μｍに加工
したガラスシート製の保護膜（６）上に、スパッタリン
グ法にて５ｉＪｚ製の透明誘電体膜（５）と、ＴｅＦｅ
Ｃｏ製の記録膜（４）と、５ｉＩＮ４製の下地膜（３）
とを順次着膜する。

一方、第３図（Ｂ）に示すように射出成形法にて成形さ
れた厚さ１．２ｉｕｎのポリカーボネート、ポリメタク
リル酸メタル等合成樹脂製の基板（１）上に、紫外線硬
化型の接着剤（２０）を２０μｍ程度塗布し、この接着
剤（２０）面へ上記ガラスシート製の保護膜（６）の下
地膜（３）を対向させて積層し、かつ、上記接着剤（２
０）を硬化させて第２図に示すような光磁気ディスクを
得た。

尚、この製造法においては、予め、ガラスシート製の保
護膜（６）面上に、透明誘電体膜（５）、記録膜（４）
、及び、下地膜（３）を着膜した後、基板（１）側へ接
着させているが、上記基板（１）面上に、順次、ＳｉＮ
製下地膜（３）、記録膜（４）、及び、透明誘電体膜（
５）とをスパッタリング法にて着膜し、かつ、この透明
誘電体膜（５）上に紫外線硬化型の接着剤を２０μｍ程
度塗布し、この面上に厚さ１００μｍのガラスシート製
保護膜（６）を積層して第６図に示すような光磁気ディ
スクを得てもよい。

但し、この製造法においては、１００μｍのガラスシー
ト製保護膜（６）を基板（１）側へ積層する際、上記保
護膜（６）全体に均一な圧力を加えて接着剤の厚みむら
を±５μｍ以下に抑えることが肝要である。

すなわち、この厚みむらも、光学ヘッドと記録膜（４）
間距離の変動に関係するからであり、このような処理を
施すことにより、上記距離の変動を±１５μｍ以下に抑
えることが可能となる。

◎第二実施例 この実施例は、第７図に示すように基板（１）の両面側
に、記録膜（４１）　　（４２）と保護膜（６１）（６
２）とが形成された光磁気ディスク（７）を用い、かつ
、第８図に示すような両面タイプの光磁気記録型記録装
置を適用した点を除き、第一実施例に係る記録方法と路
間−である。

尚、この光磁気ディスク（７）は、第一実施例における
後者の製造方法、すなわち、基板（１）上に、下地膜（
３）、記録膜（４）、及び、透明誘電体膜（５）とを順
次スパッタリング法にて着膜し、かつ、この透明誘電体
膜（５）上に紫外線硬化型の接着剤を２０μｍ程度塗布
した後、厚さ１００μｍのガラスシート製保護膜（６）
を積層する方法により製造されている。

そして、この実施例に係る方法においても、第一実施例
と同様な利点を有しており、特に、装置の小型化を図る
上で顕著な利点を示した。

尚、第８図に示した記録装置においてはスピンドルに１
枚の光磁気ディスク（７）が取り付けられる構造となっ
ているが、複数枚の光磁気ディスクが取り付けられる装
置にこの方法を適用しても当然のことながらよい。

〔発明の効果〕

本名発明によれば、 記録膜とこの記録膜面ヘレーザビームを収束させる対物
レンズ間距離の変動が±２０μｍ以内に収まるため、光
源からのレーザビームを上記「最適収光位置」から±２
０μｍ程度の位置に確実に収束させることが可能となり
、 かつ、膜厚（２０００／　ｔ　）μｍ以下の薄い保護膜
側からレーザビームが照射されることから、対物レンズ
が搭載される光学ヘッドと記録膜間距離を従来と較べて
より接近させることが可能となる。

従って、光量不足を引き起こすことなくフォーカス制御
が可能となり、かつ、保護膜内の屈折率ムラ、複屈折等
の影響も薄膜が故に小さいため、記録・再生時における
誤動作を防止できる効果を有している。

また、対物レンズと記録膜間距離が接近することから従
来よりビーム径の小さい光源を使用することが可能とな
り、従って、光学系が小さくなる分装室の小型化が図れ
る効果を有している。

更に、この技術的手段を光磁気記録型の記録方法に適用
した場合、上記記録膜と光学ヘッド間距離が接近する分
従来より磁界形成効率が高まるため、記録又は書換え速
度を速められる効果を有すると共に、コイルが搭載され
る光学ヘッドにおいてはその軽量化と小型化が図れアク
セスタイムを速められる効果を有している。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第８図は本発明の実施例を示しており、第１図
は第一実施例に係る光学的記録方法の説明斜視図、第２
図はこの方法に適用された光磁気ディスクの断面図、第
３図（Ａ）〜（Ｂ）はこの光磁気ディスクの製造工程を
示す説明断面図、第４図は磁界発生手段であるコイルか
らの距離とこの離れた点におけるコイル軸方向の磁界強
度との関係を示したグラフ図、第５図は保護層の厚みと
反射光量の変調度との関係を示したグラフ図、第６図は
第一実施例における光磁気ディスクの変形例に係る断面
図、第７図は第二実施例において適用された両面タイプ
の光磁気ディスクの断面図、第８図はこの第二実施例に
おいて適用された光磁気記録型記録装置の構成説明図を
それぞれ示し、また、第９図〜第１５図は従来例を示し
、第９図は従来の光学的記録方法の説明斜視図、第１０
図はその方法に適用された光記録媒体の概略断面図、第
１１図及び第１２図は従来の光学的記録方法に適用され
た記録装置の概略斜視図、第１３図は従来の光学的記録
装置におけるフォーカス制御を説明する構成説明図、第
１４図（Ａ）〜（Ｃ）はその部分拡大図、第１５図（Ａ
）はレーザスポットの最適収光位置からのずれ量と上記
スポットのピーク強度との関係図、第１５図（Ｂ）は上
記最適収光位置からのずれ量とレーザスポットの半値幅
との関係図をそれぞれ示している。 〔符号説明〕 （１）・・・基板 （４）・・・記録膜 （６）・・・保護膜 （７）・・・光磁気ディスク 特　許　出　願　人　富士ゼロ・ンクス株式会社代　理
　人　弁理士　中　村　智　廣（外２名）第 ２ 図 第 図 ００ ２００　　　３００ ｒ（μｍ） ００ ００ ２００　　３００　　　リ０ 保護層厚み（μｍ） ００ 第 図 第 図 第 ９ 図 第１０ 図 第１１図 第１２ 図 第１５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 凸レンズ又は凹レンズで構成され光源からのレーザビー
   ムを拡散する拡散用レンズと、 光記録媒体の回転に伴う空気流により浮動する光学ヘッ
   ドに搭載され上記拡散用レンズにより拡散されたレーザ
   ビームを光記録媒体の記録膜面へ収束させる対物レンズ
   と、 上記拡散用レンズと対物レンズ間の光軸上に設けられ上
   記拡散用レンズにより拡散されたレーザビームを平行ビ
   ームにするコリメート用レンズとを備え、 上記光記録媒体の面振れ等に対応させて拡散用レンズ又
   はコリメート用レンズの少なくとも一方を光軸方向へ摂
   動し、光源からのレーザビームを上記記録膜の適正面に
   収束させて光学的に情報の記録・再生、若しくは消去を
   行う光学的記録方法において、 上記光記録媒体の主要部を、基板と、この基板の少なく
   とも一面に設けられた記録膜と、この記録膜を覆う光透
   過性の保護膜とで構成し、 かつ、上記光源からのレーザビームを光記録媒体の保護
   膜側から照射させると共に、 上記保護膜を形成する際の膜厚形成誤差が±ｔ％である
   場合に、 保護膜の膜厚を（２０００／ｔ）μｍ以下に設定するこ
   とを特徴とする光学的記録方法。