JPH032264B2 - - Google Patents
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- JPH032264B2 JPH032264B2 JP57502655A JP50265582A JPH032264B2 JP H032264 B2 JPH032264 B2 JP H032264B2 JP 57502655 A JP57502655 A JP 57502655A JP 50265582 A JP50265582 A JP 50265582A JP H032264 B2 JPH032264 B2 JP H032264B2
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- cleaning
- rinsing
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- washing
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L13/00—Cleaning or rinsing apparatus
- B01L13/02—Cleaning or rinsing apparatus for receptacle or instruments
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L2300/00—Additional constructional details
- B01L2300/08—Geometry, shape and general structure
- B01L2300/0809—Geometry, shape and general structure rectangular shaped
- B01L2300/0829—Multi-well plates; Microtitration plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L3/00—Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
- B01L3/50—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
- B01L3/508—Rigid containers without fluid transport within
- B01L3/5085—Rigid containers without fluid transport within for multiple samples, e.g. microtitration plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L9/00—Supporting devices; Holding devices
- B01L9/52—Supports specially adapted for flat sample carriers, e.g. for plates, slides, chips
- B01L9/523—Supports specially adapted for flat sample carriers, e.g. for plates, slides, chips for multisample carriers, e.g. used for microtitration plates
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Clinical Laboratory Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
- Collation Of Sheets And Webs (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、各凹所内に濯ぎ液を供給するノズル
を有する供給手段、凹所から液体を排出するため
の吸上げおよび/または吹き飛し手段、および前
記滴定板を洗浄場所に動かしかつ該滴定板をそこ
で正確な位置に保持するための案内手段を含む、
被試験または被測定媒質、例えば抗原を収容する
多数の凹所をもつ滴定板等用の自動洗浄・濯ぎ装
置に関するものである。
を有する供給手段、凹所から液体を排出するため
の吸上げおよび/または吹き飛し手段、および前
記滴定板を洗浄場所に動かしかつ該滴定板をそこ
で正確な位置に保持するための案内手段を含む、
被試験または被測定媒質、例えば抗原を収容する
多数の凹所をもつ滴定板等用の自動洗浄・濯ぎ装
置に関するものである。
医学実験技術においては、例えば抗原および/
または抗体を測定するために、エリザ方法(アン
ザイム・リンクド・イムノソーベント・アセイ)
およびこのシステムの種々の方法が適用される。
抗原を測定するとき、例えば、抗体は最初の工程
段階で滴定板に吸着され、続いて滴定板は洗浄さ
れ、次いでさらに追加の工程段階において、抗原
を含む残留溶液が混合され、次いで再び洗浄し、
そこで酵素マークされた特定の抗体が滴定板上に
置かれ、次いで再び滴定板を洗浄し、そこで酵素
基質の混合が行われる。
または抗体を測定するために、エリザ方法(アン
ザイム・リンクド・イムノソーベント・アセイ)
およびこのシステムの種々の方法が適用される。
抗原を測定するとき、例えば、抗体は最初の工程
段階で滴定板に吸着され、続いて滴定板は洗浄さ
れ、次いでさらに追加の工程段階において、抗原
を含む残留溶液が混合され、次いで再び洗浄し、
そこで酵素マークされた特定の抗体が滴定板上に
置かれ、次いで再び滴定板を洗浄し、そこで酵素
基質の混合が行われる。
実際の測定は光度計によつて行なわれる。
前述の例から理解することができるように、滴
定板の洗浄は方法の必須の構成部分であり、この
洗浄は、一方で、比較的時間がかかりそして他方
でさらに、滴定板を手で取り扱うのが望ましくな
い非常に有害な、すなわち高病原性の活性物質が
処理されねばならないという欠点を有する。
定板の洗浄は方法の必須の構成部分であり、この
洗浄は、一方で、比較的時間がかかりそして他方
でさらに、滴定板を手で取り扱うのが望ましくな
い非常に有害な、すなわち高病原性の活性物質が
処理されねばならないという欠点を有する。
しかしながら、滴定板の洗浄時に生起する本質
的な問題は以下のものである。現在使用の滴定板
は96個の凹所を有し、これらの凹所は各々実質的
に容器に対応する。この方法実施中または抗原ま
たは抗体を同定しかつ測定するとき、試料(例え
ば、異なる種々の患者の試料)は各凹所内にあ
る。そこで滴定板を処理するとき、試料の一部が
1つの凹所から他の凹所に達することが確実に阻
止されねばならず、そしてこれはとくに洗浄中に
は阻止し難い。
的な問題は以下のものである。現在使用の滴定板
は96個の凹所を有し、これらの凹所は各々実質的
に容器に対応する。この方法実施中または抗原ま
たは抗体を同定しかつ測定するとき、試料(例え
ば、異なる種々の患者の試料)は各凹所内にあ
る。そこで滴定板を処理するとき、試料の一部が
1つの凹所から他の凹所に達することが確実に阻
止されねばならず、そしてこれはとくに洗浄中に
は阻止し難い。
したがつて、本発明の課題は、滴定板を安全な
機構により洗浄することができ、そして試料の一
部が一方の凹所から他方の凹所に達するのを阻止
し、かつ試料の如何なる汚染も全く排除される前
記のような洗浄・濯ぎ装置を提供することであ
る。
機構により洗浄することができ、そして試料の一
部が一方の凹所から他方の凹所に達するのを阻止
し、かつ試料の如何なる汚染も全く排除される前
記のような洗浄・濯ぎ装置を提供することであ
る。
本発明によれば、上記課題は、濯がれるべき滴
定板が案内手段によつて密封接触にもたらされか
つ滴定板が洗浄または濯ぎ作業中圧力で保持され
るノズルを備えた洗浄板によつて解決され、滴定
板の各凹所にはノズルが配置されていて、凹所を
排出溝に連絡する環状隙間を形成し、個々の凹所
は他の凹所に対して密封されるようになつてい
る。
定板が案内手段によつて密封接触にもたらされか
つ滴定板が洗浄または濯ぎ作業中圧力で保持され
るノズルを備えた洗浄板によつて解決され、滴定
板の各凹所にはノズルが配置されていて、凹所を
排出溝に連絡する環状隙間を形成し、個々の凹所
は他の凹所に対して密封されるようになつてい
る。
上記方法は、自動装置を適用し得る範囲の一例
のみを説明するものであることを再びここに述べ
る。同様な方法および同様な測定溝はまた農学お
よび生物学および生化学においても適用される。
さらに、「滴定板(titration plate)」の語は限定
された意味に理解されるべきではない。多数の隣
接して配置された凹所が同時に洗浄されるという
のが本質的なことである。もちろん、凹所を列に
して、または個々の容器を同様に支持フレームに
支持し、そして自動洗・濯ぎ装置に搬送すること
ができる。
のみを説明するものであることを再びここに述べ
る。同様な方法および同様な測定溝はまた農学お
よび生物学および生化学においても適用される。
さらに、「滴定板(titration plate)」の語は限定
された意味に理解されるべきではない。多数の隣
接して配置された凹所が同時に洗浄されるという
のが本質的なことである。もちろん、凹所を列に
して、または個々の容器を同様に支持フレームに
支持し、そして自動洗・濯ぎ装置に搬送すること
ができる。
基本的には、本発明による自動濯ぎ装置用の洗
浄および濯ぎ液として水道水が使用される。圧縮
空気が乾燥媒体として用いられる。
浄および濯ぎ液として水道水が使用される。圧縮
空気が乾燥媒体として用いられる。
しかしながら、本発明による装置においては、
他の濯ぎ液体、例えば蒸留水または緩衝液を使用
しても良い。他のガス状媒体、例えば酸素を圧縮
空気の代りに使用することもできる。
他の濯ぎ液体、例えば蒸留水または緩衝液を使用
しても良い。他のガス状媒体、例えば酸素を圧縮
空気の代りに使用することもできる。
ガス状媒体がパルス状にノズルを通るようにす
るのが好ましく、こうして清浄および乾燥効果が
本質的に改善される。
るのが好ましく、こうして清浄および乾燥効果が
本質的に改善される。
本発明の実施例において、洗浄板は気密な洗浄
室内に配置される。洗浄室内には洗浄板と濯ぎを
すべき滴定板との間の密封状態を検査しかつ場合
により漏洩が検出されると洗浄板用の予めプログ
ラムした自動清浄工程を開始するセンサを配置し
ても良く、その結果次の滴定板の汚染が防止され
る。
室内に配置される。洗浄室内には洗浄板と濯ぎを
すべき滴定板との間の密封状態を検査しかつ場合
により漏洩が検出されると洗浄板用の予めプログ
ラムした自動清浄工程を開始するセンサを配置し
ても良く、その結果次の滴定板の汚染が防止され
る。
しかしながら、このような自動清浄は予め設定
された数の清浄すべき滴定板の通過後に補助的に
自動的に行なつても良い。これは洗浄板のノズル
側に対置する清浄ノズルによつて行なつても良
い。しかしながら、洗浄板を滴定板から持ち上げ
る(またはその逆を行う)ための手段を設けても
良く、それにより洗浄板ノズルを通る液体の通過
後さらに液体は、洗浄板が持上げ位置にあると
き、ノズルを通過することができる。洗浄板と滴
定板とは互いに近距離にあるので、該洗浄板と滴
定板の表面は濯ぎ媒体の相当する圧力で清浄にさ
れる。
された数の清浄すべき滴定板の通過後に補助的に
自動的に行なつても良い。これは洗浄板のノズル
側に対置する清浄ノズルによつて行なつても良
い。しかしながら、洗浄板を滴定板から持ち上げ
る(またはその逆を行う)ための手段を設けても
良く、それにより洗浄板ノズルを通る液体の通過
後さらに液体は、洗浄板が持上げ位置にあると
き、ノズルを通過することができる。洗浄板と滴
定板とは互いに近距離にあるので、該洗浄板と滴
定板の表面は濯ぎ媒体の相当する圧力で清浄にさ
れる。
本発明による自動洗浄または濯ぎ装置は、有利
には、クリヤランスを保つて滴定板を保持する案
内手段を備えていて、滴定板はその側部および下
側縁に沿つて案内されるので、その結果滴定板の
下側は汚染されない。このことは試料の次の測定
のために重要なことである。
には、クリヤランスを保つて滴定板を保持する案
内手段を備えていて、滴定板はその側部および下
側縁に沿つて案内されるので、その結果滴定板の
下側は汚染されない。このことは試料の次の測定
のために重要なことである。
本発明のさらに他の実施態様においては、好し
くは洗浄領域において、滴定板用の傾斜手段が設
けられる。ここで滴定板は洗浄板とともに傾斜す
ることができる。濯ぎ液が下側に向つて流れ去る
ことができ、そしてこの状況下では圧縮空気によ
る別個の乾燥工程を必要としないということが、
この実施態様の利点である。
くは洗浄領域において、滴定板用の傾斜手段が設
けられる。ここで滴定板は洗浄板とともに傾斜す
ることができる。濯ぎ液が下側に向つて流れ去る
ことができ、そしてこの状況下では圧縮空気によ
る別個の乾燥工程を必要としないということが、
この実施態様の利点である。
次に本発明を添付図面の各図を参照して詳細に
説明するが、本発明は、本発明の概念を離脱する
ことなく実施例の種々の変形が考えられかつ可能
であるので、図示の実施例に限定されるものでは
ない。
説明するが、本発明は、本発明の概念を離脱する
ことなく実施例の種々の変形が考えられかつ可能
であるので、図示の実施例に限定されるものでは
ない。
〔実施例〕
第1図は凹所2を有する滴定板1を示してい
る。現在使用中の滴定板1は一般に合計96個の凹
所を形成する12個8列の凹所2を有している。
る。現在使用中の滴定板1は一般に合計96個の凹
所を形成する12個8列の凹所2を有している。
この実施例において、本発明による自動洗浄ま
たは濯ぎ装置は積卸し手段3、洗浄位置6および
積重ね手段4を有している。
たは濯ぎ装置は積卸し手段3、洗浄位置6および
積重ね手段4を有している。
洗浄されかつ濯がれるべき滴定板1は、例え
ば、10枚の積層で積卸し手段3に置かれ、歯付き
ベルト7を有する搬送手段によつて洗浄板5の下
方で洗浄位置に矢印Vの方向に個々に動かされ、
そして濯ぎ終了後積重ね手段4に配置される。
ば、10枚の積層で積卸し手段3に置かれ、歯付き
ベルト7を有する搬送手段によつて洗浄板5の下
方で洗浄位置に矢印Vの方向に個々に動かされ、
そして濯ぎ終了後積重ね手段4に配置される。
洗浄板5の下方には滴定板1が、該滴定板1の
正確な位置決めのため、心出し手段9、例えば、
心出しボルトを備えた支持板8上に横たわるよう
になる。
正確な位置決めのため、心出し手段9、例えば、
心出しボルトを備えた支持板8上に横たわるよう
になる。
滴定板1がその所望位置にあるとき、支持板8
は、例えば空気式シリンダである下げるための手
段10によつて持ち上げられ、そして滴定板1は
洗浄板5に押し付けられる。
は、例えば空気式シリンダである下げるための手
段10によつて持ち上げられ、そして滴定板1は
洗浄板5に押し付けられる。
とくに第3図および第3a図に見られるよう
に、洗浄板5は多数のノズル11を有し、その数
および位置は滴定板1の凹所2の数および位置に
正確に一致する。従つて本実施例においては、洗
浄板5は96個のノズル11を有している。洗浄板
5が滴定板1に押し付けられるとき、第3a図か
らわかるように、ノズル11は各凹所2と連係す
る。
に、洗浄板5は多数のノズル11を有し、その数
および位置は滴定板1の凹所2の数および位置に
正確に一致する。従つて本実施例においては、洗
浄板5は96個のノズル11を有している。洗浄板
5が滴定板1に押し付けられるとき、第3a図か
らわかるように、ノズル11は各凹所2と連係す
る。
ノズル11のまわりには環状スリツト12が形
成されていて、濯ぎ液の通過および排出溝13内
の乾燥および圧縮空気の通過ができるようになつ
ている。排出溝13は洗浄板5の出口Aに開口し
ている。
成されていて、濯ぎ液の通過および排出溝13内
の乾燥および圧縮空気の通過ができるようになつ
ている。排出溝13は洗浄板5の出口Aに開口し
ている。
滴定板1が持ち上げられて洗浄板5に押し付け
られるときに、第1作業サイクルにおいて、濯ぎ
液、例えば水は1個または数個の入口Eを通つて
洗浄板5内へ押し込まれ、かつ滴定板1の凹所2
内へ4バールまでの圧力下でノズル11を通つて
入る。渦流が発生し、かつ濯ぎ媒体が各環状隙間
12を通つて排出溝13に達する。
られるときに、第1作業サイクルにおいて、濯ぎ
液、例えば水は1個または数個の入口Eを通つて
洗浄板5内へ押し込まれ、かつ滴定板1の凹所2
内へ4バールまでの圧力下でノズル11を通つて
入る。渦流が発生し、かつ濯ぎ媒体が各環状隙間
12を通つて排出溝13に達する。
前記排出を改善し、かつ一定の吸上げ作用を得
るために、ノズル11のノズルヘツド11′は、
それらの断面が前方から後方に減少するような形
状になつている。
るために、ノズル11のノズルヘツド11′は、
それらの断面が前方から後方に減少するような形
状になつている。
第4図ないし第6図にはノズルヘツド11′の
異なる実施例が示してある。
異なる実施例が示してある。
濯ぎ後、液状媒体の供給が絶たれ、そして圧縮
空気が同一入口Eおよび同一ノズル11を通つて
凹所2内へ押し込まれる。
空気が同一入口Eおよび同一ノズル11を通つて
凹所2内へ押し込まれる。
圧縮空気の湿度および温度は調整および制御可
能である。圧縮空気によつて濯ぎ液の残部が環状
隙間12を通つて排出溝13内に押し込まれ、か
つ出口Aに導かれる。
能である。圧縮空気によつて濯ぎ液の残部が環状
隙間12を通つて排出溝13内に押し込まれ、か
つ出口Aに導かれる。
滴定板は支持板8によつて再び下降され、かつ
歯付きベルト7によつて積重ね手段4に搬送され
る。
歯付きベルト7によつて積重ね手段4に搬送され
る。
しかしながら、滴定板1のカバー面1′と洗浄
板5の密封板14との間に小さな隙間のみが生じ
るように、滴定板1を洗浄板5から僅かだけ下降
するようにすることもできる。濯ぎ液がノズル1
1を通つて再び押し込められるときに、滴定板1
の密封板14と洗浄板5のカバー面が同様に清浄
にされる。このような後濯ぎは乾燥サイクルの
前、すなわち上述した圧縮空気の供給前にするの
が好ましい。
板5の密封板14との間に小さな隙間のみが生じ
るように、滴定板1を洗浄板5から僅かだけ下降
するようにすることもできる。濯ぎ液がノズル1
1を通つて再び押し込められるときに、滴定板1
の密封板14と洗浄板5のカバー面が同様に清浄
にされる。このような後濯ぎは乾燥サイクルの
前、すなわち上述した圧縮空気の供給前にするの
が好ましい。
滴定板1は支持板8によつて再び洗浄板5に対
して押し付けられ、そこで圧縮空気が供給され、
かつ滴定板1が乾燥される。本実施例においては
プラスチツク材料からなる密封板14が洗浄板5
に設けられる。
して押し付けられ、そこで圧縮空気が供給され、
かつ滴定板1が乾燥される。本実施例においては
プラスチツク材料からなる密封板14が洗浄板5
に設けられる。
第9図による洗浄板5の実施例において、洗浄
板5はノズル11を備えた上方固定部5aと下方
可動部5bに分割されている。上方固定部5aに
はまた前室16または供給パイプ15がある。下
方可動部5bはノズル11に対して同心でかつノ
ズル11とともに環状隙間12を形成する孔を有
している。下方可動部が上方固定部に対して押し
付けられると、ノズル11は、図示のごとく、下
方可動部5bの孔を通つて突出する。下方可動部
5bにはさらに排出溝13、滴定板1と洗浄板5
との間の密封板14および上方部5aおよび下方
部5bに更に他の密封板14′が設けられる。
板5はノズル11を備えた上方固定部5aと下方
可動部5bに分割されている。上方固定部5aに
はまた前室16または供給パイプ15がある。下
方可動部5bはノズル11に対して同心でかつノ
ズル11とともに環状隙間12を形成する孔を有
している。下方可動部が上方固定部に対して押し
付けられると、ノズル11は、図示のごとく、下
方可動部5bの孔を通つて突出する。下方可動部
5bにはさらに排出溝13、滴定板1と洗浄板5
との間の密封板14および上方部5aおよび下方
部5bに更に他の密封板14′が設けられる。
ノズル11は上記実施例の場合よりも延長さ
れ、かつ洗浄作業の開始またはその直前において
下方可動部5bがノズル11の下方端に下降され
る。押進するとき、最初に滴定板1は洗浄板5の
下方可動部5bと密接している。次に下方可動部
5bは滴定板1と共に上方固定部5aに向つて動
かされる。そこで、ノズル11は滴定板1の凹所
2内に入り、かつ下方可動部5bが上方固定部5
aに対して密接して押し付けられるまで、排出溝
13の方向に排出すべき液体を部分的に排除す
る。かくして、システムは閉鎖され、そして濯ぎ
作業を開始することができる。
れ、かつ洗浄作業の開始またはその直前において
下方可動部5bがノズル11の下方端に下降され
る。押進するとき、最初に滴定板1は洗浄板5の
下方可動部5bと密接している。次に下方可動部
5bは滴定板1と共に上方固定部5aに向つて動
かされる。そこで、ノズル11は滴定板1の凹所
2内に入り、かつ下方可動部5bが上方固定部5
aに対して密接して押し付けられるまで、排出溝
13の方向に排出すべき液体を部分的に排除す
る。かくして、システムは閉鎖され、そして濯ぎ
作業を開始することができる。
この実施例の利点は以下の通りである。すなわ
ち、各環状隙間12のための同心孔の大きさが、
ノズル11の侵入によつて排除される液体が同心
孔(隙間12)内に収容され、したがつて汚染が
防止されるようになつているということである。
好しくは筒状のノズル11およびその凹部2内へ
の侵入により、濯がれかつ乾燥されるべき凹部2
の容量は減少される。ノズル11は凹部2内に好
しくは2/3まで侵入する。こうして生ずる増大流
速は清浄および乾燥効率を増大する。
ち、各環状隙間12のための同心孔の大きさが、
ノズル11の侵入によつて排除される液体が同心
孔(隙間12)内に収容され、したがつて汚染が
防止されるようになつているということである。
好しくは筒状のノズル11およびその凹部2内へ
の侵入により、濯がれかつ乾燥されるべき凹部2
の容量は減少される。ノズル11は凹部2内に好
しくは2/3まで侵入する。こうして生ずる増大流
速は清浄および乾燥効率を増大する。
さくに濯ぎ媒体にノズル11において一定圧力
を得るために、洗浄板5には、第7図に示される
ごとく、入口Eが常に接続バーの中心に配置され
るH形の供給溝15を設けるか、または第8図に
示すごとく、洗浄板5は、濯ぎ媒体用の入口Eか
ら見るとき、室の断面が一つの列のノズルから次
の列のノズルに減少するように傾斜壁16′を持
つ1個または数個の前室16を有することができ
る。
を得るために、洗浄板5には、第7図に示される
ごとく、入口Eが常に接続バーの中心に配置され
るH形の供給溝15を設けるか、または第8図に
示すごとく、洗浄板5は、濯ぎ媒体用の入口Eか
ら見るとき、室の断面が一つの列のノズルから次
の列のノズルに減少するように傾斜壁16′を持
つ1個または数個の前室16を有することができ
る。
本発明による自動洗浄および濯ぎ装置におい
て、空気、水および流れを供給するための接続機
構は好しくは装置の後側にあり、さらに濯ぎ媒体
および圧縮空気のための圧力を制御する減圧弁お
よび圧力計が組み込まれる。歯付きベルト7は好
しくは直流電動機によつて作動される。洗浄板5
は有利にはクイツクロツクによつて交換可能であ
る。本装置の制御はマイクロプロセツサによつて
行なわれる。洗浄、載置および乾燥サイクルの周
期は自由に選択することができ、それらの進路お
よび繰返しサイクルもまた自由に選択可能であ
る。
て、空気、水および流れを供給するための接続機
構は好しくは装置の後側にあり、さらに濯ぎ媒体
および圧縮空気のための圧力を制御する減圧弁お
よび圧力計が組み込まれる。歯付きベルト7は好
しくは直流電動機によつて作動される。洗浄板5
は有利にはクイツクロツクによつて交換可能であ
る。本装置の制御はマイクロプロセツサによつて
行なわれる。洗浄、載置および乾燥サイクルの周
期は自由に選択することができ、それらの進路お
よび繰返しサイクルもまた自由に選択可能であ
る。
空の積卸し手段に関しての制御、積重ね手段内
の利用可能場所のチエツク、装置内の正しい圧力
関係のチエツクおよびシステム内の漏洩のチエツ
クのため制御システムが設けられる。メツセージ
は音響信号および/または対応するLED表示に
よつて示される。
の利用可能場所のチエツク、装置内の正しい圧力
関係のチエツクおよびシステム内の漏洩のチエツ
クのため制御システムが設けられる。メツセージ
は音響信号および/または対応するLED表示に
よつて示される。
その後の滴定液の洗浄は自動的になされる。開
始指令後入力された濯ぎおよび乾燥プログラム
は、滴定板1が積卸し手段3の中に存在しなくな
るまでか、またはプログラムが停止ボタンによつ
て終了されるまで繰り返えされる。
始指令後入力された濯ぎおよび乾燥プログラム
は、滴定板1が積卸し手段3の中に存在しなくな
るまでか、またはプログラムが停止ボタンによつ
て終了されるまで繰り返えされる。
本発明の洗浄・濯ぎ装置によれば、滴定板等を
安全な機構により洗浄することができ、試料の一
部が一つの凹所から他の凹所に移行するのが阻止
され、試料の汚染を全く排除することができる。
安全な機構により洗浄することができ、試料の一
部が一つの凹所から他の凹所に移行するのが阻止
され、試料の汚染を全く排除することができる。
第1図は清浄にすべき滴定板を示す図、第2図
は本発明による自動洗浄または濯ぎ装置を示す
図、第3図は本発明による洗浄板の平面図、第3
a図は滴定板が押し付けられた洗浄板の第3図の
線−に沿う断面図、第4図ないし第6図は
種々のノズル形状を有する洗浄板の断面図、第7
図は洗浄板の概略断面図、第8図はさらに他の洗
浄板の実施例を示す第3図の線−に沿う断面
図、第9図は滴定板が押し付けられた洗浄板のさ
らに他の実施例を示す断面図である。 1……滴定板、2……凹所、5……洗浄板、8
……支持板、11……ノズル、12……環状隙
間、13……排出溝。
は本発明による自動洗浄または濯ぎ装置を示す
図、第3図は本発明による洗浄板の平面図、第3
a図は滴定板が押し付けられた洗浄板の第3図の
線−に沿う断面図、第4図ないし第6図は
種々のノズル形状を有する洗浄板の断面図、第7
図は洗浄板の概略断面図、第8図はさらに他の洗
浄板の実施例を示す第3図の線−に沿う断面
図、第9図は滴定板が押し付けられた洗浄板のさ
らに他の実施例を示す断面図である。 1……滴定板、2……凹所、5……洗浄板、8
……支持板、11……ノズル、12……環状隙
間、13……排出溝。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被試験または被測定媒質、例えば抗原を収容
するための多数の凹所をもつ滴定板用の自動洗浄
および濯ぎ装置であつて、各凹所内に濯ぎ液を供
給するノズルを有する供給手段、凹所から液体を
排出するための吸上げおよび/または吹き出し手
段、および前記滴定板を洗浄場所に動かしかつ該
滴定板をそこで正確な位置に保持するための案内
手段からなるものにおいて、濯がれるべき滴定板
1が案内手段によつて密封接触状態にもたらされ
かつ前記滴定板1が洗浄または濯ぎ作業中圧力下
に保持される、前記ノズル11を備えた洗浄板5
を有し、前記滴定板1にはノズル11が各凹部2
の上方に環状隙間12が形成されるように配置さ
れていて、凹所2内の液体は該環状隙間を通つて
洗浄板5の排出溝13を経て装置外に排出され、
個々の凹所2は他の凹所2に対して密封されてい
ることを特徴とする滴定板用の自動洗浄・濯ぎ装
置。 2 濯ぎ液は約4バールまでの過圧下において前
記ノズル11を通過することを特徴とする請求の
範囲第1項に記載の洗浄・濯ぎ装置。 3 前記ノズル11は濯ぎ液用供給装置の外に、
ガス状媒体、例えば、圧縮空気用圧力パイプに接
続可能であり、そして前記ノズル11を通る濯ぎ
液および圧縮空気の供給を制御する制御手段が設
けられることを特徴とする請求の範囲第1項に記
載の洗浄・濯ぎ装置。 4 前記ガス状媒体はパルス状にノズル11を通
過することを特徴とする請求の範囲第1項に記載
の洗浄・濯ぎ装置。 5 前記排出溝13は前記洗浄板5に加工され、
例えば、フライス加工または鋳造されることを特
徴とする請求の範囲第1項ないし第3項の何れか
1つに記載の洗浄・濯ぎ装置。 6 ノズル11が接続されている洗浄板5の1個
また数個の前室16を有し、該前室は濯ぎ液のた
めの供給開口Eおよび少なくとも一つの傾斜壁1
6′を有し、該前室の断面が一方のノズル列から
他方のノズル列に向つて減少し、そして濯ぎ液の
圧力は各ノズル11において等しいようになつて
いることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の
洗浄・濯ぎ装置。 7 前記案内手段は前記滴定板1との間にクリヤ
ランスを保持することを特徴とする請求の範囲第
1項に記載の洗浄・濯ぎ装置。 8 洗浄板5のノズル側に好ましくは交換可能な
密封板14を有することを特徴とする請求の範囲
第1項に記載の洗浄・濯ぎ装置。 9 洗浄位置6の前方に滴定板1の送り方向に配
置された積卸し手段3および洗浄装置6の後方に
配置された積重ね手段4を有し、案内手段は前記
積卸し手段3から前記洗浄板5へかつ該洗浄板5
から前記積重ね手段4へ各々1枚の滴定板1を搬
送するための搬送手段からなることを特徴とする
請求の範囲第1項ないし第7項の何れか1つに記
載の洗浄・濯ぎ装置。 10 前記案内手段は水平前方送り用搬送手段、
例えば、歯付きベルト7および前記滴定板1を洗
浄板5と密封接触状態にする支持板8を有する手
段10により形成されることを特徴とする請求の
範囲第1項、第7項または第9項の何れか1つに
記載の洗浄・濯ぎ装置。 11 積重ねの最上方の滴定板1用のカバープレ
ートが積重ね手段4に設けられていることを特徴
とする請求の範囲第9項に記載の洗浄・濯ぎ装
置。 12 ノズル11を通つて液体を通過させた後に
前記滴定板1を前記洗浄板5から下げるための手
段および前記洗浄板1の持ち上げの際にノズル1
1を通つて更に行われる液体の通過を制御するた
めの手段を有することを特徴とする請求の範囲第
1項ないし第11項の何れか1つに記載の洗浄・
濯ぎ装置。 13 前記下げるための手段10によつて可動で
ある支持板8は前記滴定板1用の心出し手段9を
有することを特徴とする請求の範囲第10項に記
載の洗浄・濯ぎ装置。 14 洗浄板5はこれに押し付けられた滴定板1
とともに好ましくは洗浄場所6で案内手段によつ
て180゜まで傾斜し得るようになつていることを特
徴とする請求の範囲第1項に記載の洗浄・濯ぎ装
置。 15 洗浄板5は2つの部分に形成され、ノズル
11および前室16または供給溝15を受容する
上方部5aおよび排出溝13が加工されかつ貫通
するノズル11に同心の孔を有する下降可能な下
方部5bからなることを特徴とする請求の範囲第
1項に記載の洗浄・濯ぎ装置。 16 ノズル11は洗浄板5の密封面14を越えて
突き出していることを特徴とする請求の範囲第1
項ないし第15項の何れか1つに記載の洗浄・濯
ぎ装置。 17 濯ぎ作業の開始前に滴定板1は、洗浄板5
の下方部5bがノズル11の端部に降下されると
き、案内手段によつて洗浄板5に配置され、そし
て次に洗浄板5の下方部5bは滴定板1とともに
洗浄板5の上方部5aまで動かされることを特徴
とする請求の範囲第15項または第16項に記載
の洗浄・濯ぎ装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| AT3758/81 | 1981-08-31 | ||
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| JPH032264B2 true JPH032264B2 (ja) | 1991-01-14 |
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ID=3555020
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