JPH03226244A - 回転体通電機構 - Google Patents
回転体通電機構Info
- Publication number
- JPH03226244A JPH03226244A JP2020257A JP2025790A JPH03226244A JP H03226244 A JPH03226244 A JP H03226244A JP 2020257 A JP2020257 A JP 2020257A JP 2025790 A JP2025790 A JP 2025790A JP H03226244 A JPH03226244 A JP H03226244A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- rotating body
- roller bearing
- cylindrical roller
- rotary body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Motor Or Generator Frames (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は回転体に電圧を印加する回転体通電機構に関す
る。
る。
[従来の技術]
コンパクトディスク(CD)、ビデオディスク(VD)
あるいは光磁気ディスク(MO)を製造するためのマス
タリング工程において、ガラスマスターからスタンバは
電鋳工程を通じて作成される。
あるいは光磁気ディスク(MO)を製造するためのマス
タリング工程において、ガラスマスターからスタンバは
電鋳工程を通じて作成される。
このような電鋳工程においては、スルファミン酸ニッケ
ル水溶液を電解液とした高速電鋳が行われる。高速電鋳
を行うためにはメツキ液の攪拌を十分に行う必要がある
ため、連続フィルタリングしながらメツキ液を電解槽へ
循環すると共に、カソードであるガラス円盤を50〜1
100rp程度で回転させ、メツキ液の組成ずれが起こ
らないようにしている。したがって、電鋳に必要な50
〜100Aもの大電流を、回転しているガラス円盤にど
のようにして流すかが技術的な問題となる。
ル水溶液を電解液とした高速電鋳が行われる。高速電鋳
を行うためにはメツキ液の攪拌を十分に行う必要がある
ため、連続フィルタリングしながらメツキ液を電解槽へ
循環すると共に、カソードであるガラス円盤を50〜1
100rp程度で回転させ、メツキ液の組成ずれが起こ
らないようにしている。したがって、電鋳に必要な50
〜100Aもの大電流を、回転しているガラス円盤にど
のようにして流すかが技術的な問題となる。
従来の電鋳装置における回転体通電装置を第5図に示す
。
。
従来の回転体通電機構100において、回転体であるガ
ラス円盤(図示せず)ご保持する四転治其のシャフト1
01の先端にブッシング102が取付けられ、このブッ
シング102がプラスチッククロス104によりモータ
(図示せず)の駆動軸106に取付けられている。
ラス円盤(図示せず)ご保持する四転治其のシャフト1
01の先端にブッシング102が取付けられ、このブッ
シング102がプラスチッククロス104によりモータ
(図示せず)の駆動軸106に取付けられている。
印加すべき電圧は通電用ケーブル108から銅製のロッ
ド110を介し砲金製のステータ112に印加される。
ド110を介し砲金製のステータ112に印加される。
このステータ112はブッシング102方向にはね(図
示せず)により付勢され、ブッシング102が回転して
もステータ112が一定の力で接触して、を流がステー
タ112からブッシング102、シャフト101を介し
てガラス円盤(図示せず)に流れる。
示せず)により付勢され、ブッシング102が回転して
もステータ112が一定の力で接触して、を流がステー
タ112からブッシング102、シャフト101を介し
てガラス円盤(図示せず)に流れる。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、従来の回転体通電装置では、ブッシング
102にステータ112が接触して通電しているため、
時間が経過するとステータ112が磨耗して焼き付いた
り、微粉化したりする。このため、ステータ112とブ
ッシング102間の接触抵抗が時々刻々変化する。
102にステータ112が接触して通電しているため、
時間が経過するとステータ112が磨耗して焼き付いた
り、微粉化したりする。このため、ステータ112とブ
ッシング102間の接触抵抗が時々刻々変化する。
回転通電機構100をオーバーホールした直後の初期状
態では第6図(a)に示すように平均電圧<13.5V
)からの変動は土25mV程度であるが、4時間経過す
ると第6図(b)に示すように電圧変動が二80mV程
度になり、さらに時間が経過すると第6図(C)に示す
ようにスパイク状のノイズが発生するまでになる。
態では第6図(a)に示すように平均電圧<13.5V
)からの変動は土25mV程度であるが、4時間経過す
ると第6図(b)に示すように電圧変動が二80mV程
度になり、さらに時間が経過すると第6図(C)に示す
ようにスパイク状のノイズが発生するまでになる。
このような電圧変動は電鋳工程における電着物の表面状
態に大きな影響を及ぼすという問題があった。すなわち
、電圧変動が小さければ電着物の表面は平滑であるが、
電圧変動が大きくなると電着物の表面が粗くなる。スパ
イク状のノイズが発生するまでになると、電着物の表面
が更に粗くなる。電着物の表面が粗くなると、スタンパ
の裏面を十分研磨する必要が生じてくる。しかし、長時
間スタンパを研磨するほどI!!厚分布が悪くなる。
態に大きな影響を及ぼすという問題があった。すなわち
、電圧変動が小さければ電着物の表面は平滑であるが、
電圧変動が大きくなると電着物の表面が粗くなる。スパ
イク状のノイズが発生するまでになると、電着物の表面
が更に粗くなる。電着物の表面が粗くなると、スタンパ
の裏面を十分研磨する必要が生じてくる。しかし、長時
間スタンパを研磨するほどI!!厚分布が悪くなる。
このため、最終的に、スタンパを用いて射出圧縮成形機
で作成されるディスク基板の機械特性(特に面振れ、心
振れ)が劣化してしまうという問題が生じた。
で作成されるディスク基板の機械特性(特に面振れ、心
振れ)が劣化してしまうという問題が生じた。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、長時間回
転させても回転体への印加電圧の変動を極めて小さく抑
えることできる回転体通電機構を提供することを目的と
する。
転させても回転体への印加電圧の変動を極めて小さく抑
えることできる回転体通電機構を提供することを目的と
する。
[課題を解決するための手段]
上記目的は、回転体に電圧を印加して通電する回転体通
電機構において、前記回転体の回転軸に内輪が嵌着され
た円筒ころ軸受と、前記円筒ころ軸受の外輪に取付けら
れた電圧印加用電極とを有し、前記電圧印加用電極に電
圧を印加することにより、前記円筒ころ軸受を介して前
記回転体に電圧を印加することを特徴とする回転体通電
機構によって達成される。
電機構において、前記回転体の回転軸に内輪が嵌着され
た円筒ころ軸受と、前記円筒ころ軸受の外輪に取付けら
れた電圧印加用電極とを有し、前記電圧印加用電極に電
圧を印加することにより、前記円筒ころ軸受を介して前
記回転体に電圧を印加することを特徴とする回転体通電
機構によって達成される。
[作用]
本発明によれば、円筒ころ軸受を介して回転体に電圧を
印加するようにしているので、長時間回転させても回転
体への印加電圧の変動を小さく抑えることできる。
印加するようにしているので、長時間回転させても回転
体への印加電圧の変動を小さく抑えることできる。
[実施例]
本発明の一実施例による回転体通電機構を用いたTh
@装置を第1図に示す、この電鋳装置は、スルファミン
酸ニッケル水溶液を電解液とし、原盤上にニッケルを電
鋳して、光デイスク製造用等に用いるスタンパを製造す
るものとして説明する。
@装置を第1図に示す、この電鋳装置は、スルファミン
酸ニッケル水溶液を電解液とし、原盤上にニッケルを電
鋳して、光デイスク製造用等に用いるスタンパを製造す
るものとして説明する。
電鋳装置の本槽10は、第1図に示すように、電鋳が行
われる電鋳槽12とオーバーフローした電解液を収納す
るオーバーフロー槽14に分かれている。オーバフロー
槽14下部にはドレイン15が設けられている。
われる電鋳槽12とオーバーフローした電解液を収納す
るオーバーフロー槽14に分かれている。オーバフロー
槽14下部にはドレイン15が設けられている。
電鋳槽12の底部には、第1の電極であるチタニウムバ
スケット18が載置されている。このチタニウムバスケ
ット18は電着時にアノードとして機能する。チタニウ
ムバスケット18内には消耗電極として機能するイオウ
含有ニッケル16が収納され、電着によって失われるニ
ッケルイオンを電解液に補給する。チタニウムバスケッ
ト18の底部にはトレイン20が設けられ、循環する電
解液を調整層(図示せず)に戻す。
スケット18が載置されている。このチタニウムバスケ
ット18は電着時にアノードとして機能する。チタニウ
ムバスケット18内には消耗電極として機能するイオウ
含有ニッケル16が収納され、電着によって失われるニ
ッケルイオンを電解液に補給する。チタニウムバスケッ
ト18の底部にはトレイン20が設けられ、循環する電
解液を調整層(図示せず)に戻す。
電鋳槽12の上部には回転治具22が設けられ、チタニ
ウムバスケット18に相対する位置に原盤であるガラス
円盤24を保持する。ガラス円盤24にはニッケルがス
パッタされており、電着時にはカソードとして機能する
。回転治具22はモータ26によつ回転され、ガラス円
盤24に均一に電着及びエツチングが行われるようにす
る。ガラス円盤24には本実施例による回転体通電機構
50により正又は負の電圧が印加される。
ウムバスケット18に相対する位置に原盤であるガラス
円盤24を保持する。ガラス円盤24にはニッケルがス
パッタされており、電着時にはカソードとして機能する
。回転治具22はモータ26によつ回転され、ガラス円
盤24に均一に電着及びエツチングが行われるようにす
る。ガラス円盤24には本実施例による回転体通電機構
50により正又は負の電圧が印加される。
チタニウムバスゲット18のガラス円盤24側には、イ
オウ含有ニラゲルのスラッジをトラップするフィルタク
ロス32が取付けられている。フィルタクロス32の上
側にはバッフル板28が設けられ、主に電界の補正とメ
ツキ液の流路調整の役目をする。
オウ含有ニラゲルのスラッジをトラップするフィルタク
ロス32が取付けられている。フィルタクロス32の上
側にはバッフル板28が設けられ、主に電界の補正とメ
ツキ液の流路調整の役目をする。
バッフル板28上には、例えば塩化ビニール製のスペー
サ33による隙間を介して第3の電極である補助電極3
4が形成されている。補助電極34は、例えばニオブに
白金をクラッド処理した耐強酸性の網状電極であり、そ
の周囲をチタン製のサポート部材で補強した構造をして
おり、網電極の片面にアクリル族のバッフル板40が張
付けられている。このバッフル板40の役目はバッフル
板28と同様である。
サ33による隙間を介して第3の電極である補助電極3
4が形成されている。補助電極34は、例えばニオブに
白金をクラッド処理した耐強酸性の網状電極であり、そ
の周囲をチタン製のサポート部材で補強した構造をして
おり、網電極の片面にアクリル族のバッフル板40が張
付けられている。このバッフル板40の役目はバッフル
板28と同様である。
電鋳槽12中夫には電解液ノズル42が設けられ、ガラ
ス円盤24と補助電極34間に電解液を吐出して、メツ
キ液の濃度分極を是正する。また、電鋳槽12中央には
窒素ノズル44も設けられ、ガラス円盤24と補助電極
34間に窒素を吹出して、ガラス円盤24表面の水素ガ
スの追出しを行つ。
ス円盤24と補助電極34間に電解液を吐出して、メツ
キ液の濃度分極を是正する。また、電鋳槽12中央には
窒素ノズル44も設けられ、ガラス円盤24と補助電極
34間に窒素を吹出して、ガラス円盤24表面の水素ガ
スの追出しを行つ。
この電鋳装置では、第1の電極であるチタニウムバスケ
ット18に相対して第2の電極であるガラス円盤24が
設けられ、これらチタニウムバスゲット18とガラス円
盤24の間に第3の電極である補助電極34が挿入され
た構造になっている。
ット18に相対して第2の電極であるガラス円盤24が
設けられ、これらチタニウムバスゲット18とガラス円
盤24の間に第3の電極である補助電極34が挿入され
た構造になっている。
プログラムされた電源電圧はチタニウムバスケ・ソト1
8とカラス円盤24と補助電極34に印加される。第1
の電極であるチタニウムバスゲット18、第2の電極で
あるカラス円盤24、第3の電極である補助電極34か
ら選択された2つの電極に、正又は負の電圧が印加され
る。
8とカラス円盤24と補助電極34に印加される。第1
の電極であるチタニウムバスゲット18、第2の電極で
あるカラス円盤24、第3の電極である補助電極34か
ら選択された2つの電極に、正又は負の電圧が印加され
る。
ガラス円盤24にニッケルを@省するときには、チタニ
ウムバスケット18が正、ガラス円盤24が負になるよ
うな電圧を印加し、チタニウムバスゲット18をアノー
ドとしてガラス円盤24をカソードとして機能させる。
ウムバスケット18が正、ガラス円盤24が負になるよ
うな電圧を印加し、チタニウムバスゲット18をアノー
ドとしてガラス円盤24をカソードとして機能させる。
このとき、補助電極34はフローティングである。
カラス円盤24の表面に電着したニッケルをエツチング
するときには、カラス円盤24が正、補助電極34が負
になるような電圧を印加し、ガラス円盤24をアノード
として補助電極34をカソードとして機能させる。この
とき、チタニウムバスケット18は70−ティングであ
る。したがって、ガラス円盤24からエツチングされた
ニッケルは全て補助電極34により捕獲され、イオウ含
有ニラゲル16やチタニウムバスケット18が汚染され
ない。
するときには、カラス円盤24が正、補助電極34が負
になるような電圧を印加し、ガラス円盤24をアノード
として補助電極34をカソードとして機能させる。この
とき、チタニウムバスケット18は70−ティングであ
る。したがって、ガラス円盤24からエツチングされた
ニッケルは全て補助電極34により捕獲され、イオウ含
有ニラゲル16やチタニウムバスケット18が汚染され
ない。
この電鋳装置に用いられる本実施例の回転体通電機構5
0の詳細を第2図及び第3図を用いて説明する。第2図
は回転体通電機構50のA−A線断面図、第3図は同B
−B線断面図である。
0の詳細を第2図及び第3図を用いて説明する。第2図
は回転体通電機構50のA−A線断面図、第3図は同B
−B線断面図である。
回転体通電am5oは、回転体であるガラス円盤24を
保持する回転治具22をモータ26により回転しながら
、回転治具22のシャフト22aに通電する機構である
。
保持する回転治具22をモータ26により回転しながら
、回転治具22のシャフト22aに通電する機構である
。
シャフト22aの先端には、例えば鉄又は5US316
で作られたブッシング52が取付けられ、このブッシン
グ52がプラスチッククロス53を介してモータ26の
駆動軸26aに取付けられている。シャフト22aは例
えば5US316で作られている。
で作られたブッシング52が取付けられ、このブッシン
グ52がプラスチッククロス53を介してモータ26の
駆動軸26aに取付けられている。シャフト22aは例
えば5US316で作られている。
ブッシング52には円筒ころ軸受54が嵌着されている
0円筒ころ軸受54は例えば5US316製の内輪54
aと外輪54bの間に同じ<5US316L製の円筒形
のころ54cを封入したものである。円筒ころ軸受54
の内輪54aがブヅシンク52に嵌着され、その外!!
54 bには5US316L製のロッド取付用部材56
が固着されている。
0円筒ころ軸受54は例えば5US316製の内輪54
aと外輪54bの間に同じ<5US316L製の円筒形
のころ54cを封入したものである。円筒ころ軸受54
の内輪54aがブヅシンク52に嵌着され、その外!!
54 bには5US316L製のロッド取付用部材56
が固着されている。
ロッド取付用部材56には通電のために、例えば5US
316L製のロッド58がねじ止めされている。ロッド
58のロック用ナツト58aとロッド取付用部材56の
間にスプリング60か挿入され、常に一定の力を円筒こ
ろ軸受54に加えるようにしている。@源からの通電用
ケーブル62の先端は電極ナツト64に圧着され、この
電極ナツト64はロッド58の先端に取付けられる。
316L製のロッド58がねじ止めされている。ロッド
58のロック用ナツト58aとロッド取付用部材56の
間にスプリング60か挿入され、常に一定の力を円筒こ
ろ軸受54に加えるようにしている。@源からの通電用
ケーブル62の先端は電極ナツト64に圧着され、この
電極ナツト64はロッド58の先端に取付けられる。
これらブッシング52、円筒ころ軸受54等の回転体通
電811$150の回転部分は全体がホルダ66により
覆われている。このホルダ66は例えばアルミニウム又
は5US316により作られ、回転治具22゛のシャフ
ト22aを玉軸受68を介して支持し、ブッシング52
を玉軸受70を介して支持している。また、ホルダ66
にはストレーナ72が設けられ、回転により発生する金
属粉等の異物が外部の電鋳装置内に散らないようにして
いる。あるいは、この穴を通して真空ポンプ(図示せず
)により回転通電機構50内部を排気する。
電811$150の回転部分は全体がホルダ66により
覆われている。このホルダ66は例えばアルミニウム又
は5US316により作られ、回転治具22゛のシャフ
ト22aを玉軸受68を介して支持し、ブッシング52
を玉軸受70を介して支持している。また、ホルダ66
にはストレーナ72が設けられ、回転により発生する金
属粉等の異物が外部の電鋳装置内に散らないようにして
いる。あるいは、この穴を通して真空ポンプ(図示せず
)により回転通電機構50内部を排気する。
この回転体通@機構うOにおいて通電用ケーブル62は
、電極ナツト64、ロッド58、ロッド取付用部材56
、円筒ころ軸受54、ブッシング52、シャフト22a
、回転治具22を介して、ガラス円盤24に電気的に接
続されている。非回転部分と回転部分は円筒ころ軸受5
4を介して電気的に接続されている。円筒ころ軸受54
において、内輪54aと外輪54bはころ54cと線接
触しているため、機械的に円滑に回転すると共に、電気
的には小さな接触抵抗で接続することができる。
、電極ナツト64、ロッド58、ロッド取付用部材56
、円筒ころ軸受54、ブッシング52、シャフト22a
、回転治具22を介して、ガラス円盤24に電気的に接
続されている。非回転部分と回転部分は円筒ころ軸受5
4を介して電気的に接続されている。円筒ころ軸受54
において、内輪54aと外輪54bはころ54cと線接
触しているため、機械的に円滑に回転すると共に、電気
的には小さな接触抵抗で接続することができる。
本実施例の回転体通電機構を電鋳装置に用いた場合の電
圧変動を測定した。
圧変動を測定した。
電解液としてスルファミン酸ニッケル水溶液を用いた。
スルファミン酸ニッケル水溶液の組成は、Ni (NH
2SO3)2 ・4H20を400 g/j、N1Cj
□・6H20を4 g/、11 、 H,BO3を40
g/J!であり、pHは4.0であった。
2SO3)2 ・4H20を400 g/j、N1Cj
□・6H20を4 g/、11 、 H,BO3を40
g/J!であり、pHは4.0であった。
電解液温度を55℃とし、本積10へのフィルタリング
流量は20J/minとした。カソードて′あるガラス
円盤24は198mmφ(通電有効エリア)であり、そ
の回転数を80rpmとした。
流量は20J/minとした。カソードて′あるガラス
円盤24は198mmφ(通電有効エリア)であり、そ
の回転数を80rpmとした。
カソードであるガラス円盤24とアノードであるチタニ
ウムバスケット18との距離を144mmとした。ガラ
ス円盤24に流れる最終的な電流値を5OAとして測定
した。
ウムバスケット18との距離を144mmとした。ガラ
ス円盤24に流れる最終的な電流値を5OAとして測定
した。
その結果、第4図に示すように14Vの電圧に対し、電
圧変動がわずか±10mVと極めて小さかった。100
時間以上経っても電圧変動は±10mV程度に抑えられ
た。スタンパの膜厚を0゜3 m mとしたとき平滑剤
は一切使用せず、本積10におけるN2バブリングによ
る攪拌を行うこともなく、スタンパ裏面の粗さは5〜7
μm台におさまり・た。
圧変動がわずか±10mVと極めて小さかった。100
時間以上経っても電圧変動は±10mV程度に抑えられ
た。スタンパの膜厚を0゜3 m mとしたとき平滑剤
は一切使用せず、本積10におけるN2バブリングによ
る攪拌を行うこともなく、スタンパ裏面の粗さは5〜7
μm台におさまり・た。
本発明は上記実施例に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記実施例ではアノードとカソードの他に補助
電極を有する3極型電鋳装置に本発明の回転体通電機構
を用いたが、アノードとカソードを有する2極型電鋳装
置に本発明を適用しても有効である。また、電鋳装置に
限らす回転体に電圧を印加して通電する必要があればい
かなる装置にも適用することがでさる。
電極を有する3極型電鋳装置に本発明の回転体通電機構
を用いたが、アノードとカソードを有する2極型電鋳装
置に本発明を適用しても有効である。また、電鋳装置に
限らす回転体に電圧を印加して通電する必要があればい
かなる装置にも適用することがでさる。
[発明の効果]
以上の通り、本発明によれば、長時間回転させても回転
体への印加電圧の変動を小さく抑えることできる。
体への印加電圧の変動を小さく抑えることできる。
第1図は本発明の一実施例による回転体通電機構を用い
た電鋳装置を示す図、 第2図は同回転体通電機構のA−A線断面図、第3図は
同回転体通電機構のB−B線断面図、第4図は本発明の
一実施例の回転体通電機構を用いた電8装置における電
圧変動を示すグラフ、第5図は従来の回転体通電機構を
示す図、第6図は従来の回転体通電機構を用いた電鋳装
置における電圧変動を示すグラフである。 図において、 10・・・本積 12・・・@鋳槽 14・・・オーバーフロー槽 15・・・ドレイン 16・・・イオウ含有ニッケル 18・・・チタニウムバスケット 20・・・ドレイン 22・・・回転治具 22a・・・シャフト 24・・・ガラス円盤 26・・・モータ 26a・・・駆動軸 28・・・バッフル板 32・・・フィルタクロス 33・・・スペーサ 34・・・補助電極 40・・・バッフル板 42・・・電解液ノズル 4・・・窒素ノズル 0・・・回転体通電機構 2・・・ブッシング 3・・・グラスチッククロス 4・・・円筒ころ軸受 4a・・・内輪 4b・・・外輪 4C・・・ころ 6・・・口・ソド取付用部材 8・・・ロッド 8a・・・ロック用ナツト 0・・・スプリング 2・・・通電用ケーブル 4・・・電極ナツト 6・・・ホルダ 8・・・玉軸受 0・・・玉軸受 2・・・ストレーナ 00・・・回転体通電機構 01・・・シャフト 02・・・ブ・ソシング 04・・・プラスチッククロス 06・・・駆動軸 08・・・通電用ケーブル 10・・・ロンド 12・・・ステータ
た電鋳装置を示す図、 第2図は同回転体通電機構のA−A線断面図、第3図は
同回転体通電機構のB−B線断面図、第4図は本発明の
一実施例の回転体通電機構を用いた電8装置における電
圧変動を示すグラフ、第5図は従来の回転体通電機構を
示す図、第6図は従来の回転体通電機構を用いた電鋳装
置における電圧変動を示すグラフである。 図において、 10・・・本積 12・・・@鋳槽 14・・・オーバーフロー槽 15・・・ドレイン 16・・・イオウ含有ニッケル 18・・・チタニウムバスケット 20・・・ドレイン 22・・・回転治具 22a・・・シャフト 24・・・ガラス円盤 26・・・モータ 26a・・・駆動軸 28・・・バッフル板 32・・・フィルタクロス 33・・・スペーサ 34・・・補助電極 40・・・バッフル板 42・・・電解液ノズル 4・・・窒素ノズル 0・・・回転体通電機構 2・・・ブッシング 3・・・グラスチッククロス 4・・・円筒ころ軸受 4a・・・内輪 4b・・・外輪 4C・・・ころ 6・・・口・ソド取付用部材 8・・・ロッド 8a・・・ロック用ナツト 0・・・スプリング 2・・・通電用ケーブル 4・・・電極ナツト 6・・・ホルダ 8・・・玉軸受 0・・・玉軸受 2・・・ストレーナ 00・・・回転体通電機構 01・・・シャフト 02・・・ブ・ソシング 04・・・プラスチッククロス 06・・・駆動軸 08・・・通電用ケーブル 10・・・ロンド 12・・・ステータ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 回転体に電圧を印加して通電する回転体通電機構におい
て、 前記回転体の回転軸に内輪が嵌着された円筒ころ軸受と
、 前記円筒ころ軸受の外輪に取付けられた電圧印加用電極
とを有し、 前記電圧印加用電極に電圧を印加することにより、前記
円筒ころ軸受を介して前記回転体に電圧を印加すること
を特徴とする回転体通電機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020257A JPH03226244A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 回転体通電機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020257A JPH03226244A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 回転体通電機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03226244A true JPH03226244A (ja) | 1991-10-07 |
Family
ID=12022144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020257A Pending JPH03226244A (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 回転体通電機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03226244A (ja) |
-
1990
- 1990-01-30 JP JP2020257A patent/JPH03226244A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102965719A (zh) | 薄膜金属和合金的低速率电化学蚀刻 | |
| CA2545365A1 (en) | Electropolishing apparatus and method for medical implants | |
| BE1005928A5 (fr) | Materiau structurel pour electrode insoluble. | |
| US5441627A (en) | Metal foil manufacturing method and an anodized film forming apparatus used therefor | |
| ES8505737A1 (es) | Procedimiento pra recubrir con una capa metalica, por via electrolitica, de forma continua uno o ambos lados de una tira metalica | |
| Zakharchuk et al. | Modified thick‐film graphite electrodes: Morphology and stripping voltammetry | |
| JP7166215B2 (ja) | コバルト用電極板の表面加工方法、コバルトの電解精製方法および、電気コバルトの製造方法 | |
| JPS59150094A (ja) | 円盤状回転式メツキ装置 | |
| JPH0246680B2 (ja) | ||
| JP3224329B2 (ja) | 不溶性金属陽極 | |
| KR0135367B1 (ko) | 은/염화은 전극의 제조방법 | |
| JP3884150B2 (ja) | 高速メッキ装置及び高速メッキ方法 | |
| JP3401117B2 (ja) | アルカリ性亜鉛めっき浴の亜鉛イオン濃度上昇防止方法 | |
| SU779446A1 (ru) | Устройство дл нанесени гальванических покрытий контактным способом | |
| JP2870301B2 (ja) | 電鋳装置 | |
| JPH07157892A (ja) | 電気めっき方法 | |
| JP2002004076A (ja) | 電鋳装置 | |
| JPS61227198A (ja) | プリンタ印字輪等の円形外周部にメツキする方法及びこの方法に用いるメツキ装置 | |
| JP2001234382A (ja) | ニッケル電鋳方法及び装置 | |
| KR900004056B1 (ko) | 메탈 테이프(metal tape)용 동박막을 제조하는 방법 | |
| JPH03202485A (ja) | 電鋳装置及び方法 | |
| JPS5989782A (ja) | 回転記録体用スタンパ−の電鋳方法 | |
| JPS5889370A (ja) | インクジエツトノズル | |
| JPS6221878B2 (ja) | ||
| JPH07262912A (ja) | 電子放出用冷陰極の製造方法およびタングステン層もしくはその合金層のパターニング方法 |