JPH03227020A - エッチング前処理液 - Google Patents
エッチング前処理液Info
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- JPH03227020A JPH03227020A JP2347790A JP2347790A JPH03227020A JP H03227020 A JPH03227020 A JP H03227020A JP 2347790 A JP2347790 A JP 2347790A JP 2347790 A JP2347790 A JP 2347790A JP H03227020 A JPH03227020 A JP H03227020A
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- Japan
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- etching
- hydrofluoric acid
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Links
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、二酸化シリコン膜のウェットエツチングにお
ける前処理液に関する。
ける前処理液に関する。
従来、二酸化シリコン膜のウェットエツチングにおいて
は、基板のエツチング液に対するぬれ性を向上させるた
めにエツチング前処理として界面活性剤の水溶液中に基
板を浸潤させる工程を有している。そして界面活性剤と
しては、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテ
ルの０．５％水溶液等が一般的に用いられている。
は、基板のエツチング液に対するぬれ性を向上させるた
めにエツチング前処理として界面活性剤の水溶液中に基
板を浸潤させる工程を有している。そして界面活性剤と
しては、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテ
ルの０．５％水溶液等が一般的に用いられている。
上述した従来の前処理液では、界面活性剤が有機炭素を
含有する物質であるため、その水溶液中では希釈に用い
た純水中の生菌が増殖しパーティクルの原因になるとい
う欠点がある。−船釣に各種のパーティクルを除くため
にウェットエツチング装置においては、前処理液の循環
フィルタリングを行っているが、フィルターから前処理
槽間の配管中でも生菌が増殖するので効果的な除去法が
無く、液の交換及び配管類の交換により対処している場
合が多い。
含有する物質であるため、その水溶液中では希釈に用い
た純水中の生菌が増殖しパーティクルの原因になるとい
う欠点がある。−船釣に各種のパーティクルを除くため
にウェットエツチング装置においては、前処理液の循環
フィルタリングを行っているが、フィルターから前処理
槽間の配管中でも生菌が増殖するので効果的な除去法が
無く、液の交換及び配管類の交換により対処している場
合が多い。
本発明は、二酸化シリコン膜のエツチング前処理液にお
いて、界面活性剤の水溶液にイオン性弗素化合物を添加
することを特徴とする。イオン性弗素化合物としては、
弗化水素酸又は弗化アンモニウムが用いられる。
いて、界面活性剤の水溶液にイオン性弗素化合物を添加
することを特徴とする。イオン性弗素化合物としては、
弗化水素酸又は弗化アンモニウムが用いられる。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は、本発明の第１の実施例として界面活性剤の水
溶液に添加するイオン性弗素化合物として弗化水素酸を
用いた場合の殺菌効果を説明するグラフである。前処理
液としてポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテ
ルの０．５％水溶液を用いた。弗化水素酸を０．００１
％。
溶液に添加するイオン性弗素化合物として弗化水素酸を
用いた場合の殺菌効果を説明するグラフである。前処理
液としてポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテ
ルの０．５％水溶液を用いた。弗化水素酸を０．００１
％。
０．０１％、０１％の濃度で添加し２日間放置した前処
理液中の生菌数を培養法を用いて検出し添加しない場合
と比較した。弗化水素酸濃度が０．０１％程度から効果
がみちれ、０．１％では生菌数を著しく少くできること
が分る。範囲としては０．０１％〜０．５％が適当であ
る。この時、二酸化シリコン膜のエツチングレートは５
０Ａ／ｍｉｎ以下であり、エツチング液（１〜１０％の
弗化水素酸濃度を有する）に比し１０分の１以下であり
実用上問題ない。
理液中の生菌数を培養法を用いて検出し添加しない場合
と比較した。弗化水素酸濃度が０．０１％程度から効果
がみちれ、０．１％では生菌数を著しく少くできること
が分る。範囲としては０．０１％〜０．５％が適当であ
る。この時、二酸化シリコン膜のエツチングレートは５
０Ａ／ｍｉｎ以下であり、エツチング液（１〜１０％の
弗化水素酸濃度を有する）に比し１０分の１以下であり
実用上問題ない。
第２図は、本発明の第２の実施例のイオン性弗素化合物
として弗化アンモニウムを用いた場合である。実験は弗
化水素酸の場合と同様にして行われた。弗化アンモニウ
ムの場合０．１％でも十分な効果は得られていないが、
無添加の場合に比べ明らかに生菌数が減少している。
として弗化アンモニウムを用いた場合である。実験は弗
化水素酸の場合と同様にして行われた。弗化アンモニウ
ムの場合０．１％でも十分な効果は得られていないが、
無添加の場合に比べ明らかに生菌数が減少している。
又、弗化水素酸及び弗化アンモニウムは二酸化シリコン
膜のエツチング液の主成分であり、従来の設備に何の改
造を加えることなく本発明を適用することができる。
膜のエツチング液の主成分であり、従来の設備に何の改
造を加えることなく本発明を適用することができる。
以上説明したように本発明は、二酸化シリコン膜のウェ
ットエツチングにおいて、前処理液中に微量のイオン性
弗素化合物を加えることにより弗素による生菌の殺菌作
用を利用して前処理液中のパーティクル量を低減できる
効果がある。
ットエツチングにおいて、前処理液中に微量のイオン性
弗素化合物を加えることにより弗素による生菌の殺菌作
用を利用して前処理液中のパーティクル量を低減できる
効果がある。
第１図は本発明の第１の実施例の弗化水素酸を用いた場
合の効果を説明するグラフ、第２図は本発明の第２の実
施例の弗化アンモニウムを用いた場合の効果を説明する
グラフである。
合の効果を説明するグラフ、第２図は本発明の第２の実
施例の弗化アンモニウムを用いた場合の効果を説明する
グラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、二酸化シリコン膜のエッチング前処理液において、
界面活性剤の水溶液にイオン性弗素化合物を添加したこ
とを特徴とするエッチング前処理液。 ２、イオン性弗素化合物として弗化水素酸を０．０１％
から０．５％添加することを特徴とする請求項１記載の
エッチング前処理液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2347790A JPH03227020A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | エッチング前処理液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2347790A JPH03227020A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | エッチング前処理液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03227020A true JPH03227020A (ja) | 1991-10-08 |
Family
ID=12111611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2347790A Pending JPH03227020A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | エッチング前処理液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03227020A (ja) |
-
1990
- 1990-01-31 JP JP2347790A patent/JPH03227020A/ja active Pending
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