JPH03232796A - 合成ダイヤモンド製品ならびにその製造法 - Google Patents

合成ダイヤモンド製品ならびにその製造法

Info

Publication number
JPH03232796A
JPH03232796A JP2224141A JP22414190A JPH03232796A JP H03232796 A JPH03232796 A JP H03232796A JP 2224141 A JP2224141 A JP 2224141A JP 22414190 A JP22414190 A JP 22414190A JP H03232796 A JPH03232796 A JP H03232796A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diamond
mold
shaped
chemical vapor
planar
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2224141A
Other languages
English (en)
Inventor
Roger W Pryor
ロジヤー ダブリユウ プライオア
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wayne State University
Original Assignee
Wayne State University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wayne State University filed Critical Wayne State University
Publication of JPH03232796A publication Critical patent/JPH03232796A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26—Deposition of carbon only
    • C23C16/27—Diamond only
    • C23C16/274—Diamond only using microwave discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/25—Diamond
    • C01B32/26—Preparation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/01—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes on temporary substrates, e.g. substrates subsequently removed by etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/02—Epitaxial-layer growth
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02—Elements
    • C30B29/04—Diamond
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10S117/90—Apparatus characterized by composition or treatment thereof, e.g. surface finish, surface coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は合成ダイヤモンドの形成方法に関する。
特に本発明は前もって定めた形状をもつダイヤモンド製
品を製作する工程ならびにその工程により製作された製
品に関する。
(発明の技術的背景と課題) ダイヤモンドは、宝石としてその稀少性ならびに美麗さ
が知られている。工業用材料としては、その優秀な硬さ
と耐摩耗性の故に、ダイヤモンドは多くの用途において
好適材料となっている。例えば、ダイヤモンドは研磨作
業用で用いる研磨材として非常に広範囲に適用され、ま
た、ダイヤモンドチップを用いたドリルや切削工具など
は、焼結した炭化物や水晶といった高硬度材料の成形加
工にとって必須となっている。ダイヤモンドに対する工
業上の需要を満たすために、これまでに多くの人によっ
て合成ダイヤモンドの生産のための多くの技術が開発さ
れている。天然ダイヤモンドはもちろん工業上多くの用
途に用いられているが、ダイヤモンド合成は、この独特
な材料の不満足な供給問題解決法として緊急事となって
いる。
ダイヤモンドは立方結晶格子をもち、個々の炭素原子は
他の4個の原子に共有結合して四面体を形成する。この
結晶構造は結晶全体にわたって繰り返し構成され、この
炭素対炭素の結合による網目構造が他の材料と比較にな
らないダイヤモンドの極度に高い硬さを生じているもの
と信じられる。
高温、高圧状態において、炭素からダイヤモンドへの変
換がかなり評価できる速さで起ることが発見された。こ
の現象は、1950年の初期に、最初の合成高圧ダイヤ
モンドの登場をもたらした。
大形高圧プレスを用い、しかも「衝撃波ダイヤモンド合
成法」というもう1つの高圧技術も用いて、毎年かなり
なトン数のダイヤモンド粒子が世界的にみて合成されて
いる。高圧技術は、最近では比較的大形の単結晶ダイヤ
モンドを合成するのにも適用されており、この大形単結
晶は電子デバイス類のヒートシンクを作る上でレーザー
カット(レーザビームによる裁断)される。ダイヤモン
ドはこの種の用途では熱伝導度が高いことからして有用
であると評価されよう。
高圧ダイヤモンド合成法には、特有の多くの制約がある
ことからこれに代る技術の開発がこれまで努力し続けら
れている。その結果、開発された技術により、ダイヤモ
ンド薄膜が選定された基板上に、今や形成可能となった
。ダイヤモンド薄膜は、電子工業にとってかなり興味の
もたれるものであって、同業技術者に評価されるように
、ダイヤモンド薄膜はドープ処理の上、n型及びP型の
ダイヤモンド層を作り出すことができる。
これまでの先行する析看実験では、現在ダイヤモンド合
成で用いられている基本的技術についてその幾つかを確
立している。しかし、再現性のある皮膜を信頼して形成
するためには多くの開発を必要としている。本明細書で
はそのような信頼できるダイヤモンド材料の結晶核生成
とその成長にせまる新しい方法を提供するものである。
過去において、ダイヤモンドは、単に、選択した基板上
に、単一の炭素含有ガスあるいは炭素含有ガスの単一混
合ガスに対して熱的もしくはプラズマによる分解を施し
て成長させることだけが可能であった。例えば、Eve
rsole Angusらは、ダイヤモンドの種子結晶
上にダイヤモンドと黒鉛とを同時析着さした後、水素エ
ツチングによりこの黒鉛を除去した。ロシャの作業者ら
は、後になって、AnguSの研究にもとづいてメタン
と水素の混合物を利用した、このAngusの研究では
、水素で抑制された黒鉛形成工程を用いてダイヤモンド
基板上にダイヤモンド皮膜を生ずるものである。形成さ
れた黒鉛は原子状態の水素によるエツチングで除去され
た。これらの研究努力は後に若干改善され最終的にはダ
イヤモンドではない材質の基板を用いてこれにダイヤモ
ンドを成長させる技術を得た。
ダイヤモンドの化学的蒸着法は、これまでに、加熱フィ
ラメント、直流プラズマ、高周波プラズマ及びマイクロ
波によるガスプラズマを、低圧雰囲気及び高圧雰囲気の
両方の雰囲気を用いて実施されている。供給材料ガスは
基本的には水素とメタンとの混合ガスである。水素成分
は分解して原子水素になる。メタン成分はまた分解して
多分CH,基となり、この現象はダイヤモンドの結晶成
長を促進する上で役立つと信じられている。
Matsumotoに与えられたアメリカ特許No、4
,767.608では、大形ダイヤモンドの基板上への
形成が開示されており、これには電気的プラズマ放電が
用いである。これもまた大形ダイヤモンドを生ずるため
に基板をエツチングで除くことが知られている。
特に、マイクロ波によるダイヤモンドの蒸着法はダイヤ
モンド薄膜生産用の有望な工業的方法として大いに注目
を集めている。基本的には、周波数2.45 G)1.
が用いられて、水素を、メタンもしくはアセチレンのよ
うな炭素源ガスとの供給材料ガス混合物を分解する。前
にも延べたように、マイクロ波放射は供給材料ガスを分
解して原子水素と活性炭素基類を生ずる。見本的に、こ
の工程は10ないし100tonの間の圧力で行われる
。基板は、約500℃ないしi、ioo℃の間のある温
度に加熱保持される。若干のダイヤモンド化していない
炭素を含有する多結晶ダイヤモンド膜は大面積基板に対
してこのやり方で形成可能である。形成された晶子(c
rystallite)は基本的にはその大きさは25
ナノメータと25ミクロンの間にある。
説明したように、ダイヤモンドでない材質から成る基板
は、また合成ダイヤモンド膜の生産に用いて有効である
。この種の基板は、例えば、ニッケル、銅、及びチタン
といった数種の金属から成り、また、セラミック、炭化
物、窒化物、サファイヤ、シリコン及びグラファイトな
どと同様に用いられる。この他にも非ダイヤモンド基板
として知られているものがある。同業技術分野の者によ
く知られているように、適当な基板は、適量なダイヤモ
ンドの結晶成長を保持するために充分な結晶核成長の場
を提供しなければならない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、成形ダイヤモンド製品を製作する工程であって;化
    学的蒸気を生成し、前記化学的蒸気は前もって選択され
    た基板上にダイヤモンド析着物を形成する活性炭素ガス
    手段を包有し; 前もって定めた形状をもつ非平面の型を用意し、前記型
    の表面は前記化学的蒸気からダイヤモンド成長のための
    結晶核生成の能力をもち、前記非平面形状の型は更に蒸
    着により表面に形成されたダイヤモンド層を遊離する能
    力を備え; 前記非平面形状の型の前記表面を前記化学的蒸気を接触
    させて前記非平面形状の型の表面に合成ダイヤモンドの
    層を形成し、前記化学的蒸気が置かれている条件は前記
    非平面形状の型の形状に合致する形状をもった合成ダイ
    ヤモンド製品を形成するためのダイヤモンド生長の結晶
    核が生成される条件であり;そして、 前記合成ダイヤモンド製品を前記非平面形状の型から遊
    離する、ことから構成されることを特徴とする成形ダイ
    ヤモンド製品の製作工程。 2、請求項1に記載の工程により作られることを特徴と
    する成形ダイヤモンド製品。 3、前記活性炭素ガス手段が、メタン、アセチレン、一
    酸化炭素、メタノール、エタノール、二酸化炭素及びこ
    れら物質の組合せ体から成る群から選択した炭素含有気
    体から生成されることを特徴とする請求項1記載の成形
    ダイヤモンド製品の製作工程。 4、前記化学的蒸気が水素を含有することを特徴とする
    請求項1記載の成形ダイヤモンド製品の製作工程。 5、前記化学的蒸気がガスプラズマであることを特徴と
    する請求項1記載の成形ダイヤモンド製品の製作工程。 6、前記ガスプラズマがマイクロ波の放射により生成さ
    れることを特徴とする請求項5記載の成形ダイヤモンド
    製品の製作工程。 7、前記非平面形状の型が、ニッケル、銅、タングステ
    ン、モリブデン及びこれらの組合せ体から成る群から選
    択した物質からなることを特徴とする請求項1記載の成
    形ダイヤモンド製品の製作工程。 8、前記合成ダイヤモンド層はその厚さが約5ミクロン
    から約5000ミクロンであることを特徴とする請求項
    1記載の成形ダイヤモンド製品の製作工程。 9、成形した合成ダイヤモンド製品の製作方法であって
    ; 水素とダイヤモンド生成用炭素種とを含有するガスプラ
    ズマを生成し; 1個の非平面形状の型を用意し、前記非平面形状の型の
    少なくとも外表面はニッケルで形成されており; 前記非平面形状の型に前記ガスプラズマを接触させ; 前記非平面形状の型の上の合成ダイヤモンド層を生長さ
    せ;そして、 前記非平面形状の型と前記合成ダイヤモンド層とを冷却
    しその達した温度において前記非平面形状の型が収縮し
    て前記合成ダイヤモンド層を前記非平面形状の型から遊
    離させて成形合成ダイヤモンド製品を得ることを特徴と
    する成形合成ダイヤモンド製品の製作方法。10、前記
    ダイヤモンド生成用炭素種は、メタン、アセチレン、一
    酸化炭素、メタノール、エタノール及びこれらの組合せ
    体から成る群から選択した1種のガスから生成されるこ
    とを特徴とする請求項9記載の成形合成ダイヤモンド製
    品の製作方法。 11、前記ガスプラズマがマイクロ波放射により生成さ
    れることを特徴とする請求項9記載の成形合成ダイヤモ
    ンドの製作方法。 12、前記合成ダイヤモンド層の厚さは約5ミクロンか
    ら約5000ミクロンであることを特徴とする請求項9
    記載の生成合成ダイヤモンド製品の製作方法。 13、成形ダイヤモンド製品の製作方法であって;化学
    的蒸気を発生させ、前記化学的蒸気は前もって選択した
    基板上にダイヤモンド析着物を形成するガス手段を含み
    ; 非平面形状の型を用意し; 前記非平面形状の型上にエッチング(腐食処理)可能な
    材料から成る層を析着させ、前記エッチング可能材料は
    前記化学的蒸気からダイヤモンドを生長させる結晶核を
    生成する領域を有しまた前もって決定した外形を有して
    成り; 前記エッチング可能材料をもつ前記非平面形状の型を前
    記化学的蒸気と接触させて前記エッチング可能層上に合
    成ダイヤモンド層を形成し前記エッチング可能層のもつ
    前記外形と合致する形状をもつダイヤモンド製品を形成
    し; 前記エッチング可能層を腐食剤と接触させて前記エッチ
    ング可能層を除去し;そして、 前記ダイヤモンド製品を前記非平面形状の型から取り除
    く、かかる工程段階から成ることを特徴とする成形ダイ
    ヤモンド製品の製作方法。 14、請求項13記載の工程により製作されることを特
    徴とする成形ダイヤモンド製品。15、前記ガス手段は
    、メタン、アセチレン、一酸化炭素、メタノール、エタ
    ノール及びこれらの組合せ体から成る群から選択した1
    種類の炭素含有ガスから生成される活性炭素種であるこ
    とを特徴とする請求項13記載の成形ダイヤモンド製品
    の製作方法。 16、前記化学的蒸気は水素を含有することを特徴とす
    る請求項13記載の成形ダイヤモンド製品の製作方法。 17、前記化学的蒸気がガスプラズマであることを特徴
    とする請求項13記載の成形ダイヤモンド製品の製作方
    法。 18、前記ガスプラズマはマイクロ波放射により生成さ
    れることを特徴とする請求項17記載の成形ダイヤモン
    ド製品の製作方法。 19、前記エッチング可能材料は、けい素、モリブデン
    、チタン及びこれらの組合せ体から成る群から選択され
    ることを特徴とする請求項13記載の成形ダイヤモンド
    製品の製作方法。 20、前記腐食剤が弗化水素であることを特徴とする請
    求項13記載の成形ダイヤモンド製品の製作方法。 21、成形ダイヤモンド製品の製作工程であって;第1
    化学的蒸気を生成し、前記第1化学的蒸気は前もって選
    択した基板上にダイヤモンドを析着させる結晶核生成の
    ためのガス手段を含み;第2化学的蒸気を生成し、前記
    第2化学的蒸気は結晶核が生成した表面にダイヤモンド
    材料を生成させるためのガス手段を含み; 前もって定めた形状をもつ非平面形状の型を用意し、前
    記非平面形状の型の表面は前記第1化学的蒸線鏡関連に
    おいて結晶核の生成したダイヤモンドの生長をさせる能
    力を有し;前記非平面形状の型は蒸着によりその表面上
    に形成されたダイヤモンドの層を遊離させる能力を有し
    ; 前記非平面形状の型の表面を、ダイヤモンド析着物がそ
    の結晶核を生成するそのような条件下にある第1化学的
    蒸気と接触させ、然る後に前記表面を、前記非平面形状
    の型の形状と合致する形状をもった合成ダイヤモンド製
    品を形成するために結晶成長を起すそのような条件下の
    前記第2化学的蒸気と接触させることによって前記非平
    面形状の型上に合成ダイヤモンドの層を形成し;そして
    、前記合成ダイヤモンド製品を前記非平面形状の型から
    取り除く、かかる構成をもつことを特徴とする成形ダイ
    ヤモンド製品の製作工程。 22、請求項21に記載の工程により製作された成形ダ
    イヤモンド製品。
JP2224141A 1989-08-25 1990-08-24 合成ダイヤモンド製品ならびにその製造法 Pending JPH03232796A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/398,690 US5130111A (en) 1989-08-25 1989-08-25 Synthetic diamond articles and their method of manufacture
US398690 1995-03-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03232796A true JPH03232796A (ja) 1991-10-16

Family

ID=23576398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2224141A Pending JPH03232796A (ja) 1989-08-25 1990-08-24 合成ダイヤモンド製品ならびにその製造法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5130111A (ja)
EP (1) EP0417924A1 (ja)
JP (1) JPH03232796A (ja)
KR (1) KR910004853A (ja)
CA (1) CA2023221A1 (ja)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5284709A (en) * 1987-03-30 1994-02-08 Crystallume Diamond materials with enhanced heat conductivity
JP2973472B2 (ja) * 1990-03-08 1999-11-08 ヤマハ株式会社 プラズマcvd装置
GB9015609D0 (en) * 1990-07-16 1990-09-05 De Beers Ind Diamond Tool insert
US5310512A (en) * 1990-11-15 1994-05-10 Norton Company Method for producing synthetic diamond structures
US5221501A (en) * 1991-06-11 1993-06-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Method of producing a smooth plate of diamond
CA2068152A1 (en) * 1991-06-12 1992-12-13 William L. Mowrey Method for producing articles by chemical vapor deposition and the articles produced therefrom
JPH0558785A (ja) * 1991-08-30 1993-03-09 Sumitomo Electric Ind Ltd ダイヤモンド膜及びその合成法
CA2082711A1 (en) * 1991-12-13 1993-06-14 Philip G. Kosky Cvd diamond growth on hydride-forming metal substrates
CA2087765A1 (en) * 1992-02-07 1993-08-08 David E. Slutz Method for producing uniform cylindrical tubes of cvd diamond
JPH0638295A (ja) * 1992-07-15 1994-02-10 Sumitomo Electric Ind Ltd スピ−カ−用振動板及びその製造方法
US5337844A (en) * 1992-07-16 1994-08-16 Baker Hughes, Incorporated Drill bit having diamond film cutting elements
US5334283A (en) * 1992-08-31 1994-08-02 The University Of North Carolina At Chapel Hill Process for selectively etching diamond
US5236545A (en) * 1992-10-05 1993-08-17 The Board Of Governors Of Wayne State University Method for heteroepitaxial diamond film development
JP3107683B2 (ja) * 1993-08-12 2000-11-13 富士通株式会社 ダイヤモンドの気相合成方法
US6342195B1 (en) 1993-10-01 2002-01-29 The Penn State Research Foundation Method for synthesizing solids such as diamond and products produced thereby
US5620754A (en) * 1994-01-21 1997-04-15 Qqc, Inc. Method of treating and coating substrates
US5731046A (en) * 1994-01-18 1998-03-24 Qqc, Inc. Fabrication of diamond and diamond-like carbon coatings
US5554415A (en) * 1994-01-18 1996-09-10 Qqc, Inc. Substrate coating techniques, including fabricating materials on a surface of a substrate
US5660680A (en) * 1994-03-07 1997-08-26 The Regents Of The University Of California Method for fabrication of high vertical aspect ratio thin film structures
US5551277A (en) * 1994-09-23 1996-09-03 General Electric Company Annular diamond bodies
GB9425712D0 (en) * 1994-12-20 1995-02-22 De Beers Ind Diamond Diffractive optics
US6533869B1 (en) * 1995-02-15 2003-03-18 Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation Apparatus and method for making free standing diamond
US5759623A (en) * 1995-09-14 1998-06-02 Universite De Montreal Method for producing a high adhesion thin film of diamond on a Fe-based substrate
US5954147A (en) * 1997-07-09 1999-09-21 Baker Hughes Incorporated Earth boring bits with nanocrystalline diamond enhanced elements
US6626949B1 (en) 1999-07-14 2003-09-30 Biopro, Inc. Diamond coated joint implant
SE9904749D0 (sv) * 1999-12-21 1999-12-21 Amersham Pharm Biotech Ab Polycrystalline diamond microstructures
US6338754B1 (en) 2000-05-31 2002-01-15 Us Synthetic Corporation Synthetic gasket material
US7011134B2 (en) * 2000-10-13 2006-03-14 Chien-Min Sung Casting method for producing surface acoustic wave devices
US6659161B1 (en) * 2000-10-13 2003-12-09 Chien-Min Sung Molding process for making diamond tools
US7132309B2 (en) * 2003-04-22 2006-11-07 Chien-Min Sung Semiconductor-on-diamond devices and methods of forming
FR2827079B1 (fr) * 2001-07-04 2004-05-28 Alstom Procede pour la realisation d'un substrat diamant et substrat diamant obtenu par un tel procede
US6616725B2 (en) 2001-08-21 2003-09-09 Hyun Sam Cho Self-grown monopoly compact grit
EP1907320A4 (en) * 2005-05-25 2010-05-05 Carnegie Inst Of Washington COLORLESS CRYSTALLINE CVD DIAMOND WITH FAST GROWTH RATE
US7846767B1 (en) 2007-09-06 2010-12-07 Chien-Min Sung Semiconductor-on-diamond devices and associated methods
JP5403519B2 (ja) * 2010-02-22 2014-01-29 独立行政法人物質・材料研究機構 結晶ダイヤモンド・エアギャップ構造体の作製方法
EP2785639A1 (en) * 2011-11-29 2014-10-08 Imec Deposition of nano-diamond particles
GB201222395D0 (en) * 2012-12-12 2013-01-23 Element Six Ltd Microwave plasma CVD synthetic diamond growth on non-planar and/or non-refractory substrates

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3621565A (en) * 1969-06-12 1971-11-23 Nasa Fabrication of single-crystal film semiconductor devices
US3819814A (en) * 1972-11-01 1974-06-25 Megadiamond Corp Plural molded diamond articles and their manufacture from diamond powders under high temperature and pressure
US3959045A (en) * 1974-11-18 1976-05-25 Varian Associates Process for making III-V devices
US4255208A (en) * 1979-05-25 1981-03-10 Ramot University Authority For Applied Research And Industrial Development Ltd. Method of producing monocrystalline semiconductor films utilizing an intermediate water dissolvable salt layer
JPS5929371B2 (ja) * 1979-09-10 1984-07-20 株式会社 利根ボ−リング ダイヤモンド粒の自動植付け方法
US4512825A (en) * 1983-04-12 1985-04-23 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Recovery of fragile layers produced on substrates by chemical vapor deposition
CA1235087A (en) * 1983-11-28 1988-04-12 Akio Hiraki Diamond-like thin film and method for making the same
JPS60141697A (ja) * 1983-12-27 1985-07-26 Pioneer Electronic Corp ダイヤモンド振動板の製造方法
US4490229A (en) * 1984-07-09 1984-12-25 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Deposition of diamondlike carbon films
JPS61151097A (ja) * 1984-12-25 1986-07-09 Showa Denko Kk 平滑面をもつダイヤモンド薄膜の製法
JPS63107898A (ja) * 1986-10-23 1988-05-12 Natl Inst For Res In Inorg Mater プラズマを用いるダイヤモンドの合成法
JPH0780720B2 (ja) * 1987-06-04 1995-08-30 富士通株式会社 気相合成ダイヤモンド膜のパタ−ニング方法
JPH01104761A (ja) * 1987-10-14 1989-04-21 Ricoh Co Ltd パターン化ダイヤモンド状炭素膜の製法
JPH0250311A (ja) * 1988-08-12 1990-02-20 Sumitomo Special Metals Co Ltd 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板
US5006203A (en) * 1988-08-12 1991-04-09 Texas Instruments Incorporated Diamond growth method
US5087434A (en) * 1989-04-21 1992-02-11 The Pennsylvania Research Corporation Synthesis of diamond powders in the gas phase

Also Published As

Publication number Publication date
KR910004853A (ko) 1991-03-29
US5130111A (en) 1992-07-14
EP0417924A1 (en) 1991-03-20
CA2023221A1 (en) 1991-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5130111A (en) Synthetic diamond articles and their method of manufacture
Liu et al. Diamond chemical vapor deposition: nucleation and early growth stages
KR100212120B1 (ko) Cvd다이아몬드 공작편의 제조방법
Ferro Synthesis of diamond
Butler et al. Developments in CVD-diamond synthesis during the past decade
US6582513B1 (en) System and method for producing synthetic diamond
CA2456847C (en) System and method for producing synthetic diamond
EP0348026B1 (en) Diamond growth on a substrate using microwave energy
CA2042268A1 (en) Isotopically pure single crystal epitaxial diamond films and their preparation
Bachmann et al. Diamond thin films: preparation, characterization and selected applications progress report
JPS62103367A (ja) 炭素膜の合成方法
JP3452665B2 (ja) ダイヤモンド単結晶の合成方法及び単結晶ダイヤモンド
EP0518591B1 (en) Method for producing articles by chemical vapor deposition and the articles produced therefrom
Schreck Growth of single crystal diamond wafers for future device applications
Wiora et al. Synthesis of nanodiamond
Maeda et al. Effect of substrate pretreatment on diamond deposition in a microwave plasma
GB2638116A (en) CVD single crystal diamond material
JPH01157412A (ja) ダイヤモンド膜付基板の製造方法
JPH03141199A (ja) 単結晶cvdダイヤモンドの製造方法
JPH0723279B2 (ja) ダイヤモンド膜の製造方法
Chang et al. CVD diamond growth
KR100459531B1 (ko) 마이크로웨이브 플라즈마 씨브이디에 의한 대결정다이아몬드 박막의 제조방법
Chen Diamond Chemical Vapor Deposition and Practical Applications
JP2614870B2 (ja) 多結晶質ダイヤモンド焼結体の製造法
JPH04305095A (ja) 対称な化学蒸着ダイヤモンド物品及びその製造方法