JPH03230457A - Color picture tube device - Google Patents
Color picture tube deviceInfo
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- JPH03230457A JPH03230457A JP2421790A JP2421790A JPH03230457A JP H03230457 A JPH03230457 A JP H03230457A JP 2421790 A JP2421790 A JP 2421790A JP 2421790 A JP2421790 A JP 2421790A JP H03230457 A JPH03230457 A JP H03230457A
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- beams
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、同一平面上を通るセンタービームおよび一
対のサイドビームからなる一列配置の3電子ビームを放
出するインライン型カラー受像管装置に係り、特にその
3電子ビームを共通の大口径電子レンズにより蛍光体ス
クリーン上に集束しかつ集中させる電子銃を有するカラ
ー受像管装置に関する。Detailed Description of the Invention [Objective of the Invention] (Industrial Application Field) This invention relates to an in-line color image receiving system that emits three electron beams arranged in a row, consisting of a center beam and a pair of side beams passing on the same plane. The present invention relates to a tube device, and more particularly to a color picture tube device having an electron gun whose three electron beams are focused and concentrated onto a phosphor screen by means of a common large-diameter electron lens.
(従来の技術)
一般に、カラー受像管装置は、第14図に示すように、
一体に接合されたパネル(1)およびファンネル(2)
からなる外囲器を有し、そのバネル(1)内面に形成さ
れた青、緑、赤に発光するストライプ状あるいはドツト
状の3色蛍光体層からなる蛍光体スクリーン〈3)に対
向して、その内側に多数のアパーチャの形成されたシャ
ドウマスク(4)が装着され、ファンネル(2)のネッ
ク(5)内に配設された電子銃(6)から放出される3
電子ビーム(7B) 、 (7G) 、 (7R)をフ
ァンネル(2)の外側に装着された偏向装置(8)の形
成する水平および垂直偏向磁界により水平および垂直方
向に偏向し、その電子ビーム(7B) 、 (7G)
、 (7R)をシャドウマスク(4)により選択して各
蛍光体層にランディングさせることにより、この蛍光体
スクリーン(3)上にカラー画像を表示する構造に形成
されている。(Prior Art) In general, a color picture tube device, as shown in FIG.
Panel (1) and funnel (2) joined together
It has an envelope consisting of a panel (1) and faces a phosphor screen (3) consisting of a striped or dot-shaped three-color phosphor layer that emits blue, green, and red light formed on the inner surface of the panel (1). , a shadow mask (4) with a large number of apertures formed inside the shadow mask (4) is attached, and the electron beam (3) is emitted from an electron gun (6) disposed within the neck (5) of the funnel (2).
The electron beams (7B), (7G), and (7R) are deflected in the horizontal and vertical directions by the horizontal and vertical deflection magnetic fields formed by the deflection device (8) attached to the outside of the funnel (2). 7B), (7G)
, (7R) are selected using a shadow mask (4) and landed on each phosphor layer, thereby forming a structure in which a color image is displayed on this phosphor screen (3).
このようなカラー受像管装置において、特に電子銃(6
)を同一水平面上を通るセンタービームおよび一対のサ
イトビームからなる一列配置の3電子ビーム(7B)
、 (7G) 、 (7R)を放出するインライン型と
し、一方、偏向装置(8)の形成する水平偏向磁界をピ
ンクソンヨン形、垂直偏向磁界をバレル形にして、上記
−列配置の3電子ビーム(7B) 、 (7G) 。In such a color picture tube device, an electron gun (6
) are arranged in a line consisting of a center beam and a pair of sight beams (7B) that pass on the same horizontal plane.
, (7G), (7R), and the horizontal deflection magnetic field formed by the deflection device (8) is pink-song-yong type, and the vertical deflection magnetic field is barrel-shaped, so that the three electron beams in the above-mentioned column arrangement are formed. (7B), (7G).
(7R〉を自己集中させるセルフコンバーゼンス方式イ
ンライン型カラー受像管が広く使用されている。(7R) Self-convergence type in-line color picture tubes that self-focus are widely used.
通常、電子銃(6)は、カソードからの電子放出を制御
し加速して3電子ビーム(7B) 、 (7G) 、
(7R)を形成する電子ビーム形成部(GE)と、この
電子ビーム形成部(GE)から放出される3電子ビーム
(7B)。Usually, the electron gun (6) controls and accelerates electron emission from the cathode to form three electron beams (7B), (7G),
(7R) and three electron beams (7B) emitted from this electron beam forming section (GE).
(7G)、 (7R)を集束しかつ集中する複数個の
グリッドからなる主レンズ部(ML)とを有する。(7G), (7R) and a main lens section (ML) consisting of a plurality of grids that converge and concentrate.
上記蛍光体スクリーン(3)上の画質を良好にするため
には、この電子銃(6)から放出される3電子ビーム(
7B) 、 (7G) 、 (7R)を適正に集束し、
かつその集束された電子ビーム(7B) 、 (7G)
、 (7R)を蛍光体スクリーン(3)の全面に集中
させることが必要であり、この3電子ビーム(7B)
、 (7G) 、 (7R)の集束、集中は、セルフコ
ンバーゼンス方式インライン型カラー受像管においても
同様である。In order to improve the image quality on the phosphor screen (3), three electron beams (
7B), (7G), and (7R) properly,
and its focused electron beam (7B), (7G)
, (7R) must be concentrated on the entire surface of the phosphor screen (3), and these three electron beams (7B)
, (7G), and (7R) are the same in a self-convergence type in-line color picture tube.
このような3電子ビーム(7B) 、 (7G) 、
(7R)の集中二関し、米国特許第2.957,106
号明細書には、電子銃から放出される3電子ビームをあ
らかじめ傾斜させて集中させる手段が示されている。ま
た、米国特許第3,772.554号明細書には、主レ
ンズ部を構成するグリッドに形成されている3個の開孔
のうち、一対のサイドビーム用開孔をその電子ビーム形
成部側の隣接するグリッドのサイドビーム用開孔より僅
かに外側に偏心させることにより、集中させる手段が示
されている。Such three electron beams (7B), (7G),
(7R), U.S. Patent No. 2.957,106
The patent specification discloses a means for pre-tilting and concentrating three electron beams emitted from an electron gun. Further, in U.S. Patent No. 3,772.554, of the three apertures formed in the grid constituting the main lens part, a pair of side beam apertures are placed on the side of the electron beam forming part. Means for concentrating the beams by eccentrically slightly outwardly of the side beam apertures of adjacent grids is shown.
しかし、上記のように電子銃を構成しても、管の大形化
、高品位化が進むにつれて、っぎのような問題が新たに
クローズアップしてきている。However, even if the electron gun is configured as described above, as tubes become larger and higher in quality, problems such as the above are coming into focus.
(イ) 蛍光体スクリーン上におけるビームスポット径
(ロ) 偏向磁界に起因する蛍光体スクリーン周辺部に
おけるビームスポットの歪み。(a) Beam spot diameter on the phosphor screen (b) Distortion of the beam spot at the periphery of the phosphor screen caused by the deflection magnetic field.
(ハ) 画面全域における3電子ビームの集中すなわち
、たとえば管が大形化すると、電子銃から蛍光体スクリ
ーンまでの距離が長くなり、電子レンズの電子光学的倍
率が大きくなって蛍光体スクリーン上のビームスポット
径が大きくなり、解像度が劣化する。この蛍光体スクリ
ーン上のビームスポット径を小さくするためには、電子
銃のレンズ性能を向上させなければならない。(c) Concentration of the three electron beams over the entire screen, for example, as the tube becomes larger, the distance from the electron gun to the phosphor screen increases, and the electron optical magnification of the electron lens increases, causing The beam spot diameter increases and the resolution deteriorates. In order to reduce the beam spot diameter on this phosphor screen, the lens performance of the electron gun must be improved.
一般に、主レンズ部は、これを構成する複数個のグリッ
ドのそれぞれに所定の電位を与えることにより形成され
る。その結果構成される静電レンズは、電極の構成の相
違により、いくつかの種類があるが、レンズ性能を向上
させるためには、基本的に電極の開孔径を大きくして大
口径レンズとするか、あるいは電極間隔を大きくして電
位変化の緩やかな長焦点レンズとすることが有効である
。Generally, the main lens section is formed by applying a predetermined potential to each of a plurality of grids that constitute the main lens section. There are several types of electrostatic lenses that are constructed as a result, depending on the configuration of the electrodes, but in order to improve lens performance, the aperture diameter of the electrodes is basically increased to create a large-diameter lens. Alternatively, it is effective to increase the electrode spacing to create a long focal length lens with gradual potential changes.
しかし、カラー受像管は、一般に細いネック内に電子銃
か配設されるため、幾何学的に電極の開孔径によってレ
ンズ口径が制約される。また、電極間に形成される集束
電界がネック内に形成される他の不所望な電界の影響を
受けないようにするために、電極間隔を大きくすること
も制限される。However, since a color picture tube generally has an electron gun disposed within a narrow neck, the lens aperture is geometrically limited by the aperture diameter of the electrode. Additionally, increasing the electrode spacing is also limited in order to ensure that the focused electric field formed between the electrodes is not influenced by other undesired electric fields formed within the neck.
特に通常の3電子ビームを放出する電子銃では、電子ビ
ーム間隔が小さいものほど、蛍光体スクリーン全面につ
いて3電子ビームを一点に集中させやすく、また、偏向
電力を小さくできるという利点があるので、その電子ビ
ーム間隔を小さくするために電極の開孔を小さくするこ
とが望まれる。In particular, with an ordinary electron gun that emits three electron beams, the smaller the electron beam spacing, the easier it is to concentrate the three electron beams on one point over the entire surface of the phosphor screen, and the advantage is that the deflection power can be reduced. It is desirable to make the apertures of the electrodes smaller in order to reduce the distance between electron beams.
そのような電子銃として、第15図(a)に示すように
、インライン型電子銃の同一平面上に並列する3個の電
子レンズを重ね合せて1個の共通の大口径レンズ(LE
L)とし、この共通の大口径レンズ(LEL)によりレ
ンズ性能を向上させるようにしたものがある。第15図
(b)は、かがる電子銃を(a)図の大口径レンズ(L
EL)と対応させて光学的に示したものである。この(
b)図において、(KB)。As shown in FIG. 15(a), such an electron gun is constructed by superimposing three parallel electron lenses on the same plane of an in-line electron gun into one common large-diameter lens (LE).
L), and the lens performance is improved by using this common large-diameter lens (LEL). Figure 15(b) shows the large diameter lens (L) in Figure 15(a).
This is an optical diagram corresponding to EL). this(
b) In figure (KB).
(KG)、 (KR)は同一平面上に一列配置された
3個のカソード、(PL)はブリフォーカスレンズであ
る。(KG) and (KR) are three cathodes arranged in a row on the same plane, and (PL) is a brifocal lens.
この電子銃によれば、蛍光体スクリーン(3)上におけ
る各電子ビーム(7B) 、 (冗)、(71?)のコ
アは小さくなるか、全体的にはまだ不十分なものである
。According to this electron gun, the core of each electron beam (7B), (redacted), (71?) on the phosphor screen (3) becomes smaller or is still insufficient overall.
すなわち、電子ビーム間隔がSGである平行な3電子ビ
ーム(7B) 、 (7G) 、 (7R)が共通の大
口径レンズ(LEL)を通過し、センタービーム(7G
)が蛍光体スクリーン(3)上に適正に集束する状態で
は、一対のサイドビーム(7B> 、 (7R)は過集
束かつ過集中状態となって大きなコマ収差を伴う。その
ため、蛍光体スクリーン(3)上の3個のビームスポッ
ト(SPB) 、 (SPG) 、 (SPR)は大き
く離間し、かつ一対のサイドビーム(7B) 、 (7
R)のスポット(SPB) 、 (SPR)は歪む。That is, three parallel electron beams (7B), (7G), and (7R) with an electron beam spacing of SG pass through a common large-diameter lens (LEL), and a center beam (7G) is formed.
) is properly focused on the phosphor screen (3), the pair of side beams (7B>, (7R) are overfocused and overconcentrated, accompanied by large coma aberration. Therefore, the phosphor screen ( 3) The upper three beam spots (SPB), (SPG), and (SPR) are widely spaced apart, and a pair of side beams (7B), (7
R) spots (SPB) and (SPR) are distorted.
このような問題点を解決する手段として、米国特許第3
,011,090号明細書、米国特許第2.861 。As a means to solve these problems, U.S. Patent No.
, 011,090, U.S. Patent No. 2.861.
208号明細書、特開昭53−69号公報などには、第
16図(a)に示すように、3個の開孔(10)をもつ
低電位電極(第4グリツド)(G4)と1個の共通開孔
(11)をもつ高電位電極(第5グリツド) (G5)
とを隣接して配置し、それら間に形成される発散レンズ
(LD)により、一対のサイドビーム(7B) 、 (
7R)が互いに離間する方向に曲げられることを利用し
て、その第5グリツド(G5)とつぎの第6グリツド(
G6)との間に形成される共通の大口径レンズ化EL)
により3電子ビームを集束、集中させるようにしたもの
が示されている。Specification No. 208, Japanese Patent Application Laid-open No. 53-69, etc. disclose a low potential electrode (fourth grid) (G4) having three holes (10) as shown in FIG. 16(a). High potential electrode (5th grid) with one common aperture (11) (G5)
A pair of side beams (7B), (
7R) are bent in the direction of separating from each other, the fifth grid (G5) and the next sixth grid (G5) are bent.
A common large-diameter lens formed between G6) and EL)
This shows an arrangement in which three electron beams are focused and concentrated.
しかしながら、この電子銃では、第16図(b)に、(
a)図の各レンズ(LD) 、 (LEL)と対応させ
て示したように、第4グリツド(G4)と第5グリツド
(G5)との間に形成される発散レンズ(LD)の他に
、第4グリツド(G4)の独立した3個の開孔(10)
のために、カソード側に各別の小さな集束レンズ(LC
)が形成される。そのため、発散レンズ(LD)を強め
ると、同時に集束レンズ(LC)も強まり、各電子ビー
ム(7B) 、 (7G) 、 (7R)は、その集束
レンズ(LC)により強く集束されて、大口径レンズ(
LEL)により集束される割合いが少なくなり、大口径
レンズ(LEL)の性能を十分に発揮させることができ
ず、カラー受像管の画質の向上にあまり寄与しない。However, in this electron gun, (
a) As shown in correspondence with each lens (LD) and (LEL) in the figure, in addition to the diverging lens (LD) formed between the fourth grid (G4) and the fifth grid (G5), , three independent holes (10) in the fourth grid (G4)
For each separate small focusing lens (LC
) is formed. Therefore, when the diverging lens (LD) is strengthened, the converging lens (LC) is also strengthened, and each electron beam (7B), (7G), (7R) is strongly focused by the converging lens (LC) and has a large aperture. lens(
The ratio of focusing by the LEL is reduced, and the performance of the large-diameter lens (LEL) cannot be fully demonstrated, and it does not contribute much to improving the image quality of the color picture tube.
また、特開平1−31333号公報には、第17図に示
すように、3電子ビーム(7B) 、 (7G) 、
(7R)を共通に通過させる円筒状の低電位電極(第3
グリツド)(G3)と同じく円筒状の高電位電極(第4
グリツド)(G4)とを隣接させ、かつその低電位電極
(G3)の中間部に、第18図に示すように、3電子ビ
ーム(7B)。Furthermore, as shown in FIG. 17, JP-A-1-31333 discloses three electron beams (7B), (7G),
(7R) is a cylindrical low potential electrode (third
Grid) (G3) has a cylindrical high potential electrode (4th
As shown in FIG. 18, three electron beams (7B) are placed adjacent to the grid (G4) and in the middle of the low potential electrode (G3).
(7G)、 (7R)を共通に通過させる団子状の開孔
(12)を形成して、高電位電極(G4)から浸透する
電位をその団子状の開孔(12)により制御することに
より、3電子ビーム(7B) 、 (7G) 、 (7
R)の集束と集中とをおこなうものが示されている。(7G) and (7R) are formed in common, and the potential permeating from the high potential electrode (G4) is controlled by the hole (12). , 3 electron beams (7B) , (7G) , (7
R) is shown to perform focusing and concentration.
しかしながら、この電子銃により3電子ビーム(7B)
、 (7G) 、 (7R)を集中しようとすると、
団子状開孔(12〉をかなり高電位電極(G4)側に形
成しなければならず、その結果、センタービーム(7G
)に対する集束作用と一対のサイドビーム(7B) 、
(7R)に対する集束作用とが大きく相違し、3電子
ビーム(7B) 、 (7c) 、 (7R)を同じよ
うに蛍光体スクリーン上に集束することが難しくなる。However, this electron gun produces 3 electron beams (7B).
, (7G) and (7R),
A dumpling-shaped aperture (12) must be formed on the side of the high potential electrode (G4), and as a result, the center beam (7G
) and a pair of side beams (7B),
The focusing effect on (7R) is significantly different, making it difficult to focus the three electron beams (7B), (7c), and (7R) on the phosphor screen in the same way.
(発明が解決しようとする課題)
上記のように、カラー受像管の画質を良好にするために
は、3電子ビームを適正に集束し、かつその集束された
電子ビームを蛍光体スクリーンの全面に集中させること
が必要であり、そのためには、3電子ビームを集束しか
つ集中させる主レンズ部を共通の大口径レンズとするこ
とが有効である。しかし、従来の電子銃では、その共通
の大口径レンズの性能を十分に発揮させることができず
、特に大形、高品位カラー受像管に適用した場合、その
画質を良好にすることが困難となっている。(Problems to be Solved by the Invention) As mentioned above, in order to improve the image quality of a color picture tube, it is necessary to properly focus the three electron beams and to spread the focused electron beam over the entire surface of the phosphor screen. It is necessary to concentrate the three electron beams, and for this purpose, it is effective to use a common large-diameter lens as the main lens section that converges and concentrates the three electron beams. However, conventional electron guns cannot fully demonstrate the performance of their common large-diameter lenses, and it is difficult to improve the image quality, especially when applied to large, high-quality color picture tubes. It has become.
この発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、
同一平面上を通る一列配置の3電子ビームを放出する電
子銃を有するカラー受像管装置において、その3電子ビ
ームを集束、集中させる主レンズ部を大口径レンズで構
成し、かつこの大口径レンズの性能を十分に発揮させる
ようにすることを目的とする。This invention was made in view of the above problems, and
In a color picture tube device having an electron gun that emits three electron beams arranged in a row passing on the same plane, the main lens part that converges and concentrates the three electron beams is composed of a large-diameter lens, and the large-diameter lens is The purpose is to fully demonstrate performance.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
同一平面上を通る一列配置のセンタービームおよび一対
のサイドビームからなる3電子ビームを放出する電子銃
と、この電子銃から放出される3電子ビームを水平およ
び垂直方向に偏向する偏向装置とを有し、上記電子銃が
上記3電子ビームを形成する電子ビーム形成部と、この
電子ビーム形成部から放出される3電子ビームを集束し
て蛍光体スクリーン上に集中させる主レンズ部とを有す
るカラー受像管において、その主レンズ部に3電子ビー
ムを共通に通過させる少なくとも2個グリッドにより構
成される共通の大口径電子レンズを設け、その共通の大
口径電子レンズよりも電子ビーム形成部側に、3電子ビ
ームが共通に通過する非円形電子ビーム通過孔を有する
少なくとも2個のグリッドにより、水平方向に発散作用
をもち、垂直方向に集束作用をもつ4極子レンズを設け
た。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) An electron gun that emits three electron beams consisting of a center beam and a pair of side beams arranged in a row passing on the same plane, and three electron beams emitted from this electron gun. a deflection device that deflects the beam in horizontal and vertical directions; In a color picture tube, the main lens part is provided with a common large-diameter electron lens constituted by at least two grids through which three electron beams pass in common, At least two grids having non-circular electron beam passing holes through which three electron beams pass in common on the electron beam forming part side of the large-diameter electron lens have a diverging effect in the horizontal direction and a focusing effect in the vertical direction. A quadrupole lens was installed.
(作 用)
上記のように、共通の大口径電子レンズよりも電子ビー
ム形成部側に、水平方向に発散作用をもち、垂直方向に
集束作用をもつ4極子レンズを設けると、この4極子レ
ンズにより、一対のサイドビームは、互いに離間する方
向に曲げられ、同時にセンタービームよりも強く発散作
用を受けて共通の大口径電子レンズに入射する。そして
、そのセンタービームおよび一対のサイドビームを共通
大口径電子レンスにより蛍光体スクリーン上に適正に集
束させるとともに、集中させることかできる。(Function) As mentioned above, if a quadrupole lens that has a diverging effect in the horizontal direction and a focusing effect in the vertical direction is provided closer to the electron beam forming section than the common large-diameter electron lens, this quadrupole lens As a result, the pair of side beams are bent in a direction away from each other, and at the same time are subjected to a diverging effect stronger than the center beam, and are incident on a common large-diameter electron lens. Then, the center beam and the pair of side beams can be properly focused and concentrated on the phosphor screen by a common large-diameter electron lens.
(実施例)
以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。(Example) Hereinafter, the present invention will be described based on an example with reference to the drawings.
第1図にその一実施例であるカラー受像管装置を示す。FIG. 1 shows a color picture tube device which is one embodiment of the present invention.
このカラー受像管装置は、パネル(1)とこのパネル(
1)に一体に接合されたファンネル(2)とからなる外
囲器を有し、そのパネル(1)内面に形成された青、緑
、赤に発光する3色蛍光体層からなる蛍光体スクリーン
(3)に対向して、その内側に多数のアパーチャの形成
されたシャドウマスク(4)が装着されている。また、
ファンネル(2)の内面には、そのコーン部(20)か
らネック(5)隣接部にかけて内部導電膜(21)が形
成されている。また、ファンネル(2)のネック(5)
内には、同一水平面(X−Z平面)上を通るセンタービ
ーム(7G)および一対のサイドビーム(7B) 、
(7R)からなる−列配置の3電子ビームを放出する後
述する電子銃(22)が配設されている。この電子銃(
22)は、一端部がネック(5)端部を封止しているス
テム(23)を気密に貫通するステムピン(24)によ
り取付けられ、他端部は、その先端部に取付けられて上
記内部導電膜(21)に圧接する複数個のバルブスペー
サ(25)のより支持されている。さらに、ファンネル
(2)の外側には、上記電子銃(22)から放出される
3電子ビーム(7B) 、 (7G) 、 (7R)を
水平方向(X軸方向)に偏向する水平偏向磁界および垂
直方向に偏向する垂直偏向磁界を発生する偏向装置(8
)が装着されている。This color picture tube device consists of panel (1) and this panel (
A phosphor screen consisting of a three-color phosphor layer that emits blue, green, and red light formed on the inner surface of the panel (1), which has an envelope consisting of a funnel (2) integrally joined to the panel (1). A shadow mask (4) having a large number of apertures formed inside the shadow mask (4) is mounted opposite the mask (3). Also,
An internal conductive film (21) is formed on the inner surface of the funnel (2) from its cone portion (20) to a portion adjacent to the neck (5). Also, the neck (5) of the funnel (2)
Inside, there is a center beam (7G) and a pair of side beams (7B) that pass on the same horizontal plane (X-Z plane),
An electron gun (22), which will be described later, is provided which emits three electron beams arranged in a row of (7R). This electron gun (
22) is attached by a stem pin (24) which hermetically passes through the stem (23) whose one end seals the end of the neck (5), and whose other end is attached to the distal end of the stem (23) to seal the end of the neck (5). It is supported by a plurality of valve spacers (25) that are in pressure contact with the conductive film (21). Further, on the outside of the funnel (2), there is a horizontal deflection magnetic field that deflects the three electron beams (7B), (7G), (7R) emitted from the electron gun (22) in the horizontal direction (X-axis direction). Deflection device (8) that generates a vertical deflection magnetic field that deflects in the vertical direction
) is installed.
なお、第1図において、(26)はシャドウマスク(4
)を支持するマスク支持手段である。In addition, in FIG. 1, (26) is the shadow mask (4
).
上記電子銃(22)は、第2図示すように、その−端部
ステム側に3個のカソード(KB) 、 (KG) 、
(KR)が水平方向に一列に配置され、その各カソー
ド(KB) 。As shown in Figure 2, the electron gun (22) has three cathodes (KB), (KG), and
(KR) are arranged horizontally in a row, each of whose cathodes (KB).
(KG)、 (KR)に対して各別に配置された3個
のヒータ(H)により加熱される構造となっている。そ
して、このカソード(KB) 、 (KG) 、 (K
R)から蛍光体スクリーン(3)方向に、順次一体構造
の第1ないし第9グリツド(G1)〜(G9)が配置さ
れ、それらヒータ(H)、カソード(KB) 、 (K
G) 、 (KR)および第1ないし第9グリツド(G
l)〜(G9)を一対の絶縁支持体(28)により一体
に固定した構造に形成されている。(KG) and (KR) are heated by three heaters (H) placed separately. And these cathodes (KB), (KG), (K
The first to ninth grids (G1) to (G9) of integral structure are arranged sequentially from the heater (H), the cathode (KB), (K) toward the phosphor screen (3).
G), (KR) and the first to ninth grids (G)
1) to (G9) are integrally fixed by a pair of insulating supports (28).
その第1および第2グリツド(Gl) 、 (G2)に
は、上記−列配置の3個のカソード(KB) 、 (K
G) 、 (KR)に対応する比較的小さな3個の開孔
が形成され、第3グリツド(G3)の第2グリツド(G
2)側には、第2グリツド(G2)の開孔より大きな3
個の開孔が形成され、上記カソード(KB) 、 (K
G) 、 (KR)からこの第3グリツド(G3)まで
の部分か、カソード(KB) 、 (KG) 。Its first and second grids (Gl), (G2) have three cathodes (KB), (K
Three relatively small apertures corresponding to G) and (KR) are formed in the second grid (G3) of the third grid (G3).
2) side has 3 holes larger than the opening of the second grid (G2).
Apertures are formed at the cathode (KB), (K
G), (KR) to this third grid (G3), or the cathode (KB), (KG).
(KR)からの電子放出を制御し、加速して3電子ビム
(7B) 、 (冗)、(7R)を形成する電子ビーム
形成部(GE)を構成している。It constitutes an electron beam forming section (GE) that controls and accelerates electron emission from (KR) to form three electron beams (7B), (7R), and (7R).
また、第3グリツド(G3〉の第4グリツド(G4)側
、第4グリツド(G4)および第5グリツド(G5)の
第4グリツド(G4)側には、第3図(a)に示すよう
に、上記−列配置の3個のカソード(KB) 、(KG
) 、 (KR)に対応する比較的大きな3個の開孔(
29)が形成されている。また、第5グリツド(G5)
の第6グリツド(G6)側および第6グリツド(G6)
の第5グリツド(G5)側、第6グリツド(G6)およ
び第7グリツド(G7)の第6グリツド(G6)側には
、第3図(b)に示すように、水平方向に細長くかつ両
端部での幅が広い横長の1個の開孔(30)が形成され
ている。さらに、第7グリツド(G7)の第8グリツド
(G8)側には、第3図(C)に示すように、水平方向
に細長い横長の1個の開孔(31)が形成されている。Also, on the fourth grid (G4) side of the third grid (G3), on the fourth grid (G4) side of the fourth grid (G4), and on the fourth grid (G4) side of the fifth grid (G5), as shown in Figure 3 (a), In the above-mentioned - column arrangement of three cathodes (KB), (KG
), (KR) corresponding to three relatively large apertures (
29) is formed. Also, the fifth grid (G5)
6th grid (G6) side and 6th grid (G6)
As shown in Fig. 3(b), on the fifth grid (G5) side of the grid, on the sixth grid (G6) side of the sixth grid (G6), and on the sixth grid (G6) side of the seventh grid (G7), there are horizontally elongated One horizontally long aperture (30) with a wide width at the end is formed. Further, on the side of the eighth grid (G8) of the seventh grid (G7), as shown in FIG. 3(C), one horizontally elongated opening (31) is formed.
さらにまた、第8グリツド(G8)の第7グリツド(G
7)側には、第3図(d)に示すように、上記開孔(3
1)よりもさらに横長の1個の開孔(32)が形成され
ている。Furthermore, the seventh grid (G8) of the eighth grid (G8)
7) side, as shown in FIG. 3(d), the above-mentioned opening (3)
One aperture (32) is formed which is laterally longer than 1).
この第8グリツド(G8)の蛍光体スクリーン側は、第
7グリツド(G7)側の隣接部にくらべて水平方向に径
大な円筒(33)となっており、この円筒(33)の蛍
光体スクリーン(3)側端部から距HDの中間部(図面
では円筒(33)の底部)には、第4図に示すように、
水平方向に細長い横長の1個の開孔(34)が形成され
ている。The phosphor screen side of this eighth grid (G8) is a cylinder (33) with a larger diameter in the horizontal direction than the adjacent part on the seventh grid (G7) side, and the phosphor screen of this cylinder (33) As shown in FIG. 4, in the middle part of the distance HD from the side edge of the screen (3) (the bottom of the cylinder (33) in the drawing),
A single horizontally elongated opening (34) is formed in the horizontal direction.
また、第9グリツド(G9)は、第8グリツド(G8)
の蛍光体スクリーン(3)側を包囲する径大な円筒(3
5)からなり、第8グリツド(G8)の蛍光体スクリー
ン(3)側の円筒(33)との間に大口径レンズ(LE
L)を形成する。Also, the 9th grid (G9) is the 8th grid (G8)
A large diameter cylinder (3) surrounding the phosphor screen (3) side of the
5), and a large-diameter lens (LE
L) is formed.
この電子銃(22)の各電極に対する電圧の印加は、第
9グリツド(G9)以外の電極については、ステムビン
(24)を介して印加され、第9グリツド(G9)につ
いては、コーン部(20)に設けられた陽極端子(図示
せず)、内部導電膜(21)およびこの内部導電膜(2
1)に圧接するバルブスペーサ(25)を介して印加さ
れる。他の電圧印加手段として、電極の近傍に抵抗体を
配置し、この抵抗体により陽極端子、内部導電膜および
バルブスペーサを介して供給される電圧を抵抗分割して
、所定の電極に印加することも可能である。Voltage is applied to each electrode of this electron gun (22) for the electrodes other than the ninth grid (G9) through the stem bin (24), and for the ninth grid (G9), the voltage is applied to each electrode of the electron gun (22) through the stem bin (24). ), the internal conductive film (21) and the internal conductive film (2
1) is applied via a valve spacer (25) that is in pressure contact with the valve spacer (25). As another voltage application means, a resistor is placed near the electrode, and the resistor divides the voltage supplied through the anode terminal, internal conductive film, and valve spacer, and applies the divided voltage to a predetermined electrode. is also possible.
その各電極に印加される電圧は、たとえばカット(KB
) 、 (KG) 、 (KR)を約150■のカット
オフ電圧として、これに映像信号を加え、第1グリツド
(Gl)を接地電位とし、第2グリツド(G2)に50
0〜lkV。The voltage applied to each electrode is, for example, cut (KB
), (KG), and (KR) are set to a cutoff voltage of approximately 150μ, a video signal is added to these, the first grid (Gl) is set to ground potential, and the second grid (G2) is set to a cutoff voltage of approximately 150μ.
0~lkV.
第3、第5、第8グリツド(G3) 、 (G5) 、
(G8)に5〜10kV、第4グリツド(G4)に0
〜1kV、第6グリツド(G6)に2〜5kV、第7グ
リツド(G7)に15〜20kV、第9グリツド(G9
)に25〜30kVの陽極高電圧が印加される。3rd, 5th, 8th grid (G3), (G5),
(G8) 5-10kV, 4th grid (G4) 0
~1kV, 2-5kV on the 6th grid (G6), 15-20kV on the 7th grid (G7), 15-20kV on the 9th grid (G9)
) is applied with an anode high voltage of 25-30 kV.
このような電圧を印加することにより、電子銃(22)
には、第4図(a)の電極配置と対比して同(b)およ
び(C)に示した電子レンズが形成される。By applying such a voltage, the electron gun (22)
In contrast to the electrode arrangement shown in FIG. 4(a), an electron lens shown in FIG. 4(b) and FIG. 4(C) is formed.
なお、(C)には、センタービーム(7G)について示
したが、形成される電子レンズは、一対のサイドビーム
(7B) 、 (7R)についても同様である。Although the center beam (7G) is shown in (C), the electron lenses formed are the same for the pair of side beams (7B) and (7R).
この図面に示したように各カソード(KB) 、 (K
G) 。Each cathode (KB), (K
G).
(KR)から変調信号に応じて放出された電子ビームは
、カソード(KB) 、 (KG) 、 (KR)およ
び第1、第2グリツド(Gl)、(G2) +:より、
各中心軸(ZB) 、 (ZG) 。The electron beam emitted from (KR) according to the modulation signal is transmitted from the cathodes (KB), (KG), (KR) and the first and second grids (Gl), (G2) +:
Each central axis (ZB), (ZG).
(ZR)と交差して第1クロスオーバー(Cot)を形
成し、第2、第3グリツド(G2) 、 (G3)によ
るブリフォーカスレンズ(Pいによりわずかに集束され
て第3グリツド(G3)に発散しながら入射する。この
第3グリツド(G3)に入射した電子ビーム(7G)
、 (7B) 。(ZR) to form the first crossover (Cot), and the second and third grids (G2) and (G3) are slightly focused by the prefocus lens (P) to form the third grid (G3). The electron beam (7G) incident on this third grid (G3)
, (7B).
(7R)は、第3、第4、第5グリツド(G3) 、
(G4) 。(7R) is the third, fourth, and fifth grid (G3),
(G4).
(G5)により形成される各別の弱い円筒ユニポテンシ
ャルレンズ(ELS)により、水平および垂直方向(Y
軸方向)にそれぞれ少し集束される。ついで、第5、第
6、第7グリツド(G5) 、 (G6) 、 (G7
)の横長の各開孔(30)により形成される電子レンズ
(VL)により、各電子ビーム(7G) 、(7B)
、 (7R)は、垂直方向にのみ強く集束される。((
C)図参照)それにより各電子ビーム(冗)、 (7B
) 、 (7R)は、第7グリノド(G7)の中間部に
おいて垂直方向に各中心軸(ZB) 、 (ZG) 、
(ZR)と交差して、((C)図は(ZG)のみ図示
) 第2クロスオーバー(CO2)を形成し、その後発
散しながら進む。ついで、第7、第8グリツド(G7)
、 (Gll)の径の異なる横長の開孔(31)。(G5) by separate weak cylindrical unipotential lenses (ELS) formed by horizontal and vertical (Y
axial direction). Then, the fifth, sixth, and seventh grids (G5), (G6), (G7
), each electron beam (7G), (7B) is
, (7R) is strongly focused only in the vertical direction. ((
C) see figure) so that each electron beam (redacted), (7B
), (7R) are vertically aligned with each central axis (ZB), (ZG),
It intersects with (ZR), forms a second crossover (CO2) (only (ZG) is shown in the figure (C)), and then proceeds while diverging. Next, the 7th and 8th Grid (G7)
, (Gll) with different diameters (31).
(32)間に形成される4極子ノンズ(FPL)により
、各電子ビーム(7G) 、 (7B) 、 (7R)
は、垂直方向に集束作用を、水平方向に発散作用を受け
、かつ一対のサイドビーム(7B) 、 (7R)は、
互いに離間する方向に曲げられる。特にその発散作用は
、第7、第8グリツド(G7) 、 (G8)の開孔(
31)、(32)が横長であるため、センタービーム(
7G)よりも一対のサイドビーム(7B) 、 (7R
)に強く作用する。このような状・態で第8グリツド(
G8)に入射する電子ビーム(冗)(7B)、 (7R
)は、第8、第9グリツド(G8) 、 (G9)によ
り形成される共通の大口径レンズ(LEL)により、蛍
光体スクリーン(3)上に集束かつ集中される。(32) The quadrupole nons (FPL) formed between each electron beam (7G), (7B), (7R)
is subjected to a focusing action in the vertical direction and a diverging action in the horizontal direction, and a pair of side beams (7B) and (7R) are
bent in directions away from each other. In particular, its divergence effect is caused by the openings (
31) and (32) are horizontally long, the center beam (
A pair of side beams (7B), (7R
) has a strong effect on In this situation, the 8th grid (
Electron beam incident on G8) (7B), (7R
) are focused and concentrated onto the phosphor screen (3) by a common large aperture lens (LEL) formed by the eighth and ninth grids (G8) and (G9).
上記大口径レンズ(LEL)による集束、集中をさらに
詳しく説明すると、2個の円筒電極を対向または一部を
オーバーラツプさせて配置して形成される大口径レンズ
に、所定の物点をもつ平行な3電子ビームか入射する場
合、第15図(b)に示したように、センタービーム(
7G)が適正に集束する状態では、一対のサイドビーム
(7B) 、 (7R)は、過集束かつ過集中状態とな
るとともに、大きなコマ収差を生じ、蛍光体スクリーン
(3)上の各ビームスポット(SPB) 、 (SPG
) 、 (SPR)は大きく離間し、かつ一対のサイト
ビーム(7B) 、 (7R)は歪む。To explain in more detail the focusing and concentration by the large-diameter lens (LEL) mentioned above, a large-diameter lens formed by arranging two cylindrical electrodes facing each other or partially overlapping each other is used to attach a parallel lens with a predetermined object point. When three electron beams are incident, the center beam (
7G) is properly focused, the pair of side beams (7B) and (7R) are overfocused and overconcentrated, and a large coma aberration occurs, causing each beam spot on the phosphor screen (3) to (SPB), (SPG
) and (SPR) are greatly separated, and the pair of sight beams (7B) and (7R) are distorted.
そこで、低電位電極の長さに制限を設け、その制限を蛍
光体スクリーン(3)側端部から距離gの中間部に設け
た水平方向に細長い横長の開孔(34)(第3図(e)
参照)で構成すると、この開孔(34)までの距離Ωが
電子レンズの特性に大きく影響するようになる。Therefore, a limit was set on the length of the low potential electrode, and the limit was set by a horizontally elongated aperture (34) provided in the middle part of the distance g from the side edge of the phosphor screen (3) (see Fig. 3). e)
), the distance Ω to the aperture (34) greatly influences the characteristics of the electron lens.
すなわち、前記電子銃(22)の第8、第9グリツド(
G8) 、 (G9)部分を示す第5図(a)および(
b)において、その低電位電極である第8グリツド(G
8)の蛍光体スクリーン側の円筒部(33)の内径をD
L、高電位電極である第9グリツド(G9) (円筒電
極)の内径をDHとすると、中心軸(Z軸)上の電位は
、第5図(C)に示す曲線(36)のようになり、中心
部から左右にそれぞれDL、DHだけ電位が浸透し、こ
の電位の浸透している領域が電子レンズ(大口径レンズ
)として作用する領域となる。したがって、第8グリツ
ド(G8)の横長の開孔(34)をその内径DLより深
く配置(47>DL)しても、電子レンズの特性に影響
はないが、DLより浅く配置(47<DL)すると、高
圧側電位の浸透が影響を受け、電子レンズの特性に影響
を及ぼすようになる。That is, the eighth and ninth grids (
Figures 5(a) and (G8) showing parts G8) and (G9)
b), the eighth grid (G
8) The inner diameter of the cylindrical part (33) on the phosphor screen side is D.
L, If the inner diameter of the ninth grid (G9) (cylindrical electrode), which is a high potential electrode, is DH, the potential on the central axis (Z axis) is as shown in the curve (36) shown in Figure 5 (C). The potential penetrates from the center to the left and right by DL and DH, respectively, and the region where this potential penetrates becomes the region that acts as an electron lens (large aperture lens). Therefore, even if the horizontally long aperture (34) of the eighth grid (G8) is placed deeper than its inner diameter DL (47>DL), it will not affect the characteristics of the electron lens, but if placed shallower than DL (47<DL), it will not affect the characteristics of the electron lens. ), the penetration of the high-voltage side potential is affected, which affects the characteristics of the electron lens.
したがって、第5図(a)および(b)・に示した配置
の電極に、第5図(d)に示すように、所定の物点をも
つ平行な3電子ビーム(冗)、 (7B) 、 (7R
)がそれぞれ発散しながら入射する場合、その3電子ビ
ーム<7G) 、 (7B) 、 (7R)の所定距離
離れて位置する蛍光体スクリーン(3)上での集束およ
び集中状態を示すと、第6図(a)ないしくC)のよう
になる。Therefore, as shown in FIG. 5(d), three parallel electron beams (redundant) with a predetermined object point are attached to the electrodes arranged as shown in FIGS. 5(a) and (b). , (7R
) are incident while diverging, and the convergence and concentration state of the three electron beams <7G), (7B), and (7R) on the phosphor screen (3) located a predetermined distance apart is expressed as The result will be as shown in Figure 6 (a) to C).
すなわち、第6図(a)の曲線(37)は、距離gを横
軸として第5図(d)に示した蛍光体スクリーン(3)
上でのセンタービーム(7G)と一対のサイドビーム(
7B) 、 (7R)との間隔H3を縦軸として、距離
gと間隔H3との関係を示したものである。また、第6
図(b)の曲線(38)はセンタービーム(7B)の、
また、曲線(39)は一対のサイドビーム(7B) 、
(7R)の水平方向の集束状態をコマ収差分を平均化
して示したものである。(第5図(d)参照)さらに、
第6図(c)の曲線(40)は、第5図(d)に矢印(
41a) 、 (41b)示した一対のサイドビーム(
7B) 、 (7R)の中央側と周辺側との集束の差、
すなわちコマ収差分を示したものである。That is, the curve (37) in FIG. 6(a) corresponds to the phosphor screen (3) shown in FIG. 5(d) with distance g as the horizontal axis.
The center beam (7G) and a pair of side beams (
7B) and (7R), the vertical axis represents the relationship between the distance g and the distance H3. Also, the 6th
The curve (38) in figure (b) is of the center beam (7B),
In addition, the curve (39) is a pair of side beams (7B),
The horizontal focusing state of (7R) is shown by averaging comatic aberration differences. (See Figure 5(d)) Furthermore,
The curve (40) in Fig. 6(c) is indicated by the arrow (40) in Fig. 5(d).
41a), (41b) A pair of side beams shown (
7B), (7R) difference in focusing between the center and peripheral sides,
In other words, it shows the coma aberration difference.
この第6図(a)の曲線(37)かられかるように、距
離gが第8グリツド(G8)の蛍光体スクリーン側の円
筒部の内径をDLより大きいときは、センタービーム(
7G)と一対のサイドビーム(7B) 、 (7R)と
の間隔H8は大きく、過集中するが、距離gが内径DL
より小さくなると、間隔H8は次第に小さくなり、点(
42)で示すように1点に集中するようになる。一方、
第6図(b)の曲線(38)および(39)かられかる
ように、センタービーム(7G)と一対のサイトビーム
(7B) 、 (7R)との集束状態の差は、距離gが
内径DLより大きいときは小さいが、距離gか内径DL
より小さくなると大きくなる。これは、相対的にセンタ
ービーム(7G)の集束が一対のサイドビーム(7B)
、、(7R)の集束より弱いためである。また、第6
図(C)の曲線(40)かられかるように、一対のサイ
ドビーム(7B)’、 (7R)のコマ収差は、距離Ω
か内径DLより小さくなると、次第に大きくなるが、距
離Ωか内径DLより大きい領域でもある程度存在する。As can be seen from the curve (37) in FIG. 6(a), when the distance g is larger than DL of the inner diameter of the cylindrical portion on the phosphor screen side of the eighth grid (G8), the center beam (
7G) and the pair of side beams (7B) and (7R) is large and overconcentrated, but the distance g is smaller than the inner diameter DL.
As the distance H8 becomes smaller, the interval H8 becomes smaller and smaller until the point (
As shown in 42), it becomes possible to concentrate on one point. on the other hand,
As can be seen from curves (38) and (39) in Fig. 6(b), the difference in the focusing state between the center beam (7G) and the pair of sight beams (7B) and (7R) is that the distance g is equal to the inner diameter. It is small when it is larger than DL, but the distance g or inner diameter DL
The smaller it gets, the bigger it gets. This means that the center beam (7G) is relatively focused on a pair of side beams (7B).
, , (7R) is weaker than the focusing. Also, the 6th
As can be seen from the curve (40) in Figure (C), the comatic aberration of the pair of side beams (7B)' and (7R) is determined by the distance Ω
When the distance Ω becomes smaller than the inner diameter DL, the distance gradually increases, but even in a region where the distance Ω is larger than the inner diameter DL, it exists to some extent.
したがって、この第6図(a)ないしくC)の結果から
、距離Ωを調整するたけては、平行に入射する3電子ビ
ーム(7G) 、 (7B) 、 (7R)を所定距離
離れて位置する蛍光体スクリーン(3)上に集中させる
と同時に、適正に集束させることはできない。仮にこの
第8グリツド(G8)の開孔(34)を第18図に示し
たように団子状にしても、上記特性は、本質的に変わら
ない。また、前記特開昭53−69号公報のように(第
16図参照)、一対のサイドビームを互いに離間する方
向に発散させるようにして大口径レンズに入射させれば
、3電子ビームを1点に集中できるかもしれないが、こ
の場合はコマ収差のために3電子ビームを同じように適
正に集束することは困難となる。また、前述したように
、この場合は、小口径の電子レンズ(LC)により集束
特性が変化し、大口径レンズの特性を生かすことができ
なくなる。Therefore, from the results shown in Fig. 6(a) to C), the key to adjusting the distance Ω is to position the three parallel incident electron beams (7G), (7B), and (7R) a predetermined distance apart. It is not possible to simultaneously concentrate the light onto the phosphor screen (3) which is also properly focused. Even if the openings (34) of this eighth grid (G8) are made into a dumpling shape as shown in FIG. 18, the above characteristics remain essentially unchanged. Furthermore, as in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-open No. 53-69 (see Fig. 16), if a pair of side beams are made to diverge in directions away from each other and are made incident on a large-diameter lens, three electron beams can be converted into one. Although it may be possible to focus on a point, in this case coma makes it difficult to properly focus the three electron beams in the same way. Furthermore, as described above, in this case, the focusing characteristics change due to the small diameter electron lens (LC), making it impossible to take advantage of the characteristics of the large diameter lens.
そこで、この例の電子銃のように3電子ビームに対して
共通の横長の開孔をもつ2つの電極により4極子レンズ
を形成した場合を考える。すなわち、第7図(a)およ
び(b)に示すように、高電位側の第7グリツド(G7
)の横長の開孔(31〉に対して、低電位側の第8グリ
ツド(G8)の横長の開孔(32)を−層横長にして対
向させると、水平方向に発散作用をもち、垂直方向に集
束作用をもつ4極子レンズ(PPL)を形成することが
できる。Therefore, consider a case where a quadrupole lens is formed by two electrodes having a common horizontally elongated aperture for three electron beams, as in the electron gun of this example. That is, as shown in FIGS. 7(a) and (b), the seventh grid (G7) on the high potential side
) When the horizontally long hole (32) of the eighth grid (G8) on the low potential side is made horizontally long and faces the horizontally long hole (31〉), it has a diverging effect in the horizontal direction and A quadrupole lens (PPL) having a focusing effect in the direction can be formed.
このような4極子レンズ(FPL)に高電位の第7グリ
ツド(G7)に所定の物点をもつ平行な3電子ビームが
それぞれ発散しながら入射すると、その電子ビームに対
する発散力は、周辺になるほど強くなり、センタービー
ムに作用する発散力と一対のサイドビームに作用する発
散力とて大きく異なる。When three parallel electron beams with a predetermined object point on the high-potential seventh grid (G7) enter such a quadrupole lens (FPL) while diverging, the divergence force for the electron beams increases as the distance to the periphery increases. The divergence force acting on the center beam and the divergence force acting on the pair of side beams are significantly different.
この発散力の相違を第7図(c)に高電位側の開孔径を
20.OX6,0市、電圧を20kV、低電位側の開孔
径を22.OX4,52mm、電圧を9kVとした場合
に形成される4極子レンズに0 、5 mm間隔で平行
ビーム(7)が入射する場合についで示す。この図から
、その平行ビーム(7)が出てゆくときの発散角θを求
めると、第8図の曲線(43a)のようになり、周辺は
ど急激に発散角θが大きくなる。This difference in divergence force is shown in Figure 7(c), with the aperture diameter on the high potential side being 20. OX6.0 city, voltage 20kV, low potential side opening diameter 22. Next, a case will be shown in which parallel beams (7) are incident at intervals of 0.5 mm into a quadrupole lens formed when OX4, 52 mm and voltage is 9 kV. If the divergence angle θ at which the parallel beam (7) exits is determined from this figure, it will become like the curve (43a) in FIG. 8, and the divergence angle θ will suddenly increase in the periphery.
したがって、4極子レンズ(FPL)に所定の物点をも
つ平行な3電子ビームがそれぞれ発散しながら入射する
と、センタービームよりも一対のサイドビームが強く発
散し、かつ各サイドビームは、中央側よりも周辺側がよ
り強く発散する。しかも、その一対のサイドビームは、
中央側も発散作用を受けるので、相互に離間する方向に
曲げられる。Therefore, when three parallel electron beams with a predetermined object point enter a quadrupole lens (FPL) while diverging, the pair of side beams will diverge more strongly than the center beam, and each side beam will diverge more strongly than the center beam. Also, the peripheral side diverges more strongly. Moreover, the pair of side beams are
Since the center side is also subjected to a diverging action, it is bent in the direction of separating from each other.
このような4極子レンズ(FPL)の発散および偏向作
用の強さ、状態は、対向する電極の開孔形状を変えたり
、電位を変えることにより、変化させることかできる。The strength and state of the divergence and deflection effects of such a quadrupole lens (FPL) can be changed by changing the aperture shape of the opposing electrodes or by changing the potential.
また、第9図に示すように、横長開孔(31)、(32
)の」皿子または左右に舌片(44)を設け、その幅H
w、長さHl、間隔Hhなどを変えたり、対向電極間の
間隔を変える(この場合、舌片(44)を重畳させる場
合を含む)ことにより容易に調節することができる。た
とえば第7図(a)および(b)に示した第7、第8グ
リツド(G7) 。In addition, as shown in Fig. 9, horizontally long holes (31), (32)
)'s dish or tongue pieces (44) are provided on the left and right sides, and the width H
It can be easily adjusted by changing w, length Hl, interval Hh, etc., or by changing the interval between opposing electrodes (in this case, including the case where the tongue pieces (44) are overlapped). For example, the seventh and eighth grids (G7) shown in FIGS. 7(a) and (b).
(G8)において、高電位側の第7グリツド(G7)の
横長の開孔(31)を少し正方形に近付けると、第8図
に曲線(43b)で示したように、入射する平行ビーム
に対して出てゆくビームの発散角θの大きさおよび状態
か大きく変化する。いうまでもなく、この4極子レンズ
の発散および偏向作用の強さ、状態は、電極電位を変え
ることにより変化するので、その電極電位と開孔(31
) 、 (32)の変化との組合わせによって、所要の
発散、偏向作用をもつ4極子レンズ(FPL)とするこ
とができる。(G8), if the horizontally long aperture (31) of the seventh grid (G7) on the high potential side is made a little closer to a square, the incident parallel beam will be The magnitude and state of the divergence angle θ of the beam exiting from the beam change greatly. Needless to say, the strength and state of the divergence and deflection effects of this quadrupole lens change by changing the electrode potential, so the electrode potential and the aperture (31
) and (32), a quadrupole lens (FPL) having the required divergence and deflection action can be obtained.
したがって、第2図(a)および(b)に示したように
、3電子ビム(7B) 、 (7G) 、 (7R)が
上記のように第7、第8グリツド(G7) 、 (G8
)により構成される4極子レンズを通過して、共通の大
口径レンズ(LEL)に入射すると、センタービーム(
7G)は、その4極子レンズ(FPL)により発散して
共通の大口径レンズ(LEL)に入射し、所定距離離間
した蛍光体スクリーン(3)上に適正に集束する。また
、対のサイドビーム(7B) 、 (7R)は、上記4
極子レンズ(FPL)によりセンタービーム(7G)よ
りも強く発散されかつ中央側よりも周辺側が強く発散さ
れながら、しかもビーム中心軸がセンタービーム(7G
)に対して離間しながら、共通の大口径レンズ(LEL
)に入射する。その結果、センタービーム(7G)より
も一対のサイドビーム(7B)、(7R)の対して、共
通の大口径レンズ(LEL)の集束作用が強いこと、一
対のサイドビーム(7B) 、 (7R)にコマ収差が
あること、一対のサイドビーム(7B) 、 (7R)
に過集中がおこることなどが相殺され、一対のサイドビ
ーム(7B) 、 (7R)は、センタービーム(7G
)と同じ蛍光体スクリーン(3)上の位置に到達し、か
つセンタービーム(7G)と同様に適正に集束されるよ
うになる。Therefore, as shown in FIGS. 2(a) and (b), the three electron beams (7B), (7G), (7R) are connected to the seventh and eighth grids (G7), (G8) as described above.
), the center beam (
7G) is diverged by its quadrupole lens (FPL), enters a common large aperture lens (LEL), and is properly focused onto a phosphor screen (3) spaced a predetermined distance apart. In addition, the pair of side beams (7B) and (7R) are
The polar lens (FPL) causes the beam to diverge more strongly than the center beam (7G), while the peripheral side is more strongly diverged than the center, and the beam center axis is the same as the center beam (7G).
), while a common large-diameter lens (LEL
). As a result, it was found that the common large aperture lens (LEL) had a stronger focusing effect on the pair of side beams (7B) and (7R) than on the center beam (7G). ) has comatic aberration, and a pair of side beams (7B) and (7R)
The pair of side beams (7B) and (7R) are offset by the excessive concentration that occurs in the center beam (7G).
) will reach the same position on the phosphor screen (3) as the center beam (7G) and will be properly focused like the center beam (7G).
いうまでもなく、この場合、4極子レンズ(PPL)の
発散特性と共通の大口径レンズ(LEL)の集束特性と
は、調整しておく必要がある。たとえば第5図に示した
大口径レンズ(LEL)を構成する第8グリツド(G8
)の横長の開孔(34)の蛍光体スクリーン側端部から
の距離Ωが低電位側の第8グリツド(G8)の蛍光体ス
クリーン側の円筒部(33)の内径DLよりも大きい位
置にある場合(1)>DL)は、4極子レンズ(FPL
)としては、高電位側の第7グリツド(G7)の横長の
開孔(31)を正方形に近付けて、第8図に示した曲線
(43b)のように発散特性をもつ4極子レンズ(FP
L)を構成すれば、一対のサイドビームの各中心ビーム
は、大きな発散角をもって大口径レンズ(LEL)に入
射し、かつセンタービームおよび一対のサイドビームは
、ともに強い発散作用を受け、第10図に示すように、
3電子ビム(7B) 、 (冗) 、 (7R)が共通
の大口径レンズ(LEL)に入射するときは、基本的に
1つの物点(Coo)から放出されたようになり、3電
子ビム(7B) 、 (7G) 、 (7R)を所定距
離離間した蛍光体スクリーン(3)上に適正に集束、集
中させることができる。Needless to say, in this case, the divergence characteristics of the quadrupole lens (PPL) and the convergence characteristics of the common large aperture lens (LEL) need to be adjusted. For example, the eighth grid (G8
) at a position where the distance Ω from the end of the horizontally long opening (34) on the phosphor screen side is larger than the inner diameter DL of the cylindrical portion (33) on the phosphor screen side of the eighth grid (G8) on the low potential side. If (1) > DL), the quadrupole lens (FPL
), the horizontally long aperture (31) of the seventh grid (G7) on the high potential side is made close to a square, and a quadrupole lens (FP
L), each center beam of the pair of side beams is incident on the large aperture lens (LEL) with a large divergence angle, and both the center beam and the pair of side beams are subjected to a strong divergence effect, and the 10th As shown in the figure,
When three electron beams (7B), (7B), (7R) enter a common large aperture lens (LEL), they basically appear to be emitted from one object point (Coo), and the three electron beams (7B), (7G), and (7R) can be appropriately focused and concentrated on the phosphor screen (3) separated by a predetermined distance.
また、距Mgが内径DLよりも小さい位置にある場合(
1<DL)には、第5図に基づいて前述したように、第
8グリツド(G8)の横長の開孔(34)のために、高
電圧側の電位の浸透が抑えられ、共通の大口径レンズ(
LEL)は、対称な円筒電子レンズが少し乱れて非対称
成分をもつようになる。そのため、4極子レンズ(FP
L)としては、高電位側の第7グリツド(G7)の横長
の開孔(31)を−層横長にして、第8図に示した曲線
(43a)のように発散特性をもつ4極子レンズ(PP
L)を構成すればよい。Also, if the distance Mg is at a position smaller than the inner diameter DL (
1<DL), as described above based on FIG. Aperture lens (
LEL), the symmetrical cylindrical electron lens is slightly disturbed and has an asymmetrical component. Therefore, a quadrupole lens (FP
L), the horizontally long opening (31) of the seventh grid (G7) on the high potential side is made horizontally long, and a quadrupole lens with divergent characteristics as shown in the curve (43a) shown in Fig. 8 is formed. (PP
L).
このような4極子レンズ(FPL)では、センタービー
ムにほとんど発散作用を与えることなく、一対のサイド
ビームに発散作用を与えることができ、センタービーム
よりも一対のサイドビームを相対的に強く発散させ、か
つ各サイドビームの周辺部側を中央側より強く発散させ
る。一方、共通の大口径レンズ(LEL)の3電子ビー
ムに対する集中誤差は小さいので、一対のサイドビーム
を少し発散させて入射させれば、1点に集中するように
なる。With such a quadrupole lens (FPL), it is possible to give a divergent effect to a pair of side beams while hardly giving a divergent effect to a center beam, and it is possible to give a divergent effect to a pair of side beams relatively more strongly than a center beam. , and the peripheral side of each side beam is made to diverge more strongly than the central side. On the other hand, since the concentration error for the three electron beams of a common large-diameter lens (LEL) is small, if the pair of side beams are slightly diverged and incident, they will be concentrated at one point.
また、センタービームよりも一対のサイドビームを強く
集束するので、一対のサイドビームを強く発散させて入
射させれば、同じように集束するようになる。さらに、
一対のサイドビームは、周辺部側が中央側よりも強く集
束されることにより、コマ収差を生ずることになるが、
中央側より周辺部側を強く発散させた電子ビームを入射
させることにより、そのコマ収差も補正される。Furthermore, since the pair of side beams are focused more strongly than the center beam, if the pair of side beams are strongly diverged and incident, they will be focused in the same way. moreover,
A pair of side beams causes coma aberration because the peripheral side is focused more strongly than the central side.
By injecting an electron beam that is more strongly divergent on the peripheral side than on the central side, the coma aberration can also be corrected.
上述のように、3電子ビームは、水平方向には、第7、
第8、第9グリツド(G7) 、 (Gill) 、
(G9)により構成される4極子レンズ(PPL)と共
通の大口径レンズ(LEL)とにより、所定距離離間し
た蛍光体スクリーン(3)上で適正に集束し、かつ1点
に集中させることができる。As mentioned above, the three electron beams horizontally include the seventh,
8th and 9th Grid (G7), (Gill),
(G9) and a common large aperture lens (LEL), it is possible to properly focus and concentrate on one point on the phosphor screen (3) separated by a predetermined distance. can.
一方、垂直方向については、3電子ビームは、第7、第
8グリツド(G7) 、 (G8)により構成される4
極子レンズ(FPL)により集束され、さらに、第8、
第9グリツド(G8) 、 (G9)により構成される
共通の大口径レンズ(LEL)により集束され、水平方
向にくらべて強く集束されることになる。On the other hand, in the vertical direction, the 3 electron beams are 4
focused by a polar lens (FPL);
The light is focused by a common large-diameter lens (LEL) formed by the ninth grid (G8) and (G9), and is focused more strongly than in the horizontal direction.
そこで、この例の電子銃(22)では、第5、第6、第
7グリツド(G5) 、 (G6) 、 (G7)によ
り、垂直方向のみ強く集束させ、第4図(C)にセンタ
ービーム(7G)について示したように、第7グリツド
(G7)中で3電子ビームを各中心軸と交差させて第2
クロスオーバ(CO2)を形成し、その後、第7、第8
グリツド(G7) 、 (G8)により形成される4極
子レンズ(PP1.、)に入射し、上記水平方向と同様
に蛍光体スクリーン(3)上に集束される。Therefore, in the electron gun (22) of this example, the fifth, sixth, and seventh grids (G5), (G6), and (G7) are used to strongly focus only in the vertical direction, and the center beam is shown in Fig. 4 (C). As shown for (7G), three electron beams are made to intersect each central axis in the seventh grid (G7) and the second
Form a crossover (CO2), then the 7th and 8th
The light enters the quadrupole lens (PP1.,) formed by the grids (G7) and (G8) and is focused onto the phosphor screen (3) in the same way as in the horizontal direction.
このように垂直方向に第2クロスオーバ(CO2)を形
成させた場合、第5、第6、第7グリツド(G5) 、
(G6) 、 (G7)によるレンズ作用を偏向ヨー
ク(8)による偏向周期に合せて変えれば、偏向収差を
抑制することができ、蛍光体スクリーン(3)周辺部の
ビームスポットを小さくすることができる。When the second crossover (CO2) is formed in the vertical direction in this way, the fifth, sixth, and seventh grids (G5),
By changing the lens action of (G6) and (G7) to match the deflection period of the deflection yoke (8), deflection aberration can be suppressed and the beam spot around the phosphor screen (3) can be made smaller. can.
また、この例の電子銃(22)については、第8グリツ
ド(G8)の電圧を調整して、蛍光体スクリーン(3)
上のビームスポット(SPB) 、 (SPG) 、
(SPR)の集束の微調整をおこなうときに、4極子レ
ンズ(FPL)の強さと共通の大口径レンズ(LEL)
の強さが相殺されるため、3電子ビム(7B) 、 (
7G) 、 (7R)の集中か変動しないという利点が
ある。In addition, for the electron gun (22) in this example, the voltage of the eighth grid (G8) is adjusted, and the phosphor screen (3) is
Upper beam spot (SPB), (SPG),
When fine-tuning the focusing of (SPR), a large aperture lens (LEL) that has the same strength as a quadrupole lens (FPL)
3 electron beams (7B), (
7G) and (7R) do not fluctuate.
さらにまた、この例の電子銃は、組立てに際して、第9
グリツド(G9)から第5グリツド(G5)までは、そ
れら各グリッドに形成されている横長の開孔(34)〜
(30)と同じ断面形状のセンター棒を挿入して、その
センター棒を基準にして組立てることができので、高精
度に組立てることかできるという利点もある。Furthermore, when assembling the electron gun of this example, the ninth
From the grid (G9) to the fifth grid (G5), there are horizontally long openings (34) to 5 formed in each grid.
Since a center rod having the same cross-sectional shape as (30) can be inserted and assembly can be performed using the center rod as a reference, there is also the advantage that assembly can be performed with high precision.
つぎに、この例の電子銃の具体例を示す。Next, a specific example of the electron gun of this example will be shown.
カソード間隔Sg =4.92mm+
電極の開孔径
第1グリツド、第2グリツドの開孔径=0.62mm第
3グリッド、第4グリツド、第5グリツドの第4グリッ
ド側開孔径=4.52mm
第5グリツド、第6グリツド、第7グリツドの第6グリ
ツト側開孔径(縦径/横径) −6,0mn+/22.
0mm
第7グリツドの第6グリツド側開孔径(縦径/横径)
=6.0 mn+/20.0mm+第8グリッドの第7
グリツド側開孔径(縦径/横径) = 4.52mn+
/ 22.0mm第8グリツドの中間部開孔径(縦径/
横径)=7.0 m11/ 20.0+nm
第8グリッドの蛍光体スクリーン側円筒部の開孔径=2
5.0mm
第9グリツドの開孔径=28.0mm
電極の長さ
第3グリツド= 2.5mm+、第4グリッド−2,0
mu+第5グリッド= 9.2mm、第6グリッド−4
mm第7グリツド= 21 、 mn+ 、第8グリッ
ド=37.0mm第8グリツドの蛍光体スクリーン側端
部から中間部開孔までの距離=1.5.0mm
第9グリッド=40m+++
であり、この電子銃を32インチ110度偏向カラ受像
管に適用した結果、3電子ビームを蛍光体スクリーンの
1点に集中し、かつ適正に集束することができた。Cathode spacing Sg = 4.92 mm + Electrode aperture diameter 1st grid, 2nd grid aperture diameter = 0.62 mm 4th grid side aperture diameter of 3rd grid, 4th grid, 5th grid = 4.52 mm 5th grid , 6th grid side opening diameter of 6th grid and 7th grid (vertical diameter/horizontal diameter) -6,0mn+/22.
0mm Hole diameter on the 6th grid side of the 7th grid (vertical diameter/horizontal diameter)
=6.0 mn+/20.0mm+7th grid of 8th grid
Grid side opening diameter (vertical diameter/horizontal diameter) = 4.52mm+
/ 22.0mm middle opening diameter of the 8th grid (vertical diameter /
Lateral diameter) = 7.0 m11/20.0+nm Opening diameter of the cylindrical part on the phosphor screen side of the 8th grid = 2
5.0mm Opening diameter of 9th grid = 28.0mm Electrode length 3rd grid = 2.5mm+, 4th grid -2.0
mu + 5th grid = 9.2mm, 6th grid - 4
mm 7th grid = 21, mn+, 8th grid = 37.0 mm, distance from the phosphor screen side end of the 8th grid to the middle opening = 1.5.0 mm, 9th grid = 40 m+++, and this electron As a result of applying the gun to a 32-inch 110 degree polarized color picture tube, the three electron beams could be focused and properly focused on one point on the phosphor screen.
なお、上記実施例の電子銃において、ブリフォカスレン
ズや円筒ユニポテンシャルレンズなどの他の電子レンズ
は、フォーカス調整や電子銃全体の性能を向上させて、
蛍光体スクリーン中央部に小さなビームスポットを形成
させるだめの一手段である。したかって、これらに非対
称レンズを用いたり、他の構成の電子レンズを用いたり
することは任意である。In the electron gun of the above embodiment, other electron lenses such as a brifocus lens and a cylindrical unipotential lens are used to improve focus adjustment and the performance of the electron gun as a whole.
This is a means of forming a small beam spot in the center of the phosphor screen. Therefore, it is optional to use an asymmetric lens or an electron lens with a different configuration for these.
また、上記実施例の電子銃では、第8グリツドの中間部
の開孔を横長としたが、この開孔は、横長に限定される
ものではなく、縦長としてもよい。Further, in the electron gun of the above embodiment, the opening in the middle part of the eighth grid is horizontally long, but the opening is not limited to horizontally long, but may be vertically long.
また、縦長とした場合でも、第8グリツドの蛍光体スク
リーン側端部からの距離Ωにより共通の大口径レンズの
特性は大きく変化するが、この場合も4極子レンズの特
性を合せることにより使用可能である。Also, even when the lens is vertically long, the characteristics of the common large-diameter lens vary greatly depending on the distance Ω from the end of the 8th grid on the phosphor screen side, but it can also be used in this case by matching the characteristics of the quadrupole lens. It is.
なおまた、上記実施例の電子銃は、第9グリツドが第8
グリツドを包囲する構造であるが、この発明に係る電子
銃としては、これに限定されるものでなく、円筒状の電
極を対向させたものでもよい。Furthermore, in the electron gun of the above embodiment, the ninth grid is the eighth grid.
Although this structure surrounds the grid, the electron gun according to the present invention is not limited to this, and may have cylindrical electrodes facing each other.
つぎに、他の実施例について述へる。Next, other embodiments will be described.
第11図に示す電子銃(22)は、前記実施例の電子銃
(第2図示)における第5、第6、第7グリツドによる
電子レンズ(VL)をなくし、かわりに4極子レンズ(
PPL)を配置した構成となっている。The electron gun (22) shown in FIG. 11 eliminates the electron lens (VL) formed by the fifth, sixth, and seventh grids in the electron gun (shown in the second figure) of the above embodiment, and replaces it with a quadrupole lens (VL).
PPL).
すなわち、3個のヒーター(11)により各別に加熱さ
れる水平方向に一列配置された3個のカット(KB)
、 (KO) 、 (KR)に対して、その蛍光体スク
リーン(3)側に順次節1、第2、第3グリツド(Gl
)。That is, three cuts (KB) arranged in a row in the horizontal direction are heated separately by three heaters (11).
, (KO), (KR), the nodes 1, 2, and 3 grids (Gl) are sequentially placed on the phosphor screen (3) side.
).
(G2)、 (G3)か配置されている。その第1、第
2グリツド(Gl) 、 (G2)および第3グリツド
(G3)の第2グリツド(G2)側の開孔は、それぞれ
前記実施例の電子銃と同一であるか、この第3グリツド
(G3)の第4グリツド(G4)側には、第12図(a
)に示すように、横長の3個の開孔(46)か水平方向
に一列配置に形成されている。この第3グリツド(G3
)の開孔(46)に対応して、第4グリツド(G4)の
第3グリツド(G3)側には、第12図(b)に示すよ
うに、縦長の3個の開孔(47)か水平方向に一列配置
に形成されており、これら各3個の開孔(4Ei) 、
(47)により、各別に4極子レンズ(FPL)か形
成される。(G2) and (G3) are placed. The openings on the second grid (G2) side of the first and second grids (Gl), (G2) and third grid (G3) are respectively the same as those of the electron gun of the above embodiment, or On the fourth grid (G4) side of the grid (G3), there is a
), three oblong holes (46) are formed in a row in the horizontal direction. This third grid (G3
), three vertically elongated holes (47) are provided on the third grid (G3) side of the fourth grid (G4), as shown in FIG. 12(b). These three openings (4Ei) are formed in a row in the horizontal direction.
(47), a quadrupole lens (FPL) is formed separately.
また、第4グリツド(G4)の第5グリツド(G5)側
には、3電子ビーム(7B) 、 (7G) 、 (7
R)を共通に通過させる第3図(d)に示した開孔(3
2)と同様の横長の開孔が、さらに、第5グリツド(G
5)の第4グリツド〈G4)側には、第3図(C)に示
した開孔(31)と同様の横長の開孔か形成されている
。In addition, on the fifth grid (G5) side of the fourth grid (G4), three electron beams (7B), (7G), (7
The aperture (3) shown in FIG.
A horizontally elongated hole similar to 2) is further formed in the fifth grid (G
5), a horizontally elongated hole similar to the hole (31) shown in FIG. 3(C) is formed on the fourth grid (G4) side.
なお、穿5グリッド(G5)の中間部の横長の開孔、第
5グリツド(G5)の蛍光体スクリーン(3)側の円筒
部(33)、第6グリツド(G6)は、それぞれ前記実
施例の第8グリツドの中間部の横長の開孔、第8グリツ
ドの蛍光体スクリーン側の円筒部、第9グリツドと同様
の形状に形成されている。Note that the horizontally elongated opening in the middle of the fifth grid (G5), the cylindrical part (33) on the phosphor screen (3) side of the fifth grid (G5), and the sixth grid (G6) are the same as in the above embodiment. The horizontally elongated opening in the middle part of the eighth grid, the cylindrical part on the phosphor screen side of the eighth grid, and the same shape as the ninth grid.
この電子銃(22)の各電極に印加される電圧は、たと
えば各カソード(KB) 、 (KG) 、 (KR)
を約150■のカットオフ電圧として、これに映像信号
を加え、第1グリツl”(Gl)を接地電位とし、第3
、第5グリツド(G3) 、 (G5)に5〜10kV
、第4グリツド(G4)に2−5 kV、第6グリツド
(G6)に25〜30kVの陽極高電圧が印加される。The voltage applied to each electrode of this electron gun (22) is, for example, each cathode (KB), (KG), (KR)
is set as a cutoff voltage of approximately 150μ, a video signal is added to this, the first grid l” (Gl) is set to ground potential, and the third
, 5 to 10 kV to the 5th grid (G3), (G5)
, an anode high voltage of 2-5 kV is applied to the fourth grid (G4) and 25-30 kV to the sixth grid (G6).
このような電圧を印加することにより、この電子銃(2
2)には、第13図(a)の電極配置と対比して同(b
)および(C)に示した電子レンズか形成される。By applying such a voltage, this electron gun (2
2), the same electrode arrangement (b) is shown in contrast to the electrode arrangement in Fig. 13(a).
) and (C) are formed.
すなわち、各カソード(KB) 、 (KG) 、 (
KR)から放出された電子ビームは、カソード(KB)
、 (KG) 、 (KR)および第1、第2グリツ
ド(Gl>、 (G2)により、各中心軸(ZB) 、
(ZG) 、 (ZR)と交差して第1クロスオーバ
(COI)を形成し、第2、第3グリツド(G2) 、
(G3)によるプリフォーカスレンズ(PL)のより
わずかに集束されて第3グリツド(G3)に発散しなが
ら入射する。この第3グリツド(G3)に入射した各電
子ビーム(7B) 、 (7G) 、 (7R)は、第
3、第4グリツド(03)、 (G4)間に形成され
る3個各別の4極子レンズ(FPLI)により、水平方
向に集束され、垂直方向に発散される。ついで、第4、
第5グリツド(G4)、 (G5)間に形成される3個
各別の4極子レンズ(FPL2)により、水平方向に発
散され、垂直方向に集束され、かつ一対のサイドビーム
(7B) 、 (7R)は互いに離間する方向に曲げら
れる。このとき、一対のサイトビーム(7B) 、 (
7R)は、センタービーム(7G)よりも強い発散作用
を受ける。したがって、このような状態で第5グリツド
(G5)に入射する各電子ビーム(7B) 、 (7G
) 、 (7R)は、第5、第6グリツド(G5)、(
G6)により形成される共通の大口径レンズ(LEL)
により、所定間隔離間した蛍光体スクリーン(3)上に
集束かつ集中する。That is, each cathode (KB), (KG), (
The electron beam emitted from the cathode (KB)
, (KG), (KR) and the first and second grids (Gl>, (G2)), each central axis (ZB),
(ZG), (ZR) to form the first crossover (COI), and the second and third grids (G2),
(G3) is slightly focused by the prefocus lens (PL) and enters the third grid (G3) while diverging. Each of the electron beams (7B), (7G), (7R) incident on this third grid (G3) is transmitted to each of the three separate 4 electron beams formed between the third and fourth grids (03) and (G4). A polar lens (FPLI) focuses horizontally and diverges vertically. Next, the fourth
Three separate quadrupole lenses (FPL2) formed between the fifth grids (G4) and (G5) diverge in the horizontal direction and focus in the vertical direction, and a pair of side beams (7B), ( 7R) are bent in directions away from each other. At this time, a pair of sight beams (7B), (
7R) is subjected to a stronger divergence effect than the center beam (7G). Therefore, each electron beam (7B), (7G
), (7R) are the fifth and sixth grids (G5), (
G6) common large aperture lens (LEL) formed by
The light is focused and concentrated on the phosphor screen (3) separated by a predetermined distance.
すなわち、この例の電子銃(22)では、4極子レンズ
と共通の大口径レンズとによる3電子ビーム(7B)
、 (7G) 、 (71?)の水平、垂直方向の集束
力の相違を、共通の大口径レンズ(1、EL)に対して
カソード(KB) 、 (KG) 、 (KR)側に設
けられた3電子ビーム(7B)。That is, in the electron gun (22) of this example, three electron beams (7B) are generated by a quadrupole lens and a common large-diameter lens.
, (7G), (71?) in the horizontal and vertical directions can be explained by the differences in the horizontal and vertical focusing powers of the lenses provided on the cathode (KB), (KG), and (KR) sides with respect to the common large-diameter lens (1, EL). 3 electron beams (7B).
(7G)、 (7R)に対して各別の2つの4極子レン
ズ(FPLI) 、 (FPL2)により調整するよう
ななっており、前記実施例の共通の4極子レンズとは、
集束、発散の方向か反対となっている。(7G) and (7R) are adjusted by two separate quadrupole lenses (FPLI) and (FPL2), and the common quadrupole lenses in the above embodiments are:
The direction of convergence and divergence is the opposite.
このように3電子ビーム(7B)、(7G)、(7R)
に対して各別の4極子レンズ(PPLI)、 (FPL
2)を設けることにより、センタービーム(冗)と一対
のサイドビ−ム(7B) 、 (7R)との集束の相違
を調整することができる。すなわち、第12図(a)お
よび(b)に示した各3個の横長の開孔(31)、(3
2)について、その中央の開孔形状と両側の開孔形状と
を変えることにより、センタービーム(7G)に対する
4極子レンズの特性と一対のサイドビーム(7B) 、
(7R)に対する4極子レンズの特性とを変えること
ができ、それによりセンタービーム(7Gyと一対のサ
イドビーム(7B) 、 (7R)との集束の相違を調
整することができる。また、このような各別の4極子レ
ンズの強弱を偏向ヨーク(8)による偏向に同期して変
化させることにより、蛍光体スクリーン(3)周辺部に
おける偏向収差を補正することができ、蛍光体スクリー
ン(3)全面において、良好な解像度をもつカラー受像
管装置とすることができる。In this way, 3 electron beams (7B), (7G), (7R)
For each separate quadrupole lens (PPLI), (FPL
By providing 2), it is possible to adjust the difference in focusing between the center beam (redundant) and the pair of side beams (7B) and (7R). That is, each of the three horizontally long openings (31) and (3) shown in FIGS.
Regarding 2), by changing the shape of the central aperture and the shape of the apertures on both sides, the characteristics of the quadrupole lens for the center beam (7G) and the pair of side beams (7B),
The characteristics of the quadrupole lens for (7R) can be changed, thereby adjusting the difference in focusing between the center beam (7Gy) and the pair of side beams (7B) and (7R). By changing the strength of each quadrupole lens in synchronization with the deflection by the deflection yoke (8), deflection aberrations in the peripheral area of the phosphor screen (3) can be corrected, and the phosphor screen (3) A color picture tube device with good resolution can be obtained in all aspects.
なお、この例の電子銃(229においても、開孔に第9
図に示したような舌片を設けて、4極子レンズを形成す
る開孔とすることは任意である。Note that the electron gun (229) of this example also has a ninth hole in the aperture.
It is optional to provide a tongue as shown in the figure to form an aperture forming a quadrupole lens.
[発明の効果コ
同一平面上を通る一列配置の3電子ビームを放出するカ
ラー受像管の電子銃の主レンズ部に3電子ビームを共通
に通過させる少なくとも2個グリッドにより構成される
共通の大口径電子レンズを設け、その共通の大口径電子
レンズよりも電子ビーム形成部側に3電子ビームを共通
に通過させる非円形電子ビーム通過孔を有する少なくと
も2個のグリッドにより、水平方向に発散作用をもち、
垂直方向に集束作用をもつ4極子レンズを設けると、そ
の4極子レンズにより一対のサイドビームを互いに離間
する方向に曲げ、同時にこの一対のサイドビームにセン
タービームよりも強く発散作用を及ぼして、共通の大口
径電子レンズに入射させ、その共通の大口径電子レンズ
により、センタービームおよび一対のサイドビームを蛍
光体スクリーン上に適正に集束させ、かつ集中させるよ
うにすることかできる。その結果、蛍光体スクリン上の
ビームスポットを小さくでき、すくれた画像を表示する
カラー受像管装置とすることができる。[Effects of the invention] A common large aperture composed of at least two grids through which the three electron beams commonly pass through the main lens of the electron gun of the color picture tube which emits three electron beams arranged in a row passing on the same plane. An electron lens is provided, and at least two grids each having a non-circular electron beam passing hole through which three electron beams commonly pass are provided on the side closer to the electron beam forming section than the common large-diameter electron lens, and have a diverging effect in the horizontal direction. ,
When a quadrupole lens that has a vertical focusing effect is provided, the quadrupole lens bends a pair of side beams in a direction that separates them from each other, and at the same time exerts a diverging effect on the pair of side beams more strongly than the center beam, resulting in a common The center beam and the pair of side beams can be appropriately focused and concentrated on the phosphor screen by the common large-diameter electron lens. As a result, the beam spot on the phosphor screen can be made smaller, resulting in a color picture tube device that displays a narrower image.
第1図ないし第13図はこの発明の詳細な説明図で、第
1図はその一実施例であるカラー受像管装置の構成を示
す図、第2図(a)および(b)はそれぞれその電子銃
のx−Z断面図およびY−2断面図、第3図(a)ない
しくe)はそれぞれその電子銃における電極の開孔形状
を示す図、第4図(a)ないしくC)はそれぞれ上記電
子銃の各電子レンズの作用を説明するための図、第5図
(a)ないしくd)はそれぞれ上記電子銃の共通の大口
径レンズの作用を説明するための図、第6図(a)ない
しくe)はそれぞれ第8グリツドの中間部に形成される
開孔が共通の大口径レンズの特性に及ぼす作用を説明す
るための図、第7図(a)ないしくC)はそれぞれ4極
子レンズの作用を説明するための図、第8図はその4極
子レンズによる電子ビームの発散を説明するための図、
第9図(a)および(b)はそれぞれ4極子レンズを形
成するための他の開孔形状を示す図、第1O図は4極子
レンズの発散特性と共通の大口径レンズの集束特性との
調整を説明するための図、第11図(a)および(b)
はそれぞれ他の実施例の電子銃のx−Z断面図およびY
−Z断面図、第12図(a)および(b)はそれぞれそ
の電子銃における電極の開孔形状を示す図、第13図(
a)ないしくC)はそれぞれ上記電子銃の各電子レンズ
の作用を説明するための図、第14図ないし第18図は
従来のカラー受像管装置の説明図で、第14図はその従
来のカラー受像管装置の構成を示す図、第15図(a)
および(b)はそれぞれその電子銃における共通の大口
径レンズの作用を説明するための図、第16図(a)お
よび(b)はそれぞれ異なる電子銃における電子レンズ
の作用を説明するための図、第17図はさらに異なる電
子銃の電子ビームに対する作用を説明するための図、第
18図はその電子銃の開孔形状を示す図である。
3・・・蛍光体スクリーン
7B・・・センタービーム
7G、7R・・・一対のサイドビーム
22・・・電子銃 29,30,31,32.
34・・・開孔Gl・・・第1グリツド G2・・・
第2グリツドG3・・・第3グリツド G4・・・第
4グリッドG5・・・第5グリツド G6・・・第6
グリツドG7・第7グリツド G8・・・第8グリツ
ドG9・・・第9グリツド H・・ヒータKB、KG
、KR・・カソード FPL・・・4極子レンズLEL
・・・共通の大口径レンズ1 to 13 are detailed explanatory diagrams of the present invention, in which FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a color picture tube device as an embodiment thereof, and FIGS. 2(a) and (b) are respectively the same. The x-Z cross-sectional view and Y-2 cross-sectional view of the electron gun, and FIGS. 3(a) to 3(e) respectively show the aperture shapes of the electrodes in the electron gun, and FIGS. 4(a) to C) 5(a) to 5(d) are diagrams for explaining the action of the common large-diameter lens of the electron gun, and FIG. Figures (a) to e) are diagrams for explaining the effect that the apertures formed in the middle part of the eighth grid have on the characteristics of the common large-diameter lens, respectively, and Figures 7 (a) to C). 8 is a diagram for explaining the action of the quadrupole lens, and FIG. 8 is a diagram for explaining the divergence of the electron beam by the quadrupole lens.
Figures 9(a) and (b) are diagrams showing other aperture shapes for forming a quadrupole lens, respectively, and Figure 1O is a diagram showing the divergence characteristics of a quadrupole lens and the focusing characteristics of a common large-diameter lens. Diagrams for explaining adjustment, FIGS. 11(a) and (b)
are x-Z cross-sectional views and Y-axis cross-sectional views of electron guns of other embodiments, respectively
-Z cross-sectional view, FIGS. 12(a) and (b) are diagrams showing the aperture shape of the electrode in the electron gun, and FIG. 13(
14 to 18 are explanatory diagrams of a conventional color picture tube device, and FIG. A diagram showing the configuration of a color picture tube device, FIG. 15(a)
16(a) and (b) are diagrams for explaining the action of a common large-diameter lens in each electron gun, and FIGS. 16(a) and (b) are diagrams for explaining the action of an electron lens in different electron guns, respectively. , FIG. 17 is a diagram for explaining the action of a different electron gun on the electron beam, and FIG. 18 is a diagram showing the shape of the aperture of the electron gun. 3... Phosphor screen 7B... Center beams 7G, 7R... Pair of side beams 22... Electron gun 29, 30, 31, 32.
34... Opening Gl... First grid G2...
2nd grid G3...3rd grid G4...4th grid G5...5th grid G6...6th grid
Grid G7/7th grid G8...8th grid G9...9th grid H...Heater KB, KG
, KR...Cathode FPL...Quadrupole lens LEL
・・・Common large diameter lens
Claims (1)
通るセンタービームおよび一対のサイドビームからなる
一列配置の3電子ビームを放出する電子銃と、この電子
銃から放出される3電子ビームを水平および垂直方向に
偏向する偏向装置と、この偏向装置により水平および垂
直方向に偏向された3電子ビームの走査により画像を表
示する蛍光体スクリーンとを備え、上記電子銃が少なく
とも上記3電子ビームを形成する電子ビーム形成部とこ
の電子ビーム形成部から放出される3電子ビームを集束
して上記蛍光体スクリーン上に集中させる主レンズ部と
を有するカラー受像管装置において、 上記主レンズ部は上記3電子ビームを共通に通過させる
少なくとも2個のグリッドにより構成される共通の大口
径電子レンズを有し、この共通の大口径電子レンズより
も上記電子ビーム形成部側に上記3電子ビームを共通に
通過させる非円形電子ビーム通過孔を有する少なくとも
2個のグリッドにより水平方向に発散作用をもち垂直方
向に集束作用をもつ4極子レンズを設けたことを特徴と
するカラー受像管装置。[Claims] An electron gun that emits three electron beams arranged in a row, consisting of a center beam and a pair of side beams that pass on the same plane, consisting of a cathode and a plurality of grids, and three electrons emitted from this electron gun. The electron gun includes a deflection device that deflects the beam in horizontal and vertical directions, and a phosphor screen that displays an image by scanning the three electron beams deflected in the horizontal and vertical directions by the deflection device, and the electron gun In a color picture tube device having an electron beam forming section that forms a beam and a main lens section that focuses three electron beams emitted from the electron beam forming section onto the phosphor screen, the main lens section is A common large-diameter electron lens constituted by at least two grids through which the three electron beams commonly pass, and a common large-diameter electron lens that is closer to the electron beam forming section than the common large-diameter electron lens, and which allows the three electron beams to pass through in common. 1. A color picture tube device comprising a quadrupole lens having a diverging effect in the horizontal direction and a focusing effect in the vertical direction by at least two grids each having a non-circular electron beam passing hole through which the electron beam passes.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2421790A JPH03230457A (en) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Color picture tube device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2421790A JPH03230457A (en) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Color picture tube device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03230457A true JPH03230457A (en) | 1991-10-14 |
Family
ID=12132124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2421790A Pending JPH03230457A (en) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Color picture tube device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03230457A (en) |
-
1990
- 1990-02-02 JP JP2421790A patent/JPH03230457A/en active Pending
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