JPH03232731A - 化学切削性感光性ガラス製品の分割法 - Google Patents
化学切削性感光性ガラス製品の分割法Info
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- JPH03232731A JPH03232731A JP2889490A JP2889490A JPH03232731A JP H03232731 A JPH03232731 A JP H03232731A JP 2889490 A JP2889490 A JP 2889490A JP 2889490 A JP2889490 A JP 2889490A JP H03232731 A JPH03232731 A JP H03232731A
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- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 title description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 18
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 19
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 37
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 2
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 1
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
- C03B33/02—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は化学切削性感光性ガラス（以下、感光性ガラス
と呼ぶ）の分割法に関する。
と呼ぶ）の分割法に関する。
（従来の技術）
感光性ガラスはプラズマデイスプレィ用セルシート、プ
リンター用ワイヤーガイド、インジェットプリンターヘ
ッド、磁気ディスク用へラドパッド等に使用されている
。これらの製品の寸法は数■オーダーの小型部品である
。これら小型部品を製造する際に製品を１つずつ加工す
ると加工費が製品枚数分必要となシ製造コストの上昇を
招くため９通常１０〜２０ｃｍ角程度の標準サイズの感
光性ガラス板を用意し、マスクを介して多数個の製品に
対応して紫外線照射、熱処理後ＨＦ水溶液に浸漬してエ
ツチングにより多数個の製品を一括して製造していた。
リンター用ワイヤーガイド、インジェットプリンターヘ
ッド、磁気ディスク用へラドパッド等に使用されている
。これらの製品の寸法は数■オーダーの小型部品である
。これら小型部品を製造する際に製品を１つずつ加工す
ると加工費が製品枚数分必要となシ製造コストの上昇を
招くため９通常１０〜２０ｃｍ角程度の標準サイズの感
光性ガラス板を用意し、マスクを介して多数個の製品に
対応して紫外線照射、熱処理後ＨＦ水溶液に浸漬してエ
ツチングにより多数個の製品を一括して製造していた。
例えば第４図に示す様な製品８の外形及び孔９に対応し
て紫外線を透過する窓を持ったマスクパターンを標準サ
イズの感光性ガラス板形状に複数個形成したガラスマス
クを用意する。次に感光性ガラス板にガラスマスクを重
ねて設置し、感光性ガラスに含まｎるＣｅ３＋イオンの
吸収ピークに対応した３ １ Ｏｎｍ付近の波長を有す
る紫外線の平行光をガラス面に垂直に所定量照射する。
て紫外線を透過する窓を持ったマスクパターンを標準サ
イズの感光性ガラス板形状に複数個形成したガラスマス
クを用意する。次に感光性ガラス板にガラスマスクを重
ねて設置し、感光性ガラスに含まｎるＣｅ３＋イオンの
吸収ピークに対応した３ １ Ｏｎｍ付近の波長を有す
る紫外線の平行光をガラス面に垂直に所定量照射する。
次に感光性ガラスを熱処理炉内に設置し。
紫外線照射部にのみＨＦに易溶なＬｉｚＯ・ＳｊＯ□結
を 晶が析出させ、かつ紫外線非照射部にはＬ１２０・５ｉ
Ｃｈ結晶が析出しない適当な温度（通常５００〜６００
℃）で−本熱処理する。次に２〜１０チ濃度のＨＦ水溶
液中に浸漬してＬｉｘＯ−８ｉｆｔ結晶析出部分を溶解
除去することで孔加工と同時に製品外形を加工する。こ
の際製品が抜けてＨＦ水溶液中に落下しないように感光
性ガラスの枠１１と製品とを結合しておくための細い橋
渡し部分１０を残しておく、この橋渡し部分は紫外線照
射用マスクに橋渡し部分をマスキングしておくことによ
って実現できる。この後必要に応じてＨＦ水溶液によっ
て粗面化した感光性ガラスを表面研磨し。
を 晶が析出させ、かつ紫外線非照射部にはＬ１２０・５ｉ
Ｃｈ結晶が析出しない適当な温度（通常５００〜６００
℃）で−本熱処理する。次に２〜１０チ濃度のＨＦ水溶
液中に浸漬してＬｉｘＯ−８ｉｆｔ結晶析出部分を溶解
除去することで孔加工と同時に製品外形を加工する。こ
の際製品が抜けてＨＦ水溶液中に落下しないように感光
性ガラスの枠１１と製品とを結合しておくための細い橋
渡し部分１０を残しておく、この橋渡し部分は紫外線照
射用マスクに橋渡し部分をマスキングしておくことによ
って実現できる。この後必要に応じてＨＦ水溶液によっ
て粗面化した感光性ガラスを表面研磨し。
二次熱処理（６００〜９００°Ｃ）して感光性ガラスを
全面結晶化し、高強度の結晶化ガラスを作る。
全面結晶化し、高強度の結晶化ガラスを作る。
このようにして１枚の標準サイズの感光性ガラスに多数
の製品を一括して形成後、製品を枠から分割する方法が
とられている。
の製品を一括して形成後、製品を枠から分割する方法が
とられている。
他の方法として最終製品形状が長方形のように４辺が直
線部分から構成され、高い寸法精度が要求される場合は
紫外線パターン照射用マスクに製品の孔に対応する窓を
開けておき前記従来法と同様に紫外線照射、−次熱処理
後、ＨＦエツチングして孔を形成して二次熱処理する。
線部分から構成され、高い寸法精度が要求される場合は
紫外線パターン照射用マスクに製品の孔に対応する窓を
開けておき前記従来法と同様に紫外線照射、−次熱処理
後、ＨＦエツチングして孔を形成して二次熱処理する。
この後結晶化した感光性ガラスを治具に固定し、ダイシ
ングマシンでダイヤモンドブレード等により製品を切断
する。この際製品外形の位置は孔位置より読み出すため
高寸法精度が確保される。
ングマシンでダイヤモンドブレード等により製品を切断
する。この際製品外形の位置は孔位置より読み出すため
高寸法精度が確保される。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら前記した従来技術では以下に示すような問
題点があった。
題点があった。
ガラス枠と製品を橋渡しする部分及び製品と枠を残し他
の部分を溶解除去する方法では最終製品をガラス枠より
容易に分割できるものの分割後の製品にパリが残る場合
があり、製品外形に精度が必要な場合９分割後に端部を
研磨する必要カニあり製造工程の増加による製造コスト
の上昇を招く。
の部分を溶解除去する方法では最終製品をガラス枠より
容易に分割できるものの分割後の製品にパリが残る場合
があり、製品外形に精度が必要な場合９分割後に端部を
研磨する必要カニあり製造工程の増加による製造コスト
の上昇を招く。
また製品と枠が１点により支持されているため。
製品の支持強度が弱く外力により容易に分割してしまう
ためハンドリングに細心の注意を要する。
ためハンドリングに細心の注意を要する。
またダイシングによシ分割する方法はハンドリングが容
易で外形の加工精度が確保されるものの位置合せや切断
に多くの時間が必要となり製造コストの上昇を招く。
易で外形の加工精度が確保されるものの位置合せや切断
に多くの時間が必要となり製造コストの上昇を招く。
本発明は上記問題点を解決し、ノ・ンドリンクが容易で
分割コストが安価な高寸法精度を持つ感光性ガラス製品
の分割法を提供するものである。
分割コストが安価な高寸法精度を持つ感光性ガラス製品
の分割法を提供するものである。
（ｉｉ１題を解決するための手段）
本発明者らは、感光性ガラスに紫外線照射用マスクを介
して外形相当部分に細い幅の紫外線を照射し、熱処理後
ＨＦエッチ／グして紫外線照射部に貫通しないスリット
溝を設けることで解決できることを見い出した。
して外形相当部分に細い幅の紫外線を照射し、熱処理後
ＨＦエッチ／グして紫外線照射部に貫通しないスリット
溝を設けることで解決できることを見い出した。
本発明は、多数のスリット形成用透過部を有するマスク
を感光性ガラスの上に重ねて紫外線照射し９次いで該感
光性カラスを一次熱処理後フッ酸溶液でエツチングして
深さが感光性ガラスの厚さの１５〜４０チのスリットを
形成し、二次熱処理後該スリット部から分割することを
特徴とする感光性ガラス製品の分割法に関する。
を感光性ガラスの上に重ねて紫外線照射し９次いで該感
光性カラスを一次熱処理後フッ酸溶液でエツチングして
深さが感光性ガラスの厚さの１５〜４０チのスリットを
形成し、二次熱処理後該スリット部から分割することを
特徴とする感光性ガラス製品の分割法に関する。
感光性ガラスの組成は特に制限はないが部分紫外線照射
と適当な温度で熱処理することにより紫外線照射部にの
みＨＦ水溶液に易溶なＬｉ２Ｏ・Ｓｉ０ｇ結晶を析出す
るものであれば良い。紫外線光源ランプｌｉＨｇ−Ｘｅ
ランプ、超高圧水銀ランプ等の３１０ ｎｍ付近の波長
の紫外線を発生するものであれば良い。なおランプから
紫外線を化学切削性感光性ガラスに照射するための光学
系レンズや鏡は３１０ ｎｍ付近の紫外線の吸収が少な
い又は吸収しないことが必要である。マスク材料は紫外
線を透過する部分と蓮へいする部分が形成できるもので
あればよく通常は透明石英ガラス板にＣｒ−Ｃｒ０膜を
形成したマスクが使用される。−本熱処理の条件は紫外
線照射部にのみＬｉｘＯ・Ｓ ｉ （ｈ結晶が析出する
条件であれば良い。通常は大気中５００〜６００℃であ
る。
と適当な温度で熱処理することにより紫外線照射部にの
みＨＦ水溶液に易溶なＬｉ２Ｏ・Ｓｉ０ｇ結晶を析出す
るものであれば良い。紫外線光源ランプｌｉＨｇ−Ｘｅ
ランプ、超高圧水銀ランプ等の３１０ ｎｍ付近の波長
の紫外線を発生するものであれば良い。なおランプから
紫外線を化学切削性感光性ガラスに照射するための光学
系レンズや鏡は３１０ ｎｍ付近の紫外線の吸収が少な
い又は吸収しないことが必要である。マスク材料は紫外
線を透過する部分と蓮へいする部分が形成できるもので
あればよく通常は透明石英ガラス板にＣｒ−Ｃｒ０膜を
形成したマスクが使用される。−本熱処理の条件は紫外
線照射部にのみＬｉｘＯ・Ｓ ｉ （ｈ結晶が析出する
条件であれば良い。通常は大気中５００〜６００℃であ
る。
り形成される溝の先端部へのＨＦ溶液の拡散、補給速度
が遅くなり溝の形成に時間がかかるだけで雲壽↓とスリ
ットの断面形状が台形となシ。
が遅くなり溝の形成に時間がかかるだけで雲壽↓とスリ
ットの断面形状が台形となシ。
分割
時に端面妙二直線にならずジグザグな端面となったシ基
板内にクラックが進展するため好ましくない。
板内にクラックが進展するため好ましくない。
感光性ガラスの板厚は０．５〜２０−が使用でき。
スリット深さはガラス板厚の１５〜４０％とされる。ス
リット深さが１５％未満では分割するための荷重が大き
くなり、″また分割時に製品割れを生じる。また４０％
を越えるスリット深さではごく弱い外力でハンドリング
中に分割してしまい良好なハンドリングができない。好
ましくは２０〜４０チである。
リット深さが１５％未満では分割するための荷重が大き
くなり、″また分割時に製品割れを生じる。また４０％
を越えるスリット深さではごく弱い外力でハンドリング
中に分割してしまい良好なハンドリングができない。好
ましくは２０〜４０チである。
ＬｉｚＯ・Ｓｉ０ｇ結晶を溶解してスリットを形成する
エツチング用フッ酸溶液は通常ＨＦ濃度が２〜１０重量
％の水溶液である。エツチング後は水洗。
エツチング用フッ酸溶液は通常ＨＦ濃度が２〜１０重量
％の水溶液である。エツチング後は水洗。
乾燥してから二次熱処理して強度を向上させる。
二次熱処理の温度は通常６００〜９００’ｌ：である。
最後にスリット部を手で分割して製品を得る。
（作用）
感光性カラスは適当な熱処理条件によって紫外線照射部
にのみＨＦ水溶液に易溶なＬｉ２Ｏ・５ｉ０２結晶が析
出するため、紫外線照射、熱処理後ＨＦ水溶液に浸漬す
ることで第１図に示すように微細幅でガラス１の表面に
垂直で鋭角的なスリット２を両面から形成できるため９
手分割でシャープな断面を持ち外形の寸法精度が高い製
品を安価に多数−柄形成できる。
にのみＨＦ水溶液に易溶なＬｉ２Ｏ・５ｉ０２結晶が析
出するため、紫外線照射、熱処理後ＨＦ水溶液に浸漬す
ることで第１図に示すように微細幅でガラス１の表面に
垂直で鋭角的なスリット２を両面から形成できるため９
手分割でシャープな断面を持ち外形の寸法精度が高い製
品を安価に多数−柄形成できる。
（実施例）
次に本発明の詳細な説明する。
実施例１
第１図は感光性ガラス製品の製造工程を示す図である。
寸法０．９ ｔＸ６０ｘ１２０ （ｍｍ）の感光性ガラ
ス（注出光学ガラス製、ＰＳＧ−１）を用意した。
ス（注出光学ガラス製、ＰＳＧ−１）を用意した。
一方第２図（ａｔに示すようにＣｒ蒸着膜４がない１０
μｍ幅のスリット形成用透過部２ａを設けたＣｒ蒸着透
明石英ガラスのマスク３を用意し、第２図（ｂｌに示す
ように感光性ガラス１にマスク３を重ね。
μｍ幅のスリット形成用透過部２ａを設けたＣｒ蒸着透
明石英ガラスのマスク３を用意し、第２図（ｂｌに示す
ように感光性ガラス１にマスク３を重ね。
■オーク製作新製、ガラス基板用高精度露光装置Ｏｆ’
ｔＣＨＭＷ−６６１Ｂ −１で紫外線の平行光をマスク
の上から１０Ｊ／ｃ！ｆｆ２照射した。次にマスク３を
取除いて感光性ガラス１を電気炉内に設置し、大気中、
５４５℃で３時間加熱して一次熱処理し。
ｔＣＨＭＷ−６６１Ｂ −１で紫外線の平行光をマスク
の上から１０Ｊ／ｃ！ｆｆ２照射した。次にマスク３を
取除いて感光性ガラス１を電気炉内に設置し、大気中、
５４５℃で３時間加熱して一次熱処理し。
第２図（ｃｌに示すようにしＬｉｘＯ・Ｓ ｉ Ｃｈ結
晶５を析出させた。次に６重ｔｓのＨＦ水溶液中に浸漬
。
晶５を析出させた。次に６重ｔｓのＨＦ水溶液中に浸漬
。
攪拌して第２図（ｄｌに示すようにガラスの両面にスリ
ット２．２を形成し、更に水洗、乾燥後８５０℃で３時
間加熱して熱処理し、結晶化ガラス６を得た。最後にこ
の結晶化ガラス６をスリット２の部分から手で折って第
２図（ｅ）に示すように複数の製品８・・・８を得た。
ット２．２を形成し、更に水洗、乾燥後８５０℃で３時
間加熱して熱処理し、結晶化ガラス６を得た。最後にこ
の結晶化ガラス６をスリット２の部分から手で折って第
２図（ｅ）に示すように複数の製品８・・・８を得た。
尚７はハンドリング用の耳部である。分割後の断面を観
察した結果スリット深さは１８０μｍであシカラスの厚
さの２０％であった。製品割れは全くなかった。
察した結果スリット深さは１８０μｍであシカラスの厚
さの２０％であった。製品割れは全くなかった。
実施例２
０、５１１ＩＩ１１から２．Ｏｒｍまでの感光性ガラス
ＰＳＧ−１に実施例１の方法に従って糧々の深さのスリ
ットを形成し、６５０℃で二次熱処理後分割したときの
分割荷重を測定した。この結果を第３図に示す。横軸は
スリット深さ／ガラスの厚さである。
ＰＳＧ−１に実施例１の方法に従って糧々の深さのスリ
ットを形成し、６５０℃で二次熱処理後分割したときの
分割荷重を測定した。この結果を第３図に示す。横軸は
スリット深さ／ガラスの厚さである。
図中Ｘ印は分割時に製品割れを生じたもの、○印は生じ
なかったものを示す。第３図から明らかなようにスリッ
ト深さが１５％未満では分割荷重が大きく、かつ製品割
れを生じ易い。２０チ以上では製品割れが全くない。
なかったものを示す。第３図から明らかなようにスリッ
ト深さが１５％未満では分割荷重が大きく、かつ製品割
れを生じ易い。２０チ以上では製品割れが全くない。
（発明の効果）
本発明によｎば、ハンドリング中に分割することなく９
分割コストが安価で高寸法精度の製品が得られる。
分割コストが安価で高寸法精度の製品が得られる。
第１図は本発明における感光性ガラスのスリット部の拡
大断面図、第２図は本発明の実施例になる感光性ガラス
製品の製造工程を示す図、第３図はスリット深さと分割
荷重との関係を示す図及び第４図は従来の感光性ガラス
製品の製造法を説明する図である。 符号の説明 １・・・感光性ガラス ２・・・スリット３・
・・マスク ４・・・Ｃｒ蒸着膜５・・
・ＬｉｚＯ・Ｓ１０！結晶 ６・・・結晶化ガラス
７・・・耳部 ８・・・製品９・・・孔
１０・・・橋渡し部１１ ・・枠 第 目
大断面図、第２図は本発明の実施例になる感光性ガラス
製品の製造工程を示す図、第３図はスリット深さと分割
荷重との関係を示す図及び第４図は従来の感光性ガラス
製品の製造法を説明する図である。 符号の説明 １・・・感光性ガラス ２・・・スリット３・
・・マスク ４・・・Ｃｒ蒸着膜５・・
・ＬｉｚＯ・Ｓ１０！結晶 ６・・・結晶化ガラス
７・・・耳部 ８・・・製品９・・・孔
１０・・・橋渡し部１１ ・・枠 第 目
Claims (1)
- １、多数のスリット形成用透過部を有するマスクを化学
切削性感光性ガラスの上に重ねて紫外線照射し、次いで
該化学切削性感光性ガラスを一次熱処理後フッ酸溶液で
エッチングして深さが化学切削性感光性ガラスの厚さの
１５〜４０％のスリットを形成し、二次熱処理後該スリ
ット部から分割することを特徴とする化学切削性感光性
ガラス製品の分割法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2889490A JPH03232731A (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 化学切削性感光性ガラス製品の分割法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2889490A JPH03232731A (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 化学切削性感光性ガラス製品の分割法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03232731A true JPH03232731A (ja) | 1991-10-16 |
Family
ID=12261106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2889490A Pending JPH03232731A (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 化学切削性感光性ガラス製品の分割法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03232731A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101108021B1 (ko) * | 2009-10-30 | 2012-01-25 | 노바테크 (주) | 커버 글라스 가공 방법 |
| KR101119145B1 (ko) * | 2003-03-24 | 2012-02-21 | 니시야마 스테인레스 케미컬 가부시키가이샤 | 유리의 절단 분리 방법 |
| KR101225543B1 (ko) * | 2011-12-16 | 2013-01-23 | 마이크로 테크놀러지 가부시키가이샤 | 강화글라스, 터치패널 및 강화글라스의 제조방법 |
| WO2013086787A1 (zh) * | 2011-12-13 | 2013-06-20 | 意力(广州)电子科技有限公司 | 面板玻璃多模加工方法及采用该方法加工的半成品 |
| JP2023018076A (ja) * | 2019-04-18 | 2023-02-07 | スリーディー グラス ソリューションズ，インク | 高効率ダイダイシング及びリリース |
| KR20230024474A (ko) * | 2021-08-11 | 2023-02-21 | (주)중우엠텍 | 기판 절단방법 |
-
1990
- 1990-02-08 JP JP2889490A patent/JPH03232731A/ja active Pending
Cited By (6)
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