JPH03230510A - Laminated ceramic capacitor and manufacture thereof - Google Patents

Laminated ceramic capacitor and manufacture thereof

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JPH03230510A
JPH03230510A JP2025264A JP2526490A JPH03230510A JP H03230510 A JPH03230510 A JP H03230510A JP 2025264 A JP2025264 A JP 2025264A JP 2526490 A JP2526490 A JP 2526490A JP H03230510 A JPH03230510 A JP H03230510A
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Japan
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polyamic acid
ceramic
exposed
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睦男 中島
Atsushi Hagimura
厚 萩村
Ikuo Inage
稲毛 育夫
Kunio Nishihara
邦夫 西原
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

PURPOSE:To effectively obtain a laminated capacitor having high dielectric breakdown strength, by forming an insulating layer containing polyimide resin on the exposed part of an inner electrode plate on the side end surface and ceramics in the vicinity of said part. CONSTITUTION:A laminated ceramic capacitor is constituted by alternately stacking ceramic films 2 and inner electrode plates 22. An insulating layer containing polyimide resin having repetition unit expressed by formula I is formed on the exposed part of the inner electrode 22 on the side end surface and ceramics in the vicinity of said part. In the formula I, X and Y are radicals selected out of a group composed of phenyl group, biphenyl group, and polyphenyl group. Thereby the laminated ceramic capacitor can be provided with high dielectric breakdown strength, and also efficient production is realized.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、セラミックス積層体素子、特に積層セラミン
クスコンデンサ及びそれら素子の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to ceramic laminate elements, particularly to laminate ceramic capacitors and methods for manufacturing these elements.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、セラミックスの膜又は薄板と内部電極か交互に積
層されたセラミックス積層体素子、例えば、積層セラミ
ックスコンデンサは以下の方法で製造されるのか通例で
ある。
Conventionally, a ceramic laminate element in which ceramic films or thin plates and internal electrodes are alternately laminated, such as a laminated ceramic capacitor, is typically manufactured by the following method.

まず、原料組成物を混合し、仮焼し、この仮焼粉に適当
なバインダ及び溶剤を混合し、この混合物を用いてドク
ターブレード法により薄膜を作成する。この薄膜に金属
電極を印刷し、積層する。
First, raw material compositions are mixed and calcined, a suitable binder and solvent are mixed with this calcined powder, and a thin film is formed using this mixture by a doctor blade method. Metal electrodes are printed on this thin film and laminated.

この積層体中の複数の金属電極板を一つ置きに外部電極
に接続して一方の系統を正、他方の系統を負とする。
A plurality of metal electrode plates in this laminate are connected to external electrodes every other time, so that one system is positive and the other system is negative.

この製造方法においては、図1に示すように、正、負の
電極板の重なった部分の面積か全断面積よりも小さくし
なければならず、従って周辺部では電極板の重ならない
部分か生じる。
In this manufacturing method, as shown in Figure 1, the area of the overlapping portion of the positive and negative electrode plates must be smaller than the total cross-sectional area, and therefore, there is a portion where the electrode plates do not overlap in the peripheral area. .

コンデンサの静電容量は電極面積に比例するので、上記
のコンデンサではセラミックス薄膜の全断面積を利用す
ることか出来ず、コンデンサ小型大容量化の障害になっ
ている。又、セラミックスの種類によっては、電圧印加
によって比較的大きな歪みか生しる為に、電極のある部
分とない部分の境界イー1近に[ご力か集中し、長時間
らしくは繰り返しの電圧印加により、セラミックスに破
壊か生したり、内部電極か剥離するような故障か生しる
ことかある。更に叉、このような積層コンデンサを製造
するには内部電極の印刷精度を上げたり、積層時の各グ
リーンソーi・の積層位置t+’i度を上げねはならず
、生産性向上の障害になっている。
Since the capacitance of a capacitor is proportional to the electrode area, the above-mentioned capacitor cannot utilize the entire cross-sectional area of the ceramic thin film, which is an obstacle to increasing the size and capacity of the capacitor. Also, depending on the type of ceramic, relatively large distortions may occur when voltage is applied. This may cause failures such as destruction of the ceramics or peeling of internal electrodes. Furthermore, in order to manufacture such a multilayer capacitor, it is necessary to increase the printing accuracy of the internal electrodes and to increase the lamination position t+'i of each green saw during lamination, which becomes an obstacle to improving productivity. It has become.

上記のような欠ヴを解消する方法として、債Ijり電工
効果素子の例であるか、1+f開昭59  l 155
7!IS’;公報に電気泳動法を利用して、A:i−の
側1’に’+而に露出した電極に対してその全面又は−
層おきに無機絶縁層を形成することを特徴とする電工効
果素子の製造方法か開示されている。そのような製造方
法を用いる場合には上記のような欠点は解消される。し
かし、この方法では5rrc機絶縁層(たいていの場合
はガラス質である)を焼き付けるのに高温を必要とする
ので、経済的ではなく、又、無機の絶縁層はセラミック
ス本体とのなじみが良いため広範囲に付着し、従って側
端面に露出した各々の電極に付着した絶縁層か相互に連
続しないように層間の距離を100ミクロン以上にしな
ければならないといわれ、従って、電極間距離を100
ミクロン以下にして静電容量の高いコンデンサを作るこ
とかできないという欠点かある。
As a method to eliminate the above-mentioned deficiencies, there is an example of an electrician effect element, 1+f 155
7! IS': Using the electrophoresis method described in the publication, the entire surface or - of the electrode exposed on the side 1' of A:i-
A method for manufacturing an electrical effect element is disclosed, which is characterized in that an inorganic insulating layer is formed every other layer. When such a manufacturing method is used, the above-mentioned drawbacks are eliminated. However, this method is not economical because it requires high temperatures to bake the 5rrc insulating layer (which is usually glassy), and since the inorganic insulating layer has good compatibility with the ceramic body, It is said that the distance between the layers must be 100 microns or more so that the insulating layers adhered to each electrode exposed on the side end surface are not continuous with each other.
The drawback is that it is only possible to make capacitors with high capacitance below a micron.

〔発明か解決しようとする課題〕[Invention or problem to be solved]

近年、小型で静電容量の大きい積層セラミックスコンデ
ンサの震要は益々大きくなっている。その為、比誘電率
の高いセラミックスを探索する一方で、いかに−層のセ
ラミックスの厚みを薄くするかに努力かはられれており
、なかには−層の厚みか10ミクロン以下のものまで試
作されている。
In recent years, multilayer ceramic capacitors, which are small and have large capacitance, have become increasingly popular. Therefore, while searching for ceramics with a high dielectric constant, efforts are being made to reduce the thickness of the ceramic layer, and some prototypes have been produced with a layer thickness of 10 microns or less. .

このような薄い層を有する積層コンデンサを効率よく生
産するには、前記〔従来の技術〕の中で述へたような欠
点をもたない新規の電極絶縁方法を開発する必要かある
In order to efficiently produce multilayer capacitors having such thin layers, it is necessary to develop a new electrode insulation method that does not have the disadvantages mentioned in the "Prior Art" section above.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明者らは、先きに端層電工素子の絶縁方法に関して
てはあるか、ポリアミド酸を電気泳動により内部電極の
素子端露出部に析出させて被11!2層を形成し、その
後加熱によって該被膜層のポリアミド酸樹脂をイミド化
し、得られたボリイミl”Ml脂で絶縁層を形成する方
法を先に出願した(特願平l −171854)。この
出願した方法は、従来困升どいわれていた有機物による
絶縁である点たけてなく、積層体の一層の厚さを100
ミクロン以下にする二とかできるという点においても画
期的であった。更に又、この方法の改良法として、ポリ
アミド酸を内部電極の素子端露出部に析出させる時に同
時に絶縁性フィラーを析出させる方法も提案した(特願
平1−294900)。
The present inventors have previously proposed an insulating method for end-layer electrical elements, in which polyamic acid is deposited on the exposed end of the element of the internal electrode by electrophoresis to form 11!2 layers, and then heated. previously applied for a method of imidizing the polyamic acid resin of the coating layer and forming an insulating layer with the obtained polyimide resin (Japanese Patent Application Hei 1-171854). The thickness of one layer of the laminate was increased to 100 mm instead of the insulation using organic materials, which was known as a laminate.
It was also revolutionary in that it could be made smaller than microns. Furthermore, as an improvement to this method, a method was proposed in which an insulating filler was deposited at the same time as polyamic acid was deposited on the exposed end portion of the element of the internal electrode (Japanese Patent Application No. 1-294900).

本発明者らは、上記方法か面述の積層セラミノタスコン
デンサにも適用できることを発見し、本発明を完成した
The present inventors have discovered that the above method can also be applied to the above-described multilayer ceraminotas capacitor, and have completed the present invention.

即ち、本発明は、 (11セラミックスの膜又は薄板と内部電極板とか交互
に積層されている積層セラミックスコンデンサであって
、該積層セラミックスコンデンサの側端面に該内部電極
板の端面か露出しており、該側端面上の該内部電極板の
露出部とその近傍のセラミックス上のみに、一般式(1
) (式中、Xはフェニル基:ビフェニル基、及びフェニル
基及びビフェニル基の少なくとも1種か0、C01S、
 SO,、CI(2、C(CH3)2及びc(cpa)
zの少なくとも1種によって結合されたポリフェニル基
からなる群から選ばれた四価の基であり、Yはフェニル
基、ビフェニル基;フェニル基及びビフェニル基の少な
くとも1種か0SCO1S、 SO2、CH2、C(C
H,)2及びC(CF3)2の少なくとも1種によって
結合されたポリフェニル基;アルキレン基、及びキシリ
レン基からなる群から選ばれた二価の基である)で表さ
れる繰り返し単位を有するポリイミド樹脂を含有する絶
縁層か形成されていることを特徴とする積層セラミック
スコンデンサ、(2)該コンデンサにおいて、絶縁性フ
ィラーを含有するポリイミド樹脂からなる絶縁層か形成
されている積層セラミックスコンデンサ、 (3)セラミックスの膜又は薄板と内部電極板とか交互
に積層されているセラミックス積層体の側端面に該内部
電極板の端面か露出している該セラミックス積層体を、
一般式(II) (式中、Xはフェニル基、ヒフェニル基 及びフェニル
基及びヒフェニル基の少/i・:とし1f・tが0、c
o、 s、 so2、CIl□、C(C1l、)2及び
C(CF])2の少な:とも1種によって結合されたポ
リフェニル法からなる11tから選はれた四価の店であ
り、)′はフェニル基、ヒフェニル基、フェニル堪及び
ヒフェニル基の少な(とC1種か0、co、 s、 s
o2、C12、C(CIl、)2及びC(CF、)2の
少な・:ともl +=1によって結合されたポリフェニ
ル基、アルキレ、 ll 、 及びキノリレン基からな
る群からrはれたm: fdliの店である)で表され
る繰り返し単位を(fするポリアミド酸樹脂のカルボキ
シル基を塩基で中和し、水で希釈して得た被膜形成剤を
含有する電気泳動浴中こ浸漬し、該セラミックス積層体
の内部電極板を陽極として電気体動を実施して該セラミ
ックス積層体の側端面上の該内部電極板の露出部とその
近傍のみに該ポリアミド酸を析出させて被膜層を形成し
、その後加熱処理して該被膜層のポリアミド酸樹脂をイ
ミド化させて一般式(T) (式中、X及びYは前記の通りである)で表わされる繰
り返し単位を有するポリイミド樹脂を含有する絶縁層を
形成させることを特徴とする前記の積層セラミックスコ
ンデンサの製造方法、(4)セラミ7・クスの膜又は薄
板と内部電極板とか交互に積層されているセラミックス
積層体の側端面に該内部電極板の端面か露出している該
セラミックス積層体を、一般式(II) (式中、Xはフェニル基、ヒフェニル基、及びフェニル
基及びヒフェニル基の少なくとも1種か01CO1S、
 SO□、C112、C(CH3)2及びC(CF3)
2の少なくとも1種によって結合されたポリフェニル基
からなる群から選ばれた四価の基であり、Yはフェニル
基:ヒフェニル基、フェニル基及びヒフェニル基の少な
くとも1種か0、C01S、 SO2、CH2、C(C
H3)2及びC(CF3)2の少な・(とも1種によっ
て結合されたポリフェニル基:アルキレン基、及びキン
リレン基からなる群から選ばれた二価の基である)で表
される繰り返し単位を有するポリアミド酸樹脂と該樹脂
中に分散した絶縁性フィラーとからなる組成物中の該ポ
リアミド酸樹脂のカルボキシル基を塩基で中和し、水で
希釈して得た被膜形成用電気泳動浴中に浸漬し、該セラ
ミックス積層体の内部電極板を陽極として電気体動を実
施して該セラミックス積層体の側端面上の該内部電極板
の露出部とその近傍のみに該ポリアミド酸及び該ポリア
ミド酸で被覆された該絶縁性フィラーを析出させて被膜
層を形成し、その後加熱処理して該被膜層のポリアミド
酸樹脂をイミド化させて一般式(I) (式中、X及びYは前記の通りである)で表わされる繰
り返し単位を有するポリイミド樹脂と絶縁性フィラーと
からなる絶縁層を形成させることを特徴とする積層セラ
ミックスコンデンサーの製造方法、 である。
That is, the present invention provides a multilayer ceramic capacitor in which (11) ceramic films or thin plates and internal electrode plates are alternately laminated, wherein the end surfaces of the internal electrode plates are exposed at the side end surfaces of the multilayer ceramic capacitor. , the general formula (1
) (wherein, X is a phenyl group: a biphenyl group, and at least one of a phenyl group and a biphenyl group, or 0, C01S,
SO,, CI(2, C(CH3)2 and c(cpa)
is a tetravalent group selected from the group consisting of polyphenyl groups bonded by at least one of z, Y is a phenyl group, a biphenyl group; at least one of a phenyl group and a biphenyl group, or C (C
A polyphenyl group bonded by at least one of H, )2 and C(CF3)2; a divalent group selected from the group consisting of an alkylene group and a xylylene group). A multilayer ceramic capacitor characterized in that an insulating layer containing a polyimide resin is formed, (2) a multilayer ceramic capacitor in which an insulating layer made of a polyimide resin containing an insulating filler is formed; 3) A ceramic laminate in which ceramic films or thin plates and internal electrode plates are alternately laminated, with the end surfaces of the internal electrode plates exposed on the side end surfaces of the ceramic laminate,
General formula (II) (wherein,
o, s, so2, CIl□, C(C1l,)2 and C(CF])2 are tetravalent stores selected from 11t consisting of a polyphenyl method bonded by one type, )' is a phenyl group, a hypohenyl group, a phenyl group, and a small amount of a hypohenyl group (and C1 type or 0, co, s, s
o2, C12, C(CIl,)2 and C(CF,)2: m from the group consisting of a polyphenyl group, alkylene, ll, and quinorylene group, both of which are bonded by l +=1 : The repeating unit represented by (fdli) was immersed in an electrophoresis bath containing a film-forming agent obtained by neutralizing the carboxyl groups of polyamic acid resin (f) with a base and diluting it with water. , conduct an electrical motion using the internal electrode plate of the ceramic laminate as an anode to deposit the polyamic acid only on the exposed portion of the internal electrode plate on the side end surface of the ceramic laminate and in the vicinity thereof, thereby forming a coating layer. formed, and then heat-treated to imidize the polyamic acid resin of the coating layer to contain a polyimide resin having a repeating unit represented by the general formula (T) (wherein X and Y are as described above). (4) forming an insulating layer on the side end surface of a ceramic laminate in which ceramic films or thin plates and internal electrode plates are alternately laminated; The ceramic laminate with the end face of the internal electrode plate exposed is formed by the general formula (II) (wherein,
SO□, C112, C(CH3)2 and C(CF3)
2 is a tetravalent group selected from the group consisting of polyphenyl groups bonded by at least one of 2, and Y is a phenyl group: at least one of a phenyl group, a phenyl group, and a hyphenyl group, or 0, CO1S, SO2, CH2, C (C
A repeating unit represented by a small number of H3)2 and C(CF3)2 (both polyphenyl groups bonded by one type: a divalent group selected from the group consisting of an alkylene group and a quinrylene group) In an electrophoresis bath for film formation obtained by neutralizing the carboxyl groups of the polyamic acid resin with a base and diluting it with water in a composition consisting of a polyamic acid resin having the following properties and an insulating filler dispersed in the resin. The polyamic acid and the polyamic acid are immersed in the ceramic laminate and subjected to electric motion using the internal electrode plate of the ceramic laminate as an anode, so that only the exposed portion of the internal electrode plate on the side end surface of the ceramic laminate and the vicinity thereof are exposed to the polyamic acid and the polyamic acid. The insulating filler coated with A method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor, characterized by forming an insulating layer made of a polyimide resin having a repeating unit represented by the following formula and an insulating filler.

本発明の製造方法において用いられる上記ポリアミド酸
樹脂はその一部か予めイミド化されていてもよい。
Part of the polyamic acid resin used in the production method of the present invention may be imidized in advance.

上記の一般式(I)で表わされる繰り返し単位を有する
ポリイミド樹脂及び一般式(II)で表わされる繰り返
し単位を有するポリアミド酸樹脂において、Xの具体例
として次ぎのらのかあるまた、 Yの具体例としては次ぎのちのかある。
In the polyimide resin having a repeating unit represented by the above general formula (I) and the polyamic acid resin having a repeating unit represented by the general formula (II), the following are specific examples of X, and specific examples of Y: There is a next life.

前記の 般式(I)で表わされる繰り返し単位 を有するポリイミ ド樹脂のセラミックス積層体基 [オへの密行性及び耐熱性の観点からXかてあり、 Yか 等であることか特に好ましい。the above Repeating unit represented by general formula (I) Polyimide with Ceramic laminate base made of resin [X-sided from the viewpoint of stealth to O and heat resistance, Y? It is particularly preferable that

本発明の製造方法において用いられる前記の一般式(I
I)で表わされる繰り返し単位を有するボッアミド酸樹
脂は一般式(III) (式中、 Xは前記の通りである) を存するテトラ カルホン酸無水物類と一般式(IV) 14□N−Y−NH7(IV) (式中、Yは前記の通りである)を有するジアミン類と
の付加反応によって得られる。
The general formula (I) used in the production method of the present invention
The boamic acid resin having the repeating unit represented by I) is a tetracarphonic acid anhydride having the general formula (III) (wherein, X is as described above) and the general formula (IV) 14□N-Y-NH7 (IV) (wherein Y is as described above) can be obtained by addition reaction with diamines.

上記のテトラカルホン酸無水物類としては、例えば、ピ
ロメリット酸二無水物、3.3’ 、 4.4°−ベン
ゾフェノンテトラカルホン酸二無水物、2.2°、3.
3ヘンシフエノンテトラカルホン酸二無水物、3゜3’
 、 4.4−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2.2°、 3.3’−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物、2.2−ヒス(3,4−ジカルボキシフェニル
)ブロバンニ無水物、2.2−ビス(2,3−)カルホ
キジフェニル)プロパンニ無水物、ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)エーテルニ無水物、ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)スルホンニ無水物、1.1−ビ
ス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンニ無水物、
ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタンニ無水物
、ビス(3,4−ジカルボキシルフェニル)メタンニ無
水物、2.3.6.7−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、1.4.5.8−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、1,2゜5.6−ナツタレンチトラカルホン
酸二無水物、1.2.3.4−ヘンセンテトラカルホン
酸二無水物、3.4.9.10−ペリレンテトラカルホ
ン酸二無水物、2.3.6.7−アントラセンテトラカ
ルホン酸二無水物、1.2.7.8−フエナントレンテ
[・ラカルホン酸二無水物等が好ましいものとして挙げ
られる。
Examples of the above-mentioned tetracarphonic anhydrides include pyromellitic dianhydride, 3.3'-, 4.4°-benzophenonetetracarphonic dianhydride, 2.2°, 3.
3hensiphenotetracarphonic dianhydride, 3°3'
, 4.4-biphenyltetracarboxylic dianhydride,
2.2°, 3.3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2.2-his(3,4-dicarboxyphenyl)brobannianhydride, 2.2-bis(2,3-)carboxydiphenyl ) propanianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)ether dianhydride, bis(3,4-
dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride,
Bis(2,3-dicarboxylphenyl)methanidianhydride, bis(3,4-dicarboxylphenyl)methanidianhydride, 2.3.6.7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1.4.5. 8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2゜5.6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1.2.3.4-hensentetracarboxylic dianhydride, 3.4. 9.10-perylenetetracarphonic dianhydride, 2.3.6.7-anthracenetetracarphonic dianhydride, 1.2.7.8-phenanthorente[·racarphonic dianhydride, etc. These are listed as preferred.

これらのうちで特に好ましいテトラカルホン酸二無水物
は、ピロメリノ1〜酸二無水物、3.3゛、 〜1.・
1ベンゾエノンテトラカルホノ酸二j低水1勿、3.3
’ 、 4.4−ヒスフェニルテトラカルボン酸二無水
物、およびビス(3,4−ノカルホキノフェニル)エー
テル二無水物である。
Among these, particularly preferred tetracarphonic dianhydrides are pyromerino 1-acid dianhydride, 3.3゛, ~1.・
1 benzoenonetetracarphonoic acid 2j low water 1 course, 3.3
', 4,4-hisphenyltetracarboxylic dianhydride, and bis(3,4-nocalphoquinophenyl)ether dianhydride.

」−記のジアミン類としては、3.3°−ノアミノヘン
ゾフェノノ、1.3−ヒス(3−アミノフェノキノ)ヘ
ンセン、4.4’−ヒス(3−アミノフェノキノ)ヒフ
ェニル、2.2−ヒス〔ト(3−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕フェニル〕プロパン、2.2−ヒス〔・1−(
3アミノフエノギノ)フェニル) −1,1,1,3,
3,3ヘキサフロオロプロパン、ヒス〔1−(3−アミ
ノフェノキシ)フェニル〕スルフィト、ヒス〔ト(3ア
ミノフエノキン)フェニル〕ケトン、ビス〔4(3−ア
ミノフェノキノ)フェニル〕スルホン等の、メタ位のジ
アミンか挙げられ、これらは単独で、或いは2種類以上
品合して用いられる。
” - diamines include 3.3°-noaminohenzophenono, 1.3-his(3-aminophenoquino)hensen, 4.4'-his(3-aminophenoquino)hyphenyl, 2 .2-His[(3-aminophenoxy)phenyl]phenyl]propane, 2.2-His[・1-(
3aminophenogino)phenyl) -1,1,1,3,
3,3 hexafluoropropane, his[1-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfite, his[tho(3-aminophenoquine)phenyl]ketone, bis[4(3-aminophenoquino)phenyl]sulfone, etc. These diamines can be used alone or in combination of two or more types.

上記したテトラカルホン酸無水物とジアミンとの反応は
通常、有機溶媒中で実施する。有機溶媒としては、例え
ば、N−メチル−2−ピロリドン、N。
The reaction between the above-mentioned tetracarphonic anhydride and diamine is usually carried out in an organic solvent. Examples of the organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone and N.

N−ツメジルアセトアミ[・、N、N−ツメチルホルム
アミド、1,3−ツメチル−2−イミダゾリジノン、N
、Nノエチルアセトアミト、N、N−ツメチルメトキノ
アセトアミl’、ツメチルスルホキット、ビリノン、)
/チルスルホン、ヘキサメチルホスホルアl〜、テトラ
メチル尿素、N−メチルカプロラクタム、テトラヒドロ
フラン ン、l,2−ノメトギノエタン、ヒス(2−メトギノエ
チル)エーテル、1,2−ヒス(2−メトキノエトキノ
)エタン、ビス(2−(2−メトキノエトキノ)エチル
〕エーテル等があげられる。これらの有機溶媒は単独で
も或いは2種以上混合して用いても構わない。
N-thumedylacetami[·, N, N-thmethylformamide, 1,3-thmethyl-2-imidazolidinone, N
, N-noethylacetamito, N,N-trimethylmethoquinoacetamyl', trimethylsulfokite, birinone,)
/tyrsulfone, hexamethylphosphorus l~, tetramethylurea, N-methylcaprolactam, tetrahydrofuran, l,2-nomethogynoethane, his(2-methogynoethyl)ether, 1,2-his(2-methoxynoethquino)ethane, bis( Examples include 2-(2-methoxynoethquino)ethyl]ether, etc. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

反応温度は通常−20°C以上200°C以下、好まし
くは一10°C以上50°C以下、さらに好ましくは0
°C以上である室温程度である。
The reaction temperature is usually -20°C or more and 200°C or less, preferably -10°C or more and 50°C or less, more preferably 0.
The temperature is about room temperature, which is above °C.

反応圧力は特に限定されず、常圧で十分実施できる。The reaction pressure is not particularly limited, and the reaction can be carried out at normal pressure.

反応時間は溶剤の種類、反応温度および用いられるジア
ミンや酸二無水物により異なりうるか、ポリアミド酸の
生成か完了するのに十分な時間反応させるには通常2〜
40時間、好まし・(は4〜21時間程度で十分である
Reaction times may vary depending on the type of solvent, reaction temperature, and diamine or dianhydride used, but are usually 2 to 30 minutes to allow the reaction to occur long enough to complete the formation of the polyamic acid.
40 hours, preferably 4 to 21 hours is sufficient.

所<シて得られるポリアミド酸溶液はポリアミド酸を5
〜40重Bkg6程度含有する溶液であり、対数粘度か
0. 5 〜4 di/g (35°C、温度0.5 
g/me、N。
The polyamic acid solution obtained by
It is a solution containing about 40 Bkg6, and has a logarithmic viscosity of 0. 5 to 4 di/g (35°C, temperature 0.5
g/me, N.

N−ジメチルアセトアミドでilt11定した値)程度
であるものか後述する水溶化性、及び加熱処理後のポリ
イミドの被膜物性に優れるので望ましい。
It is preferable to use a polyimide having a value of about 11 (Ilt11) determined with N-dimethylacetamide because it is excellent in water solubility, which will be described later, and in the physical properties of the polyimide film after heat treatment.

本発明ては、また、上記のようにして得られたポリアミ
ド酸に絶縁性フィラーを添加することもてきる。添加の
方法としては、絶縁性フィラーかポリアミド酸中に十分
に分散される方法であれは、ロール混練やホールミル等
のいずれの方法でもよい。絶縁性フィラーの添加量は2
〜70容量96程度か好ましい。添加量かあまりに少な
いと添加効果は現われず、逆に多すぎると最終的な電気
泳動浴中で絶縁性フィラーか沈澱してしまうので好まし
くない。
In the present invention, an insulating filler can also be added to the polyamic acid obtained as described above. The addition method may be any method such as roll kneading or hole milling as long as the insulating filler is sufficiently dispersed in the polyamic acid. The amount of insulating filler added is 2
~70 capacity or about 96 is preferable. If the amount added is too small, the effect of the addition will not be achieved, and if it is too large, the insulating filler will precipitate in the final electrophoresis bath, which is not preferable.

本発明で用いる絶縁性フィラーは、抵抗率105Ω・c
m程度以上の電気抵抗を示すものであれば無機化合物で
あっても、有機化合物であってもよい。このような絶縁
性フィラーとして用いられる無機化合物としては、ベリ
リウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、ホ
ウ素、珪素、スカンノウム、イツトリウム、ランタン、
チタン、ジルコニウム、ハフニウム及び希土類の酸化物
や複合酸化物、アルミニウム、ホウ素、珪素、チタン、
ジルコニウム、ハフニウム等の窒化物や酸窒化物、炭化
珪素のような炭化物か例示される。又、有機化合物とし
ては、電気ぶ動浴中て溶解しないものである必要かあり
、そのようなものとしてはソリコーン樹脂、テフロンで
代表されるフッ素系樹脂、フェノール樹脂、フラン樹脂
、エボキノ樹脂、アクリル樹脂等が例示される。
The insulating filler used in the present invention has a resistivity of 105Ω・c
It may be an inorganic compound or an organic compound as long as it exhibits an electrical resistance of about m or more. Inorganic compounds used as such insulating fillers include beryllium, magnesium, calcium, aluminum, boron, silicon, scannoum, yttrium, lanthanum,
Titanium, zirconium, hafnium and rare earth oxides and composite oxides, aluminum, boron, silicon, titanium,
Examples include nitrides and oxynitrides such as zirconium and hafnium, and carbides such as silicon carbide. In addition, the organic compound must be one that does not dissolve in an electric bath, and examples of such compounds include soricone resin, fluorine resins such as Teflon, phenolic resin, furan resin, evoquinone resin, and acrylic resin. Examples include resin.

本発明においては絶縁性フィラーの形状は、粒子状、繊
維状等を問わず任意であるが、寸法については必要とさ
れる絶縁層膜の厚さとの関係て決定される。つまり、絶
縁性フィラーの最大径が絶縁層膜の最小厚みより小さい
二とが必要である。
In the present invention, the shape of the insulating filler is arbitrary regardless of whether it is particulate or fibrous, but its dimensions are determined in relation to the required thickness of the insulating layer. In other words, it is necessary that the maximum diameter of the insulating filler is smaller than the minimum thickness of the insulating layer film.

更に、工業的には電気泳動浴中て良なTな分散状態を保
つことか重保である点を考1σずれは、絶縁性フィラー
の平均径は20ミクロン以下、好ましくは10ミクロン
以下であることが′−1!圭しい。
Furthermore, considering that industrially it is important to maintain a good T dispersion state in an electrophoresis bath, the 1σ deviation is such that the average diameter of the insulating filler is 20 microns or less, preferably 10 microns or less. That's 1! It's sad.

本発明の製造方法においては、ポリアミ)・酸溶液中に
絶縁性フィラーを分散:r+するが否かにかかわらす、
前記の一般式(■)で表わされろ繰り返し!ii位をf
I−するポリアト酸+S+脂は水の存在下で塩基、例え
はアミン又はアルカリ仝属イオンの添加によって、ぞの
COO++活かC0D−イオンに解離して水に可i8と
なるか又は安定にコロイi・分散することかでき、これ
は電気1水動によって陽極であるセラミックス漬層体側
端而に露出した内部電極板上に析出し、不溶化すること
かできる。
In the production method of the present invention, whether or not an insulating filler is dispersed in a polyamide acid solution,
Represented by the general formula (■) above, repeat! ii position f
In the presence of water, the polyatoic acid + S + fat dissociates into active COO++ or C0D- ions and becomes water-soluble or stably colloids by adding a base, such as an amine or an alkali ion. - It can be dispersed, and it can be precipitated on the internal electrode plate exposed on the side of the ceramic dipping layer body, which is the anode, by electricity and water movement, and can be made insolubilized.

上記の塩基としては、アンモニア:ジアルキルアミン、
ジェタノールアミン、モルホリン等の二級アミン類 ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールア
ミン、トリイソプロパツルアミン、ツメチルエタノール
アミン、ツメチルイソプロパツールアミン、ノエチルエ
タノールアミン、シメチルヘンンルアミン等の三級アミ
ン類苛性ソーダ、苛性カリ等の無機塩基類か用いられる
か、水希釈後の安定性や得られる被膜の性質から三級ア
ミン類か特に好ましい。
The above bases include ammonia: dialkylamine,
Secondary amines such as jetanolamine and morpholine Tertiary amines such as triethylamine, tributylamine, triethanolamine, triisopropazuramine, trimethylethanolamine, trimethylisopropazuramine, noethylethanolamine, and dimethylhenylamine Inorganic bases such as amines such as caustic soda and caustic potash are used, and tertiary amines are particularly preferred from the viewpoint of stability after dilution with water and the properties of the resulting film.

水稀釈性を付与する為に必要な塩基量は中和すべきポリ
アミド酸のカルホキン当量に対して30〜110モル0
6か一般的であり、特に40〜100モル06である二
とか好ましい。斯くして中和を行うことによって、ポリ
アミド酸は完全に水溶性となるか或いは部分的に水溶化
して懸濁状態となり水稀釈性を有するようになる。
The amount of base necessary to impart water dilutability is 30 to 110 moles based on the calhoquine equivalent of the polyamic acid to be neutralized.
6 is common, and 40 to 100 mol 06 is particularly preferred. By neutralizing in this manner, the polyamic acid becomes completely water-soluble or partially water-soluble, becoming suspended and dilutable with water.

上記の中和した組成物を水で希釈することにより、電気
’tyy、動処理か再処理ポリアミl’酸及び/又よ該
ポリアミl’酸で被覆された絶縁性フィラーをaむ懸濁
液からなる、被膜形成用電気、水動浴とすることか出来
るのである。
By diluting the above neutralized composition with water, a suspension of electrolytic, dynamically treated or reprocessed polyamic acid and/or an insulating filler coated with said polyamic acid is obtained. It is possible to use an electric or water-moving bath for film formation.

このようにして析出したポリアミ ド酸樹脂又は ポリアミド酸樹脂と絶縁性フィラ とからなる被 膜層は加熱処理によって一般式(1) (式中、Xは前記の通りである)で表わされる繰り返し
単位を有するポリイミド樹脂、又はポリイミド樹脂と絶
+Rはフィラーとからなる絶縁層に変換される。
The coating layer composed of the polyamic acid resin or the polyamic acid resin and the insulating filler precipitated in this way has a repeating unit represented by the general formula (1) (wherein X is as described above) by heat treatment. It is converted into an insulating layer made of polyimide resin or polyimide resin and filler.

上記のようにして得られたポリイミド樹脂、又はポリイ
ミド樹脂と絶縁性フィラーとからなる絶縁層はいずれも
絶縁耐力か優れており、且つ金属との接着も非常に優れ
ている。
The polyimide resin obtained as described above, or the insulating layer made of the polyimide resin and an insulating filler, both have excellent dielectric strength and excellent adhesion to metal.

本発明による積層セラミックスコンデンサの構成は、図
2(a)およびfb+に例示するように、セラミックス
の膜又は薄板と内部電極板か交互に積層さnているもの
であり、その内部電極板はセラミ・ノクスの膜又は薄板
の上、下いずれの面ともに、全面に存在し、かつ積層コ
ンデンサ側端面にその端面か露出しており、しかも各内
部電極板端面は外部電極を付けた時に一層ごとに正、負
別々の極性をもつように前述のポリイミド樹脂含有の絶
縁層で絶縁されているものである。このような積層コン
デンサを回路に取りつけるには、上記の外部電極にN+
、 Sn等てメツキをほとこし直接取りつけることも、
又、外部電極にリート線を取りつけ、このり−1−線で
回線と結ぶこともできる。
The structure of the multilayer ceramic capacitor according to the present invention is such that ceramic films or thin plates and internal electrode plates are alternately laminated, and the internal electrode plate is made of ceramic.・The Nox film or thin plate is present on both the upper and lower surfaces, and its end face is exposed on the side end face of the multilayer capacitor, and the end face of each internal electrode plate is exposed layer by layer when external electrodes are attached. It is insulated with the aforementioned polyimide resin-containing insulating layer so as to have separate positive and negative polarities. To install such a multilayer capacitor in a circuit, connect N+ to the above external electrode.
It is also possible to directly attach a small amount of plating such as Sn, etc.
It is also possible to attach a leet wire to the external electrode and connect it to the line using a 1-1 wire.

また必要に応し、フェノール樹脂等で封止してもよい。Further, if necessary, it may be sealed with a phenol resin or the like.

本発明の積層セラミックスコンデンサにはセラミックス
コンデンサに用いられる全てのセラミックスか使用可能
である。それらの例を上げれはPb(Zn、 Nb)0
3、Pb(Fe、 W)0、Pb(Fe、 Nb)03
、Pb(Mg、 Nb)02、Pb(N+、W)02、
P b(Mg、 W)03、PbTIOs、Pb(Zr
All ceramics used in ceramic capacitors can be used in the multilayer ceramic capacitor of the present invention. Give an example of these: Pb(Zn, Nb)0
3, Pb(Fe, W)0, Pb(Fe, Nb)03
, Pb(Mg, Nb)02, Pb(N+, W)02,
Pb(Mg, W)03, PbTIOs, Pb(Zr
.

TI)03、Pb(L+、Fe、W)Os、(Pb+−
xLax)(Zr、Tit−y)Oz等の鉛系ペロゲス
カイト化合物やPb5GezO+ +等の鉛系化合物、
BaTi0a、Ba(Ti、 5n)03、(Ba、 
Sr、 Ca)T+Ch、(Ba、 Ca) (Zr、
 Ti )Oz、(Ba、 Sr、 Ca)(Zr、 
Ti)Os、等のバリウム糸ペロブスカイト化合物、5
rTiOz等のストロンチウム系ペロブスカイト化合物
、CaTiO3、CaZrOs等のカルソウム系ペロブ
スカイト化合物やBIa丁IJ+2等の層状化合物等で
ある。また、それらの混合物であっても良い。更に、ま
た、本発明のセラミックス薄板には天然及び/または人
工の雲母ち含まれる。
TI)03, Pb(L+, Fe, W)Os, (Pb+-
xLax) (Zr, Tit-y) lead-based perogeskite compounds such as Oz, lead-based compounds such as Pb5GezO+ +,
BaTi0a, Ba(Ti, 5n)03, (Ba,
Sr, Ca)T+Ch, (Ba, Ca) (Zr,
Ti)Oz, (Ba, Sr, Ca)(Zr,
Barium yarn perovskite compounds such as Ti)Os, 5
These include strontium-based perovskite compounds such as rTiOz, calcium-based perovskite compounds such as CaTiO3 and CaZrOs, and layered compounds such as BIa-IJ+2. Alternatively, a mixture thereof may be used. Furthermore, the ceramic sheet of the present invention also includes natural and/or artificial mica.

内部電極板の[オ料としては、銀、パラジウム、金、自
分、ニンケル、銅、亜鉛等の導電性金属tオ料及びそれ
らの合金等か例示される。
Examples of the material for the internal electrode plate include conductive metal materials such as silver, palladium, gold, carbon dioxide, copper, zinc, and alloys thereof.

尚、本発明でいう積層体はいわゆるグリーンノート法で
作られたもののみてなく、焼結体薄板を接n斉1j−午
です長り合わせたしのや、CVDやPVDてf乍られた
セラミ、クス薄膜と電極を交互に端重ねたもの等も勿論
庁まれる。
Note that the laminate referred to in the present invention is not limited to those made by the so-called Green Note method, but also includes sintered thin plates bonded together in length, and ceramics made by CVD or PVD. Of course, those in which thin films of wax and electrodes are alternately stacked on top of each other are also contemplated.

〔実施例〕〔Example〕

以下に実施例を上げて本発明を更に詳しく説明する。′
!71論、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below. ′
! However, the present invention is not limited to these embodiments.

実施例1 撹拌器、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応容器中
で、3,3゛−ジアミノヘンシフエノン53.0g(0
,25モル)をN、N−ツメチルアセトアミド240 
mlこ溶解した。この溶液に3.3’ 、 4.4°−
ベンゾフェノンテトラカルホン酸二無水Th78.6g
 (0,244モル)の粉末を添加し、10°Cて24
時間撹拌してポリアミド酸溶液を1辱だ。得られたポリ
アミド酸の対数粘度は0.6dl/gであった。このポ
リアミド酸溶液中にツメチルエタノールアミン23.9
g(対カルホキツル当量55モル06)を徐々に加え、
20分間室温にて撹拌後、水905.3gを撹拌しつつ
徐々に室温にて加え水希釈してポリアミド酸水溶液を調
製した(樹脂濃度10重ffi 06 )。
Example 1 In a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube, 53.0 g of 3,3'-diaminohensiphenone (0
, 25 mol) to N,N-trimethylacetamide 240
ml was dissolved. 3.3', 4.4°-
Benzophenone tetracarphonic acid dianhydride Th78.6g
(0,244 mol) of powder was added and heated at 10°C for 24 hours.
Stir for a while and pour out the polyamic acid solution. The logarithmic viscosity of the obtained polyamic acid was 0.6 dl/g. In this polyamic acid solution, 23.9% of trimethylethanolamine was added.
Gradually add g (equivalent to Calhokituru 55 mol 06),
After stirring at room temperature for 20 minutes, 905.3 g of water was gradually added at room temperature while stirring and diluted with water to prepare an aqueous polyamic acid solution (resin concentration: 10 ffi 06 ).

また積層体(−層の厚みか約50μmで50層積層、セ
ラミックス組成はPb(Zn、Nb)0.−Pb(Mg
、Nb)03BaTiOa系、比誘電率は約9.000
.内部電極は銀とパラジウムの合金を主体にしたもの)
の試料については、一方の端面は一層おきに金属電極か
露出しており、もう一方の端面は全金属電極か露出して
いるものを予め作っておいた。−層おきに金属電極か露
出しな倶1に銀電極をJ売付け、半田てり一ト線を接続
した。前記水溶液をプラスチックの槽へ入れ、被膜形成
用電気6水動浴とし、被膜対象となる面記漬層体を陽極
として浸潤しり−1・線を陽極に接続した。60Vて4
秒間電圧を印加して電気泳動を行った。その後積層体を
取り出し、水洗後!50°Cて2時間、280°Cて2
時間の加熱処理により乾燥イミド化を行った。次に積層
体をまん中で切断し、イミ1〜樹脂絶縁膜付着側にKJ
電極を塗布しり一ト線を付けた。同様の操作を行うこと
により電極−楔毎に左右に絶縁層を存する積層体か得ら
れた。この絶縁層の厚さは50ミクロン程度で絶縁耐力
は500 V以上であることか確認された。
In addition, a laminate (50 layers laminated with a - layer thickness of about 50 μm, ceramic composition is Pb (Zn, Nb) 0.-Pb (Mg
, Nb)03BaTiOa system, relative permittivity is approximately 9.000
.. The internal electrode is mainly made of an alloy of silver and palladium)
For the sample, one end face had metal electrodes exposed on every other layer, and the other end face had all metal electrodes exposed. - I solder a silver electrode to the exposed metal electrode on every other layer, and connected a single wire with solder. The aqueous solution was placed in a plastic tank to form an electric 6 water bath for film formation, and the surface dipping layer to be coated was used as an anode, and the infiltration end-1 wire was connected to the anode. 60V 4
Electrophoresis was performed by applying a voltage for seconds. After that, take out the laminate and wash it with water! 2 hours at 50°C, 2 hours at 280°C
Dry imidization was performed by heat treatment for several hours. Next, cut the laminate in the middle, and place KJ on the side where the resin insulation film is attached.
The electrode was applied and a line was attached. By performing the same operation, a laminate having insulating layers on the left and right sides of each electrode wedge was obtained. It was confirmed that the thickness of this insulating layer was approximately 50 microns and the dielectric strength was 500 V or more.

実施例2 撹拌器、5AIRE冷却器及び窒素導入管を備えた反応
容器中で、3.3′−ジアミノヘンシフエノン53.0
g(0,25モル)をN、N−ジメチルアセトアミド2
40m1に溶解した。この溶液に3.3’ 、 4.4
’−ヘンシフエノンテトラカルホン酸二無水物78.6
g (0,244モル)の粉末を添加し、】0°Cて2
4時間撹拌してポリアミド酸溶液を得た。この溶液にア
ルミナ粉末(住人化学■製商品名、AKP−30)を6
20g添加し、3本ロールにより混練してアルミナ分散
ポリアミド酸水溶液を作った。このワニスにジメチルエ
タノールアミン21.7g (対カルホキン当jt50
モル96)を?余々に添加し、20分間室温にて撹拌し
た後、撹拌しつつ水905.3gを徐々に室温にて添加
して水希釈しアルミナ粉末含有ポリアミド酸懸濁液を調
製した。
Example 2 In a reaction vessel equipped with a stirrer, a 5AIRE condenser and a nitrogen inlet tube, 3.3'-diaminohensiphenone 53.0
g (0.25 mol) of N,N-dimethylacetamide 2
It was dissolved in 40ml. 3.3', 4.4 to this solution
'-hensiphenotetracarphonic dianhydride 78.6
g (0,244 mol) of powder was added and heated at ]0°C to 2
The mixture was stirred for 4 hours to obtain a polyamic acid solution. Add 6 pieces of alumina powder (trade name, AKP-30, manufactured by Sumitomo Chemical) to this solution.
20g was added and kneaded using three rolls to prepare an aqueous alumina-dispersed polyamic acid solution. Add 21.7 g of dimethylethanolamine to this varnish (jt50 per calhoquine)
Mol96)? After adding the excess and stirring at room temperature for 20 minutes, 905.3 g of water was gradually added at room temperature while stirring to dilute with water to prepare a polyamic acid suspension containing alumina powder.

また、積層体の試料については実施例1と全く同様のも
のを用い、−層おきに金属電極か露出した側に銀電極を
焼付け、半田でリート線を接続した。前記の懸濁液をプ
ラスチックの槽へ入れ、被膜形成用電気泳動浴とし、被
膜対象となる前記積層体を陽極として浸潤しリード線を
陽極に接続した。20Vて5秒間電圧を印加して電気泳
動を行った。その後積層体を取り出し、N、N−ジメチ
ルアセトアミドを20重量96含有した水溶液で積層体
を洗浄した後、150℃で2時間、280℃で2時間の
加熱処理により乾燥イミ1へ化を行った。次に積層体を
まん中で切断し、イミド樹脂絶縁膜付着側に銀電極を塗
布しり−!・線を付けた。同様の操作を行うことにより
電極−枚毎に左右に絶縁層を有する積層体か(Elられ
た。二の絶縁層の厚さは50ミクロン程度であった。
Further, as for the sample of the laminate, the same one as in Example 1 was used, and a silver electrode was baked on the exposed side of the metal electrode every other layer, and a rieet wire was connected with solder. The suspension was placed in a plastic tank to serve as an electrophoresis bath for film formation, and the laminate to be coated was infiltrated as an anode, and a lead wire was connected to the anode. Electrophoresis was performed by applying a voltage of 20V for 5 seconds. Thereafter, the laminate was taken out, washed with an aqueous solution containing 20% by weight of N,N-dimethylacetamide, and then heated at 150°C for 2 hours and at 280°C for 2 hours to form a dry imitation 1. . Next, cut the laminate in the middle and apply a silver electrode to the side where the imide resin insulating film is attached.・I added a line. By performing the same operation, a laminate having insulating layers on the left and right sides of each electrode was obtained. The thickness of the second insulating layer was about 50 microns.

このようにして得られた積層体の絶縁耐力をJ1j定し
たところ、電FJX500V以上てあった。
When the dielectric strength of the laminate thus obtained was determined by J1j, it was found to be 500 V or more.

実施例3 撹拌機、還流冷却器及び窒素導入管を1]1hえた容器
に、2.2−ヒス(,1−(3−アミノフェノギノ)フ
ェニル〕プロパン+1.(]8g0.1モル)と\、\
−ツメチルアセI・アミl”200 mlを装填し、O
″Cf1近まで冷却し、窒素雰囲気下に於いてビロメl
j、・1−酸二j匪水物21.8g(0゜1モル)の粉
末を+Jl+え、()°C伺近で2時間撹拌した。次に
」二足溶液を室温にjiコし、窒素雰囲気下で約20時
間の撹拌を行った。こうして得られたポリアミド酸の対
数粘度は1.5 dl、′gてあった。このポリアミド
酸溶液中(こ1〜(jエチルアミン20.2 g (灯
カルホキノル当!U′L100モル0(、)を徐々に加
え1時間室温にて撹拌後、水973gを撹拌しつつ徐々
に加えて希釈しポリアミド酸水溶液を調整した(樹脂濃
度5重量06)。
Example 3 In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube, 2,2-his(,1-(3-aminophenogino)phenyl]propane + 1.(]8 g, 0.1 mole) and \, \
- Loaded with 200 ml of ``Tumethylace I amyl'' and
``Cooled to near Cf1 and heated under nitrogen atmosphere.
A powder of 21.8 g (0° 1 mole) of 1-acid dihydride was stirred at +Jl+ for 2 hours at ()°C. Next, the bipod solution was brought to room temperature and stirred for about 20 hours under a nitrogen atmosphere. The logarithmic viscosity of the polyamic acid thus obtained was 1.5 dl,'g. Into this polyamic acid solution (20.2 g of ethylamine (per carphoquinol), 100 mol of U'L (,) was gradually added and stirred at room temperature for 1 hour, and then 973 g of water was gradually added with stirring. The mixture was diluted to prepare an aqueous polyamic acid solution (resin concentration: 5:06 by weight).

実施例1と同様にして積層体の試料を作成し、この試料
及び上記のポリアミド酸水溶液を用いて、実施例1と同
様にして絶縁層を設けた。この絶縁層は厚さ50μで5
00V以上の絶縁耐力を有していた。
A sample of a laminate was prepared in the same manner as in Example 1, and an insulating layer was provided in the same manner as in Example 1 using this sample and the above polyamic acid aqueous solution. This insulating layer has a thickness of 50μ and 5
It had a dielectric strength of 00V or more.

実施例4 撹拌機、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器に、2
.2−ヒス(4−(3−アミノフエノキソ)フェニル〕
プロパン旧、Og(0,1モル)とN、N−ジメチルア
セドアl〜219.6 gを加え、室温で窒素雰囲気下
に、3−31.L 4−ヘンシフエノンテトラカルホン
酸二無水物:31.6g (0,098モル)を乾燥固
体のまま、l合液温度の上昇に注意しながら、少量つつ
加え、室温で23時間反応した。こうして得られたポリ
アト酸の対数粘度は0.70dl/gであった。このポ
リアミド酸溶液中にトリエタノールアミン14.6g(
対カルホキノル当量50モル96)を徐々に加え、2時
間10°Cにて撹拌、水117.2 gを撹拌しつつ徐
々にl]I]えて希釈しポリアミ)−酸水溶液を調整し
た(樹脂濃度15重量06)。
Example 4 In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube, 2
.. 2-His(4-(3-aminophenoxo)phenyl)
Add propane, Og (0.1 mol) and ~219.6 g of N,N-dimethylacedo, and add 3-31. L 4-Hensephenonetetracarphonic dianhydride: 31.6 g (0,098 mol) was added as a dry solid in small portions while being careful not to increase the temperature of the mixture, and the mixture was reacted at room temperature for 23 hours. . The logarithmic viscosity of the polyatoic acid thus obtained was 0.70 dl/g. 14.6 g of triethanolamine (
50 moles of carfoquinol equivalent (96) was gradually added, stirred at 10°C for 2 hours, and 117.2 g of water was gradually diluted with stirring to prepare a poly(amic acid)-acid aqueous solution (resin concentration). 15 weight 06).

実施例1と同様にして積層体の試料を作成し、この試料
及び上記のポリアミド酸水溶液を用いて、実施例1と同
様にして絶縁層を設けた。この絶縁層は厚さ50g、て
500v以上の絶縁耐力を有していた。
A sample of a laminate was prepared in the same manner as in Example 1, and an insulating layer was provided in the same manner as in Example 1 using this sample and the above polyamic acid aqueous solution. This insulating layer had a thickness of 50 g and a dielectric strength of 500 V or more.

実施例5 アルミナ粉末の代わりにノリ力粉末(平均粒径0.5μ
m)を用いた以外は実施例2と全く同様にして実験を行
った。試料の絶縁破壊電圧は500V以上であった。
Example 5 Noriyoku powder (average particle size 0.5μ) was used instead of alumina powder.
An experiment was conducted in exactly the same manner as in Example 2 except that m) was used. The dielectric breakdown voltage of the sample was 500V or more.

実施例6 アルミナ粉末の代わりに窒化珪素粉末(平均粒径0.8
μm)を用いた以外は実施例2と全く同様にして実験を
行なった。試料の絶縁破壊電圧は50OVv、上あっr
こ。
Example 6 Silicon nitride powder (average particle size 0.8
The experiment was conducted in exactly the same manner as in Example 2, except that .mu.m) was used. The dielectric breakdown voltage of the sample was 50OVv, above
child.

実施例7 アルミナ粉末の代わりにチタニア粉末(平均粒径0.8
μm)を用いた以外は実施例2と全く同様にして実験を
行なった。試料の絶縁破壊電圧は、500V以上あった
Example 7 Titania powder (average particle size 0.8
The experiment was conducted in exactly the same manner as in Example 2, except that .mu.m) was used. The dielectric breakdown voltage of the sample was 500V or more.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上記実施例よりも明らかなように本発明による積層セラ
ミックスコンデンサは高い絶縁耐力を有し、しかも従来
法にくらべ簡単で効率よく生産か可能である為、高い信
頼性を存する積層セラミックスコンデンサを低コストて
製造てきる。
As is clear from the above examples, the multilayer ceramic capacitor according to the present invention has high dielectric strength, and can be manufactured more easily and efficiently than the conventional method, making it possible to produce a highly reliable multilayer ceramic capacitor at a low cost. It can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図1は、現在市販されている従来法による積層セラミッ
クスコンデンサの断面斜視図である。 図1において、■は誘電セラミックス、■は内部電極、
■は外部電極を示す。 図2(a)は、本発明による積層セラミックスコンデン
サの断面斜視図である。 図2(a)において、■は誘電セラミックス、■は内部
電極、0はポリイミド含育絶縁層、■はA側面、また[
相]はB側面を示す。なお、この図では、A、  B両
側面にある外部電極は省略して示した。 また、図2 +1)lは、本発明の積層セラミックスコ
ンデンサの断面図である。 図2(b)において、@は誘電セラミックス、@は内部
電極、■はポリイミド含有絶縁面、■は外部電極、■は
A側面、また[相]はB側面を示す。 また、A、B両側面に出た内部電極は1層おきに側面に
達している内部電極は、すべて絶縁層に覆われて絶縁さ
れている。
FIG. 1 is a cross-sectional perspective view of a conventional multilayer ceramic capacitor currently on the market. In Figure 1, ■ is dielectric ceramic, ■ is internal electrode,
■ indicates an external electrode. FIG. 2(a) is a cross-sectional perspective view of a multilayer ceramic capacitor according to the present invention. In FIG. 2(a), ■ is the dielectric ceramic, ■ is the internal electrode, 0 is the polyimide-containing insulating layer, ■ is the A side, and [
phase] indicates the B side. In this figure, the external electrodes on both sides of A and B are omitted. Further, FIG. 2+1)l is a cross-sectional view of the multilayer ceramic capacitor of the present invention. In FIG. 2(b), @ indicates the dielectric ceramic, @ indicates the internal electrode, ■ indicates the polyimide-containing insulating surface, ■ indicates the external electrode, ■ indicates the A side, and [phase] indicates the B side. Further, the internal electrodes extending from both sides of A and B, which reach the side surfaces every other layer, are all covered with an insulating layer and insulated.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)セラミックスの膜又は薄板と内部電極板とが交互
に積層されている積層セラミックスコンデンサであって
該積層セラミックスコンデンサの側端面に該内部電極版
の端面が露出しており、該側端面上の該内部電極板の露
出部とその近傍のセラミックス上のみに、一般式( I
) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xはフェニル基;ビフェニル基;及びフェニル
基及びビフェニル基の少なくとも1種がO、CO、S、
SO_2、CH_2、C(CH_3)_2及びC(CF
_3)_2の少なくとも1種によって結合されたポリフ
ェニル基からなる群から選ばれた四価の基であり、Yは
フェニル基;ビフェニル基;フェニル基及びビフェニル
基の少なくとも1種がO、CO、S、SO_2、CH_
2、C(CH_3)_2及びC(CF_3)_2の少な
くとも1種によって結合されたポリフェニル基;アルキ
レン基;及びキシリレン基からなる群から選ばれた二価
の基である)で表される繰り返し単位を有するポリイミ
ド樹脂を含有する絶縁層が形成されていることを特徴と
する積層セラミックスコンデンサ。
(1) A multilayer ceramic capacitor in which ceramic films or thin plates and internal electrode plates are alternately laminated, in which the end face of the internal electrode plate is exposed on the side end face of the multilayer ceramic capacitor, and the end face of the internal electrode plate is exposed on the side end face. The general formula (I
) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, X is a phenyl group; a biphenyl group; and at least one of the phenyl group and biphenyl group is O, CO, S,
SO_2, CH_2, C(CH_3)_2 and C(CF
_3) A tetravalent group selected from the group consisting of polyphenyl groups bonded by at least one of _2, Y is a phenyl group; a biphenyl group; at least one of the phenyl group and the biphenyl group is O, CO, S, SO_2, CH_
2, a polyphenyl group bonded by at least one of C(CH_3)_2 and C(CF_3)_2; an alkylene group; and a divalent group selected from the group consisting of a xylylene group). A multilayer ceramic capacitor characterized in that an insulating layer containing a polyimide resin having units is formed.
(2)絶縁性フィラーを含有するポリイミド樹脂からな
る絶縁層が形成されていることを特徴とする第1項記載
の積層セラミックスコンデンサ。
(2) The multilayer ceramic capacitor according to item 1, further comprising an insulating layer made of polyimide resin containing an insulating filler.
(3)セラミックスの膜又は薄板と内部電極板とが交互
に積層されているセラミックス積層体の側端面に該内部
電極板の端面が露出している該セラミックス積層体を、
一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xはフェニル基;ビフェニル基;及びフェニル
基及びビフェニル基の少なくとも1種がO、CO、S、
SO_2、CH_2、C(CH_3)_2及びC(CF
_2)_2の少なくとも1種によって結合されたポリフ
ェニル基からなる群から選ばれた四価の基であり、Yは
フェニル基;ビフェニル基;フェニル基及びビフェニル
基の少なくとも1種かO、CO、S、SO_2、CH_
2、C(CH_3)_2及びC(CF_3)_2の少な
くとも1種によって結合されたポリフェニル基;アルキ
レン基;及びキシリレン基からなる群から選ばれた二価
の基である)で表される繰り返し単位を有するポリアミ
ド酸樹脂のカルボキシル基を塩基で中和し、水で希釈し
て得た被膜形成剤を含有する電気泳動浴中に浸漬し、該
セラミックス積層体の内部電極板を陽極として電気泳動
を実施して該セラミックス積層体の側端面上の該内部電
極板の露出部とその近傍のみに該ポリアミド酸を析出さ
せて被膜層を形成し、その後加熱処理して該被膜層のポ
リアミド酸樹脂をイミド化させて一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、XおよびYは前記の通りである)で表わされる
繰り返し単位を有するポリイミド樹脂を含有する絶縁層
を形成させることを特徴とする請求項1記載の積層セラ
ミックスコンデンサの製造方法。
(3) A ceramic laminate in which ceramic films or thin plates and internal electrode plates are alternately laminated, and the end surfaces of the internal electrode plates are exposed on the side end surfaces of the ceramic laminate,
General formula (II) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula,
SO_2, CH_2, C(CH_3)_2 and C(CF
_2) A tetravalent group selected from the group consisting of polyphenyl groups bonded by at least one of _2, Y is a phenyl group; a biphenyl group; at least one of a phenyl group and a biphenyl group, or O, CO, S, SO_2, CH_
2, a polyphenyl group bonded by at least one of C(CH_3)_2 and C(CF_3)_2; an alkylene group; and a divalent group selected from the group consisting of a xylylene group). The carboxyl groups of the polyamic acid resin having the unit are neutralized with a base, and the resulting product is immersed in an electrophoresis bath containing a film-forming agent obtained by diluting with water, and the internal electrode plate of the ceramic laminate is used as an anode for electrophoresis. to precipitate the polyamic acid only on the exposed portions of the internal electrode plates and the vicinity thereof on the side end faces of the ceramic laminate to form a coating layer, and then heat-treat the polyamic acid resin of the coating layer. is imidized to form an insulating layer containing a polyimide resin having a repeating unit represented by the general formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (in the formula, X and Y are as described above) 2. The method of manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to claim 1, further comprising:
(4)セラミックスの膜又は薄板と内部電極板とが交互
に積層されているセラミックス積層体の側端面に該内部
電極板の端面が露出している該セラミックス積層体を、
一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xはフェニル基;ビフェニル基;及びフェニル
基及びビフェニル基の少なくとも1種がO、CO、S、
SO_2、CH_2、C(CH_3)_2及びC(CF
_3)_2の少なくとも1種によって結合されたポリフ
ェニル基からなる群から選ばれた四価の基であり、Yは
フェニル基;ビフェニル基;フェニル基及びビフェニル
基の少なくとも1種がO、CO、S、SO_2、CH_
2、C(CH_3)_2及びC(CF_3)_2の少な
くとも1種によって結合されたポリフェニル基;アルキ
レン基;及びキシリレン基からなる群から選ばれた二価
の基である)で表される繰り返し単位を有するポリアミ
ド酸樹脂と該樹脂中に分散した絶縁性フィラーとからな
る組成物中の該ポリアミド酸樹脂のカルボキシル基を塩
基で中和し、水で希釈して得た被膜形成用電気泳動浴中
に浸漬し、該セラミックス積層体の内部電極板を陽極と
して電気泳動を実施して該セラミックス積層体の側端面
上の該内部電極板の露出部とその近傍のみに該ポリアミ
ド酸及び該ポリアミド酸で被覆された該絶縁性フィラー
を析出させて被膜層を形成し、その後加熱処理して該被
膜層のポリアミド酸樹脂をイミド化させて一般式( I
) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X及びYは前記の通りである)で表わされる繰
り返し単位を有するポリイミド樹脂と絶縁性フィラーと
からなる絶縁層を形成させることを特徴とする請求項2
記載の積層セラミックスコンデンサーの製造方法。
(4) A ceramic laminate in which ceramic films or thin plates and internal electrode plates are alternately laminated, and the end faces of the internal electrode plates are exposed on the side end faces of the ceramic laminate,
General formula (II) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula,
SO_2, CH_2, C(CH_3)_2 and C(CF
_3) A tetravalent group selected from the group consisting of polyphenyl groups bonded by at least one of _2, Y is a phenyl group; a biphenyl group; at least one of the phenyl group and the biphenyl group is O, CO, S, SO_2, CH_
2, a polyphenyl group bonded by at least one of C(CH_3)_2 and C(CF_3)_2; an alkylene group; and a divalent group selected from the group consisting of a xylylene group). An electrophoretic bath for forming a film obtained by neutralizing the carboxyl groups of the polyamic acid resin in a composition comprising a polyamic acid resin having the unit and an insulating filler dispersed in the resin and diluting with water. electrophoresis is performed using the internal electrode plate of the ceramic laminate as an anode, and the polyamic acid and the polyamic acid are immersed only in the exposed portion of the internal electrode plate on the side end surface of the ceramic laminate and in the vicinity thereof. The insulating filler coated with is precipitated to form a coating layer, and then heat-treated to imidize the polyamic acid resin of the coating layer to form a general formula (I
) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. Claim 2
The method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor described above.
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JP2008160040A (en) * 2006-12-26 2008-07-10 Tdk Corp Capacitor manufacturing method
CN114122578A (en) * 2020-08-25 2022-03-01 合肥汉之和新材料科技有限公司 a power battery

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