JPH03230814A - チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法 - Google Patents
チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法Info
- Publication number
- JPH03230814A JPH03230814A JP2205690A JP2205690A JPH03230814A JP H03230814 A JPH03230814 A JP H03230814A JP 2205690 A JP2205690 A JP 2205690A JP 2205690 A JP2205690 A JP 2205690A JP H03230814 A JPH03230814 A JP H03230814A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- titanium
- disk substrate
- flatness
- hot straightening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Straightening Metal Sheet-Like Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はチタン及びチタン合金（以下単にチタンとい
う）製磁気ディスク基板の熱間矯正方法に関する。
う）製磁気ディスク基板の熱間矯正方法に関する。
チタン製磁気ディスク基板には、１．ｎｍ前後の板厚の
チタン板が使用されるが、冷延板を打ち抜いて作製され
るためその打ち抜きに伴なって通常歪が生じる。又素材
が冷延板であるため冷延の際の歪も残留している。とこ
ろが磁気ディスク基板として要求される平坦度（ここで
平坦度とは１００ｍｍ当りの最大変位量をいう）は２０
μｍ以下という高度なレベルの平坦度であるため、基板
素材で十分な平坦度が確保されていない場合、研磨によ
る歩留の低下をもたらすことから、素材の平坦度の程度
がチタン製磁気ディスク基板の使用上の制約の一つとな
っていた。
チタン板が使用されるが、冷延板を打ち抜いて作製され
るためその打ち抜きに伴なって通常歪が生じる。又素材
が冷延板であるため冷延の際の歪も残留している。とこ
ろが磁気ディスク基板として要求される平坦度（ここで
平坦度とは１００ｍｍ当りの最大変位量をいう）は２０
μｍ以下という高度なレベルの平坦度であるため、基板
素材で十分な平坦度が確保されていない場合、研磨によ
る歩留の低下をもたらすことから、素材の平坦度の程度
がチタン製磁気ディスク基板の使用上の制約の一つとな
っていた。
一方、チタン製磁気ディスク基板の研磨は、上下２つの
高度のレベルの平坦度をもつ砥石間に挾み、研磨する方
法でなされるが、この研磨方法の場合、チタン製磁気デ
ィスク基板は研磨中は不可避的に負荷される圧力のため
に、ある程度の平坦化が実現される。しかし、研磨終了
後圧力が除荷されるとチタンはスプリングバックが大き
いため、素材の平坦度が低い場合これを反映した形に変
形するといったことが起こっていた。
高度のレベルの平坦度をもつ砥石間に挾み、研磨する方
法でなされるが、この研磨方法の場合、チタン製磁気デ
ィスク基板は研磨中は不可避的に負荷される圧力のため
に、ある程度の平坦化が実現される。しかし、研磨終了
後圧力が除荷されるとチタンはスプリングバックが大き
いため、素材の平坦度が低い場合これを反映した形に変
形するといったことが起こっていた。
そこでチタン板のクリープ現象を利用した平坦度向上方
法が実施されるようになった。即ち、５０〜２００ｋｇ
の鉄製等の重しを、定盤に挾んだチタン製磁気ディスク
の上に載せ加圧しながら加熱炉等に装入し、加圧焼鈍矯
正を行なうというものである。
法が実施されるようになった。即ち、５０〜２００ｋｇ
の鉄製等の重しを、定盤に挾んだチタン製磁気ディスク
の上に載せ加圧しながら加熱炉等に装入し、加圧焼鈍矯
正を行なうというものである。
この様な加圧焼鈍矯正により十分な矯正効果を得ようと
すれば、加圧力を高めておく必要がある。
すれば、加圧力を高めておく必要がある。
しかし、重しの数を増やして加圧力を高めようとしても
、加熱炉の耐荷重と処理能力の点で制約があり、十分な
矯正効果が得られていないのが現状である。
、加熱炉の耐荷重と処理能力の点で制約があり、十分な
矯正効果が得られていないのが現状である。
本発明は従来技術の以上の様な問題に鑑み創案されたも
ので、チタン製磁気ディスク基板につきチタン板のクリ
ープ現象を利用してその平坦度を高めることができる熱
間矯正の最適な処理条件を明らかにせんとするものであ
る。
ので、チタン製磁気ディスク基板につきチタン板のクリ
ープ現象を利用してその平坦度を高めることができる熱
間矯正の最適な処理条件を明らかにせんとするものであ
る。
３−
そのため本発明は、添付図面に示される様にチタン製磁
気ディスク基板（１）を定盤（２１）（２２）間に挾ん
で締め付け具（３１） （３２）で締め付け、次いで加
熱処理を施すチタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法
において、定盤（２１） （２２）の線膨張係数ａと締
め付け具（３１）（３２）の線膨張係数すの関数をａ≧
ｂとし、且つ該定盤（２１） （２２）の平坦度を１０
０μｍ以下にすると共に、締め付け圧力を０．０３ｋｇ
ｆ／ｌｌＮ１１２以上１ｋｇｆ／以上１濶５００℃以
上、加熱時間を１時間以上として前記加熱処理を行なう
ことを基本的特徴としている。
気ディスク基板（１）を定盤（２１）（２２）間に挾ん
で締め付け具（３１） （３２）で締め付け、次いで加
熱処理を施すチタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法
において、定盤（２１） （２２）の線膨張係数ａと締
め付け具（３１）（３２）の線膨張係数すの関数をａ≧
ｂとし、且つ該定盤（２１） （２２）の平坦度を１０
０μｍ以下にすると共に、締め付け圧力を０．０３ｋｇ
ｆ／ｌｌＮ１１２以上１ｋｇｆ／以上１濶５００℃以
上、加熱時間を１時間以上として前記加熱処理を行なう
ことを基本的特徴としている。
以上の様な構成によって、最適な圧縮応力下で高温加熱
処理することが可能となり、これによりチタン製磁気デ
ィスク基板（１）のみのクリープ現象を利用することが
できることから、平坦度の優れたチタン製磁気ディスク
基板（１）を得ることが可能となる。
処理することが可能となり、これによりチタン製磁気デ
ィスク基板（１）のみのクリープ現象を利用することが
できることから、平坦度の優れたチタン製磁気ディスク
基板（１）を得ることが可能となる。
以下、本発明の構成中にある各条件の限定理由につき説
明する。
明する。
まず定盤（２１） （２２）と締め付け具（３１） （
３２）の夫々４− の線膨張係数ａ．ｂの関数をａ≧ｂと規定したのは、こ
の線膨張係数の関数がａ ＜ ｂの場合、加熱に伴い圧
縮応力が除荷されることになり、十分なりリープフラッ
トニングの効果が得られないためである。尚、この線膨
張係数の比ａ ／ ｂが十分大きな場合、熱間矯正時に
圧縮応力の増大をもたらし、強度のクリープ変形で板厚
の不均一が起こることも予想されるが、実用材料の６０
０℃での線膨張係数の差は高々チタン製磁気ディスク基
板（１）の板厚１ｍｍ当り１０μｍであり、この程度の
板厚の不均一は実用上問題とならないことから、ａ ／
ｂの上限は規定しない。
３２）の夫々４− の線膨張係数ａ．ｂの関数をａ≧ｂと規定したのは、こ
の線膨張係数の関数がａ ＜ ｂの場合、加熱に伴い圧
縮応力が除荷されることになり、十分なりリープフラッ
トニングの効果が得られないためである。尚、この線膨
張係数の比ａ ／ ｂが十分大きな場合、熱間矯正時に
圧縮応力の増大をもたらし、強度のクリープ変形で板厚
の不均一が起こることも予想されるが、実用材料の６０
０℃での線膨張係数の差は高々チタン製磁気ディスク基
板（１）の板厚１ｍｍ当り１０μｍであり、この程度の
板厚の不均一は実用上問題とならないことから、ａ ／
ｂの上限は規定しない。
又定盤（２１） （２２）の平坦度は次のような理由か
ら限定された。本発明で使用される定ＩＩ （２１）
（２２）はチタン製磁気ディスク基板（１）へ優れた平
坦度を与える役割を果たしており、そのため定盤（２１
）（２２）の平坦度が１００μｍより大きい場合、熱間
矯正により平坦度の低い定盤（２１） （２２）の状態
がチタン製磁気ディスク基板（１）へ転写されることに
なって平坦度の優れたものが得られなくなってしまうか
らである。
ら限定された。本発明で使用される定ＩＩ （２１）
（２２）はチタン製磁気ディスク基板（１）へ優れた平
坦度を与える役割を果たしており、そのため定盤（２１
）（２２）の平坦度が１００μｍより大きい場合、熱間
矯正により平坦度の低い定盤（２１） （２２）の状態
がチタン製磁気ディスク基板（１）へ転写されることに
なって平坦度の優れたものが得られなくなってしまうか
らである。
更に締め付け具（３１） （３２）による締め付け圧力
については、その圧力が０，０３ｋｇ ｆ ／ ｒｍ２
未満では上記熱間矯正温度でのクリープ変形が起こらず
熱間矯正で平坦度の改善を図ることが不可能となるから
であり、またその締め付け圧力が１ ｋｇ ｆ ／ ｎ
ｕ２以上の場合は強度のクリープ変形が起こるので熱間
矯正で平坦度の改善が図られるものの、板厚が不均一と
なり、磁気ディスク基板としては不適当なものとなるか
らである。
については、その圧力が０，０３ｋｇ ｆ ／ ｒｍ２
未満では上記熱間矯正温度でのクリープ変形が起こらず
熱間矯正で平坦度の改善を図ることが不可能となるから
であり、またその締め付け圧力が１ ｋｇ ｆ ／ ｎ
ｕ２以上の場合は強度のクリープ変形が起こるので熱間
矯正で平坦度の改善が図られるものの、板厚が不均一と
なり、磁気ディスク基板としては不適当なものとなるか
らである。
一方、熱間矯正の下限温度を５００℃、また熱間矯正時
間を１時間以上と規定したのは、共にそれ以下の条件で
は十分なりリープ変形が起こらず、平坦度の優れたチタ
ン製磁気ディスク基板（１）が得られないためである。
間を１時間以上と規定したのは、共にそれ以下の条件で
は十分なりリープ変形が起こらず、平坦度の優れたチタ
ン製磁気ディスク基板（１）が得られないためである。
熱間矯正の温度の上限及び時間の上限は定盤（２１）
（２２）、締め付け具（３１）（３２）のクリープ強度
に依存することとなり、チタンの熱間矯正条件固有の上
限条件は存在しないが、チタン製磁気ディスク（１）の
鏡面加工のし易さ（細粒組織が鏡面加工し易い）から熱
間矯正温度の上限は６５０℃、熱間矯正の上限時間は１
０時間が望ましい。
（２２）、締め付け具（３１）（３２）のクリープ強度
に依存することとなり、チタンの熱間矯正条件固有の上
限条件は存在しないが、チタン製磁気ディスク（１）の
鏡面加工のし易さ（細粒組織が鏡面加工し易い）から熱
間矯正温度の上限は６５０℃、熱間矯正の上限時間は１
０時間が望ましい。
外径９５ｍｍ、内径２５ｍｎ、板厚１．５鵬の円環状純
チタン板を供試材として準備し、前記図面に示されるよ
うに、供試材３０枚を定盤（２１） （２２）で挾む。
チタン板を供試材として準備し、前記図面に示されるよ
うに、供試材３０枚を定盤（２１） （２２）で挾む。
次いで締め付け具（３１）（３２）で締め付けて所要の
締め付け圧力を付与し、熱間矯正を実施した。
締め付け圧力を付与し、熱間矯正を実施した。
上記純チタン素材の板厚精度は１．５ｍｍ±ｌＯμ膿、
平坦度１５０μｍである。又上部線め付け具（３１）
（３２）には、ＳＫＤ ６１（線膨張係数１４．２Ｘ１
０ ’／℃）、Ｔｉ −６ＡＩ−４Ｖ合金（線膨張係数
１８．７ Ｘ ＩＦ’ ／ ℃）、アルミナ（線膨張係
数７．８ Ｘ ＩＯ−’ ／ ℃）及び炭化ケイ素（線
膨張係数４．ＯＸ １０−” ／ ”Ｃ）で製造された
ものが使用され、一方、定盤（２１） （２２）には平
坦度が２００μｍから１０μｍのものが使用された。ま
たその締め付け圧力は０．０１ｋｇ ｆ ／ ｒｍ２か
ら５ｋｇ ｆ ／ ａｎ２の間で調整され、熱間矯正温
度については４００℃から７００℃、及び熱間矯正時間
は０．５時間より、２０時間まで変化させた。
平坦度１５０μｍである。又上部線め付け具（３１）
（３２）には、ＳＫＤ ６１（線膨張係数１４．２Ｘ１
０ ’／℃）、Ｔｉ −６ＡＩ−４Ｖ合金（線膨張係数
１８．７ Ｘ ＩＦ’ ／ ℃）、アルミナ（線膨張係
数７．８ Ｘ ＩＯ−’ ／ ℃）及び炭化ケイ素（線
膨張係数４．ＯＸ １０−” ／ ”Ｃ）で製造された
ものが使用され、一方、定盤（２１） （２２）には平
坦度が２００μｍから１０μｍのものが使用された。ま
たその締め付け圧力は０．０１ｋｇ ｆ ／ ｒｍ２か
ら５ｋｇ ｆ ／ ａｎ２の間で調整され、熱間矯正温
度については４００℃から７００℃、及び熱間矯正時間
は０．５時間より、２０時間まで変化させた。
各試験終了後、供試材３０枚の中からランダムに５枚の
供試材を抽出し、１枚毎に板厚精度と平坦度を測定し、
夫々の平均値を求めた。その結果をこれらの各熱間矯正
条件と共に下表にまとめた。
供試材を抽出し、１枚毎に板厚精度と平坦度を測定し、
夫々の平均値を求めた。その結果をこれらの各熱間矯正
条件と共に下表にまとめた。
この表から明らかな様に、線膨張係数が定盤（２１）
（２２）の線膨張係数と同じかそれより低い（即ち、ａ
≧ｂ）材質の締め付け具（３１）（３２）を用い、締め
付け圧力が０．０３〜１ｋｇ ｆ ／ ｗｎ２の条件で
熱間矯正を行なった場合のみ、平坦度と板厚精度に優れ
たチタン製磁気ディスク基板（１）が得られている。
（２２）の線膨張係数と同じかそれより低い（即ち、ａ
≧ｂ）材質の締め付け具（３１）（３２）を用い、締め
付け圧力が０．０３〜１ｋｇ ｆ ／ ｗｎ２の条件で
熱間矯正を行なった場合のみ、平坦度と板厚精度に優れ
たチタン製磁気ディスク基板（１）が得られている。
これとは逆に線膨張係数が定盤（２１） （２２）のも
のより高い（即ちａ ＜ ｂ ）材質の締め付け具（３
１）（３２）を用いた場合（比較例Ｎα２９）は、締め
付け圧力条件が本発明で規定された範囲内にあるもので
も良好な平坦度が得られていない。又定盤（２１） （
２２）の線膨張係数が締め付け具（３１） （３２）の
それと同じか又はそれより大きい場合（ａ≧ｂ）でも、
締め付け圧力が本発明で規定した下限値より小さい場合
（比較例Ｎα１９）は良好な平坦度が得られず、又締め
付け圧力がその上限値より大きい場合（比較例ＮＯ２Ｏ
乃至＆２２）には板厚精度が低下している。
のより高い（即ちａ ＜ ｂ ）材質の締め付け具（３
１）（３２）を用いた場合（比較例Ｎα２９）は、締め
付け圧力条件が本発明で規定された範囲内にあるもので
も良好な平坦度が得られていない。又定盤（２１） （
２２）の線膨張係数が締め付け具（３１） （３２）の
それと同じか又はそれより大きい場合（ａ≧ｂ）でも、
締め付け圧力が本発明で規定した下限値より小さい場合
（比較例Ｎα１９）は良好な平坦度が得られず、又締め
付け圧力がその上限値より大きい場合（比較例ＮＯ２Ｏ
乃至＆２２）には板厚精度が低下している。
以上の結果より、本発明条件を順守する限り、板厚精度
と平坦度に優れたチタン製磁気ディスク基板素材が製造
されることが明らかとなった。
と平坦度に優れたチタン製磁気ディスク基板素材が製造
されることが明らかとなった。
尚、本発明例で得られたチタン製磁気ディスク基板素材
（板厚精度１０μｍ、平坦度８３μｍ以下）を用いて、
両面鏡面研磨加工を施したところ、板厚精度±５μｍ以
下、平坦度１５μｍ以下の高精度の、従来方法では得ら
れないチタン製磁気ディスク基板が得られた。
（板厚精度１０μｍ、平坦度８３μｍ以下）を用いて、
両面鏡面研磨加工を施したところ、板厚精度±５μｍ以
下、平坦度１５μｍ以下の高精度の、従来方法では得ら
れないチタン製磁気ディスク基板が得られた。
以上のように本発明の熱間矯正方法によれば、チタン製
磁気ディスク基板を定盤と締め付け具を用いて、０．０
３ｋｇ ｆ ／ ｗｎ”以上１ ｋｇ ｆ ／ ｒｒｔ
ｎ”未満の締め付け圧力を負荷しながら、５００℃以上
の温度で１時間以上の加熱処理を施すことにより、平坦
度に非常に優れたチタン製磁気ディスク基板素材が得ら
れることになる。
磁気ディスク基板を定盤と締め付け具を用いて、０．０
３ｋｇ ｆ ／ ｗｎ”以上１ ｋｇ ｆ ／ ｒｒｔ
ｎ”未満の締め付け圧力を負荷しながら、５００℃以上
の温度で１時間以上の加熱処理を施すことにより、平坦
度に非常に優れたチタン製磁気ディスク基板素材が得ら
れることになる。
添付図面はチタン製磁気ディスク基板を定盤間で挾んで
締め付け具で締め付けた状態の例を示す説明図である。 図中（１）はチタン製磁気ディスク基板、（２１）（２
２）は定盤、（３１）（３２）は締め付け具を各示す。
締め付け具で締め付けた状態の例を示す説明図である。 図中（１）はチタン製磁気ディスク基板、（２１）（２
２）は定盤、（３１）（３２）は締め付け具を各示す。
Claims (1)
- チタン製磁気ディスク基板を定盤間に挾んで締め付け具
で締め付け、次いで加熱処理を施すチタン製磁気ディス
ク基板の熱間矯正方法において、定盤の線膨張係数ａと
締め付け具の線膨張係数ｂの関係をａ≧ｂとし、且つ該
定盤の平坦度を１００μｍ以下にすると共に、締め付け
圧力を０．０３ｋｇｆ／ｍｍ＾２以上１ｋｇｆ／ｍｍ＾
２未満とし、更に加熱温度を５００℃以上、加熱時間を
１時間以上として前記加熱処理を行なうことを特徴とす
るチタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2205690A JPH03230814A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2205690A JPH03230814A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03230814A true JPH03230814A (ja) | 1991-10-14 |
Family
ID=12072260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2205690A Pending JPH03230814A (ja) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03230814A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007035336A (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Hitachi Metals Ltd | 蒸着マスク用金属製フレームの製造方法 |
| CN109500550A (zh) * | 2018-12-12 | 2019-03-22 | 攀钢集团成都钛材有限公司江油分公司 | 一种宽幅钛合金中厚板压矫方法 |
| JP2021133369A (ja) * | 2020-02-21 | 2021-09-13 | リカザイ株式会社 | 金属箔の製造方法 |
-
1990
- 1990-02-02 JP JP2205690A patent/JPH03230814A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007035336A (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Hitachi Metals Ltd | 蒸着マスク用金属製フレームの製造方法 |
| CN109500550A (zh) * | 2018-12-12 | 2019-03-22 | 攀钢集团成都钛材有限公司江油分公司 | 一种宽幅钛合金中厚板压矫方法 |
| JP2021133369A (ja) * | 2020-02-21 | 2021-09-13 | リカザイ株式会社 | 金属箔の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4659606A (en) | Substrate members for recording disks and process for producing same | |
| JPS58223688A (ja) | 制御された結晶方位を有する単結晶材料の製造方法 | |
| JPS62109956A (ja) | チタン合金の製造方法 | |
| JPH03230814A (ja) | チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法 | |
| JPH0318425A (ja) | チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法 | |
| CA2206108A1 (en) | Method of straightening annular metallic sheets | |
| JPS6053727B2 (ja) | オ−ステナイト系ステンレス鋼板及び鋼帯の製造方法 | |
| JP5718036B2 (ja) | 磁気ディスク用ブランク材の製造方法及び磁気ディスク用ブランク材 | |
| JPH02205204A (ja) | チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法 | |
| JPH0744864A (ja) | 磁気ディスク用チタン製基板の製造方法 | |
| JPS6376706A (ja) | α＋β型合金チタンの薄板製造方法 | |
| JPH0630150B2 (ja) | 金属製デイスクの歪矯正方法 | |
| JPH0115562B2 (ja) | ||
| JPH0347604A (ja) | α型チタン合金薄板の製造方法 | |
| JPH05311361A (ja) | アルミニウム合金基盤の歪み取り焼鈍方法 | |
| JPS59215450A (ja) | Ｔｉ合金の熱間加工板および製造方法 | |
| JPS62137121A (ja) | オ−ステナイト系ステンレス冷延鋼板ハ−ド材の形状矯正方法 | |
| JPH05117825A (ja) | アルミニウム合金基盤の歪み取り焼鈍方法 | |
| JPS63200951A (ja) | 薄板の両面研磨方法 | |
| JPH04371557A (ja) | チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法 | |
| JPH01154802A (ja) | 鏡面仕上げステンレス鋼板の製造方法 | |
| JP2002163804A (ja) | 磁気ヘッドのギャップ形成方法および磁気ヘッド | |
| JPH02205205A (ja) | チタン製磁気ディスク基板の熱間矯正方法 | |
| SU921645A1 (ru) | Способ получени посто нных магнитов из сплавов системы марганец-алюминий | |
| JPH02111849A (ja) | アルミニウム系板材の焼鈍方法 |