JPH03240757A - ポリアミンとそれらの生成方法 - Google Patents

ポリアミンとそれらの生成方法

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JPH03240757A
JPH03240757A JP2293483A JP29348390A JPH03240757A JP H03240757 A JPH03240757 A JP H03240757A JP 2293483 A JP2293483 A JP 2293483A JP 29348390 A JP29348390 A JP 29348390A JP H03240757 A JPH03240757 A JP H03240757A
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JP
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polyamine
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monomethyl
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JP2293483A
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Floyd E Friedli
フロイド・イー・フリードゥリ
Robert M Gilbert
ロバート・エム・ギルバート
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Sherex Chemical Co Inc
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
    • C07C209/44—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
    • C07C209/48—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明、ポリアミンに係り、−層詳細には新しいトリ、
テトラ、ペンタ、及びヘキサ・アミンとそれらの合成方
法に係る。
[発明の背景] ポリアミン及びポリアミドは界面活性剤の性質を有して
おり、様々な状況で有用であることが示されている。ア
スファルト乳化剤及び抗剥離薬剤は、従来於て提案され
ているポリアミンの用途の二つに過ぎない。アスファル
トの組成物の形成する上で有用であるような様々なアミ
ン組成物が研究され、新しいポリアミンとそれらの合成
方法が発見された。これらの新しいポリアミンは一つの
末端が第三アミン基であり、他方の末端が第一アミン基
である。中間のアミン基は第二若しくは第三アミン基と
なる。そしてそのポリアミンは他に様々な活性部位を有
しており1、その活性部位を適切に用いることによって
様々な誘′・導体、即ち、スファルト乳化剤の分野以外
の分野で有用性を見つけることができる誘導体を形成す
る。例えばこの新規なポリアミンとそれらの誘導体によ
って浮遊選鉱、エポキシ硬化剤、及び似たような用途が
予想される [発明の概要] 本発明は、次の一般構造に示されるポリアミンに関する
ものである。
ここで、Rは有機基であり、R′はH若しくはCH3で
あり、x−0−3である。従ってトリ、テトラ、ペンタ
、及びヘキサ・アミンが開示される。
以上の如き新規なポリアミンを生成する方法に於て次の
ような多段階の反応過程が含まれる。その多段階の反応
過程は過程(a)からはじまり、その過程では第一アミ
ン、R−NH2がシアノエチル化する状況下に於て、ア
クリロニトリルでシアノエチル化され、R−N H−C
H2CH2CNの構造のアミノニトリルが形成される。
過程(b)に於てそのアミノニトリルはLeuckar
t反応をする条件下でギ酸及びホルムアルデヒドを用い
た反応によってメチル化され、R−N(CH3)−CH
2−CH2−CNの構造のモノメチル・アミノニトリル
が形成される。そして過程(C)に於て七ツメチル・ア
ミノニトリルは、好ましくは、水素化する条件下で水素
化反応によって還元され、R−N (CH3)−CH2
−CH2−CH2−NH2の構造のモノメチル−ジアミ
ンが形成される。
そして、過程(d)に於てモノメチル・ジアミンはシア
ノエチル化、化する条件下でアクリロニトリルによって
再びシアノエチル化され、その鎖状構造が延長され、R
−N (CH3)−CH2−CH2−CH2−NH−C
H2CH2−CNの構造のモノメチル・ジアミノニトリ
ルを形成する。最後に過程(e)に於て、モノメチルI
ジアミノニトリルは、好ましくは、水素化する条件で水
素化反応によって還元され、新規なポリアミンを形成す
る。
過程(b)を繰返するこによって+ R/はメチル基に
なる。(d)及び(e)を繰返すことによってXが4に
なるまで延長される。
新規なポリアミンから更に様々な誘導体が形成されてよ
い。例えば、ポリアミンがアルコキシル化されて互いの
結合を形成してもよく、或いはカルボン酸で反応させら
れアミド基を形成することもできる。また、ポリアミン
はエポキシ化され、そして、アルキル化されることによ
り第四アンモニウム化合物を形成することができる。こ
のようにポリアミンの幅広い様々な誘導体は本開示の中
に含まれる。
[発明の詳細な記載] 新規なポリアミンは直鎖状であり、プロピレン基によっ
て分けられた三個から六個のアミン基を含んでいる。一
つの末端は有機基であり、他方の末端は第一アミン基で
ある。各々のアミン基は有機基を持つ窒素原子から始ま
り、そして各々メチル基を含有する。そして第一アミン
基末端に隣接した最後から二番目のアミン基は第二アミ
ン基でもよく、或いはまたメチル基を含んでいてもよい
。
新規なポリアミンの合成は通常第一アミンから始まり、
第一アミンはシアノエチル化反応に曝され、その結果と
してできるアミンで構成された基、即ち、アミノニトリ
ルを与える。そして、アミノニトリルはアミン基がメチ
ル化されるLeuckart反応に曝され、最後にニト
リル基は末端にアミン基を形成するために還元される。
これら一連の反応はジアミンの鎖状構造を延長しトリア
ミン若しくはより高いポリアミンを形成するために繰返
すことができる。
連続した反応の初めの過程について見ると、第一アミン
、R−NH2がそこにアクリロニトリルを加えることに
よってシアノエチル化反応に曝される。ここに用いられ
る第一アミンの置換基Rは多くのものが設定されてよい
。有機基、特に低級のアルキル基から長い鎖式脂肪族基
(炭素数が八個から22個)に亙る炭化水素基は新規な
ポリアミンの基礎を作る上で有利な基である。しかしな
がら置換基Rはその構造に於て直鎖式のものであっても
よく、また枝のあるものであってもよく、エーテル基、
アミド基、第三アミン基、スルフィド基、チオ基などを
含んでいてもよい。シアノエチル化はよく知られた実施
されている反応であり、アクリロニトリルで第一アミン
を約25℃〜100℃まで上昇する温度に於て反応させ
るものである。シアノエチル化の詳細は(In Mar
ch、 Advanced  Organic  Ch
emlstry、  2d  Edltlon、  P
  679  (McGray−Hill Book 
Company、 1977) and Bruson
、 Org。
React、、 5.79−135 (1949))に
報告されている。
シアノエチル化による生成物はアミノニトリルである。
シアノエチル化反応により生成されたアミノニトリルは
、その後ホルムアルデヒド及びギ酸を加えることによっ
てLeuekart反応に曝される。有機溶媒、例えば
トルエン及びその他の添加剤(泡消し剤等)が必要に応
じて若しくは所望されて使われてよい。このメチル化反
応は約40℃〜150にかけて上昇する温度でおこなわ
れ、モノメチル・アクリロニトリルの中間生成物が生成
される。
Leuckart反応の更に詳しい詳細は(In Ma
rch、 5upra、 at pp 819−820
)に見ることができる。
モノメチル・アミノニトリル中間体はその後そのニトリ
ル基が還元される。この場合ふされしい手段としては、
水素化することであり、この水素化は水素化反応条件(
例えば約50〜600 psig)、即ち慣用の水素化
触媒、水素ガスが存在し、温度が約100℃〜220℃
まで変動する条件下で行われる。アンモニア及びその他
のガスが還元する条件下に含まれてよい。慣用の水素化
触媒としてはニッケル、パラジウム、白金、亜クロム酸
銅などが必要に応じて、若しくは所望されて、或いは簡
便性に応じて用いられる。ラネイニッケルはこの反応に
とって好ましい、そして知られている触媒である。この
還元反応によってモノメチル化されたジアミン中間体が
生成される。
その後回収したモノメチル・ジアミン中間体は再びシア
ノエチル化反応させられモノメチル・ジアミノニトリル
を形成することができる。この中間体を還元し、トリア
ミンを生成することができ、このトリアミンに於ては末
端の第一アミンに隣接するアミン基は第三アミン基か、
更にLeuckartメチル化反応を施すことによって
ジメチル化されたトリアミンとすることができる。
この新しいジメチル・トリアミンはその後再びシアノエ
チル化反応、Leuckartメチル化反応及び還元反
応によってテトラアミン、ペンタアミンそしてヘキサア
ミンを生成するためにその鎖状構造を延長することがで
きる。
本発明の新規なポリアミンは、被覆剤及び界面活性剤と
しての優れた特性を有し、乳化剤及び抗剥離剤としての
アスファルト組成物において、浮遊選鉱に於て、エポキ
シ硬化剤として、及び似たような知られている使い方に
於て有用性がある。
この点に関して、新しいポリアミンの誘導体が種々合成
することができることが理解されるであろう。例えばエ
チレン酸化物、プロピレン酸化物゛、ブチレン酸化物及
び強アルカリ性酸化物を用いることによってポリアミン
をアルコキシル化することができ、これによりエーテル
基が付加され界面活性を増すことができる。第一アミン
基末端をカルボン酸と反応させることによって、アミド
を作ることができる。更に新しいポリアミンはエポキシ
化されることにより両性イオン化合物を形成することが
でき、これはその後アルキル化することにより第四アン
モニウム塩を形成し、例えば高分子イソシアナートを硬
化するための硬化触媒として有用となる。ポリアミンは
、従来の技術に於てよく知られたアルキル化剤を加える
ことにより、直接、第四化することができる。従って、
本発明に多く新しい誘導体が含まれることになる。
以下の実施例により本発明がどのように実施されるかを
示す。しかしこの例に制限されるべきものではない。本
願に於て全ての単位はメートル法に基いたものであり、
全てのパーセンテイジ及び比率は特に指示しない限り重
量によるものである。
またここに言及する全ての引例は参考文献として示され
ている。
[実施例] 例  1 N −Tal low−メチル・ジプロピレン・トリア
ミンの生成方法 R−NMe−(CH2)3−NH−(CH2) −NH
2 (a ) Tallow第一アミン(Adogen 1
70.530g、  2.Omoles、 5here
x Cheaieal Company、 Dubll
n、 0hlo)及び5gの水を底の円いフラスコに撹
拌器、漏斗及び温度計を取付けたものに入れた。そして
、アクリロニトリル(106g、2.0モル)をゆっく
りと1時間かけて、50℃〜60℃に保ちながら加えた
。撹拌は更にもう1時間、60℃に保ちながら続けた。
その後真空ストリッピングによりアミノニトリルが63
6g得られた。
(b)過程(a)から得られたアミノニトリルのメチル
化はLeuckart反応を修正したものによってなさ
れた。アミノニトリル(636g、2.0モル)、トル
エン(200g) 、及び泡消しく3g)を底の円いフ
ラスコで漏斗、温度計、撹拌器、及び凝縮器を取付けた
ものの中に入れた。そして、フラスコの温度を95℃に
保ち、ホルムアルデヒド(37%水溶液、178g、2
.2モル)およびギ酸(110g、2.4モル)の混合
物を1時間半かけてゆっくりと漏斗を通して加えた。そ
して、生成混合物を更に3時間撹拌した。その後それを
少量の塩とプロパツールを加えた3倍のお湯で抽出した
。少量の塩とイソプロパツールは液相が分離することを
助けるために加えられたものである。その後有機相を吸
引除去(20〜30n)した。その時の温度は、揮発性
物質を取除くため105℃とした。その結果できた生成
物は所望のモノメチル・アミノニトリルであった。
(C)メチル・アミノニトリルの水素化は21のステン
レス金属のParrオートクレーヴの中で行った。この
反応では1重量%のラネイニッケルを用い、160℃に
保ち、分圧300 psigのアンモニア及び300 
psigの水素ガスを用いて行った。
水素の取込みが終った後で、反応物質を濾過し、モノメ
チル・ジアミンを得る。これを分析すると:全アミン値
        292 第二/第三アミン値   1.67 第三アミン値       113 であった。アミン値の理論的な値は、各々321.16
0.160である。
(d)モノメチル・ジアミンを更に過程(a)と同じよ
うにアクリロニトリルと反応させた。
(e)過程(d)のアクリロニトリルを付加した生成物
を過程(c)と同様の処理をすることにより還元し、所
望のモノメチル化されたトリアミンが溶液として得られ
た。それを分析すると:全アミン値        3
81 第二/第三アミン値   252 第三アミン値       134 であった。アミン値の理論的な値は、各々415.27
6.138である。
例  2 N−Tallow −N、 N’ −ジメチル・ジプロ
ピレン・トリアミンの生成方法 R−NMe−(CH2)3−NMe−(CH2)−NH
2 A6例1の過程(d)からアクリロニトリルを付加した
生成物<954g、3.0モル)を例1の過程(b)と
同じような方法でLeuekart反応を通してメチル
化した。
B、Aの過程から得られたジメチル化した生成物を撹拌
器及び冷却コイルを取付けた21のステンレスParr
反応器の中で水素化し、トリアミンとした。この時2重
量%のラネイニッケルを触媒として用い、分圧300 
psigのアンモニア及び300 psjgの水素ガス
の存在下で保ち、170℃で7時間反応させた。その後
濾過することにより所望のジメチル・トリアミンが溶液
として得られた。

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) ▲数式、化学式、表等があります▼ で、Rは有機基であり、R′はH若しくはCH_3であ
    り、xは0〜3である化学式で表されるポリアミン。
  2. (2)特許請求の範囲第1項に記載されるポリアミンで
    、R′がHであるポリアミン。
  3. (3)特許請求の範囲第1項に記載されるポリアミンで
    、R′がCH_3であるポリアミン。
  4. (4)特許請求の範囲第1項に記載されるポリアミンで
    、xが0であるポリアミン。
  5. (5)特許請求の範囲第1項に記載されるポリアミンで
    、Rが炭素原子数が8〜22である有機基であるポリア
    ミン。
  6. (6)特許請求の範囲第1項に記載されるポリアミンで
    、エポキシドと反応させられているポリアミン。
  7. (7)特許請求の範囲第1項に記載されるポリアミンで
    、アルキル化剤と反応させられているポリアミン。
  8. (8)特許請求の範囲第1項に記載されるポリアミンで
    、アルコキシル化させられているポリアミン。
  9. (9)特許請求の範囲第1項に記載されるポリアミンで
    、カルボン酸と反応させられているポリアミン。
  10. (10) ▲数式、化学式、表等があります▼ で、Rは有機基であり、R′はH若しくはCH_3であ
    り、xは0〜3である化学構造のポリアミンを生成する
    方法であって、 (a)シアノエチル化する条件下で第一アミン、R−N
    H_2、をアクリロニトリルでシアノエチル化しR−N
    H−CH_2−CH_2−CNの構造のアミノニトリル
    を形成する過程と、 (b)Leuckart反応をする条件下でギ酸とホル
    ムアルデヒドで反応させることにより前記アミノニトリ
    ルをメチル化し、R−N(CH_3)−CH_2−CH
    _2−CNの構造のモノメチル・アミノニトリルを形成
    する過程と、 (c)水素化する条件下で前記モノメチル・アミノニト
    リルを水素化し、R−N(CH_3)−CH_2−CH
    _2−CH_2−NH_2の構造のモノメチル・ジアミ
    ンを形成する過程と、 (d)シアノエチル化する条件下で前記モノメチル、ジ
    アミンをアクリロニトリルでシアノエチル化し、R−N
    (CH_3)−CH_2−CH_2−CH_2−NH−
    CH_2−CH_2−CNの構造のモノメチル・ジアミ
    ノニトリルを形成する過程と、(e)水素化する条件下
    で前記モノメチル・ジアミノニトリルを水素化し、前記
    ポリアミンを形成する過程と、 (f)R′=CH_3とする場合に過程(b)を繰返し
    、過程(d)と過程(e)を繰返しxが3になるまで延
    長する過程と、 を含むポリアミンを生成する方法。
  11. (11)特許請求の範囲第10項に記載される方法であ
    って、約25℃〜100℃の間に亙る温度であることを
    含むシアノエチル化する条件下で過程(a)と過程(b
    )が行われるポリアミンの生成方法。
  12. (12)特許請求の範囲第10項に記載される方法であ
    って、約40℃〜150℃の間に亙る温度であり、有機
    溶媒を使用することを含むLeuckart反応をする
    条件下で過程(b)及び過程(e)が行われるポリアミ
    ンの生成方法。
  13. (13)特許請求の範囲第10項に記載される方法であ
    って、水素化する触媒が存在し約100℃〜220℃の
    間に亙る温度であり、水素の圧力が50〜600psi
    gの間に亙ることを含む水素化条件下で過程(c)が行
    われるポリアミンの生成方法。
  14. (14)特許請求の範囲第13項に記載される方法であ
    って、前記水素化する条件に於てアンモニアが存在する
    ことを含むポリアミンの生成方法。
  15. (15)特許請求の範囲第10項に記載される方法であ
    って、前記ポリアミンがエポキシドと反応させられるポ
    リアミンの生成方法。
  16. (16)特許請求の範囲第10項に記載される方法であ
    って、前記ポリアミンがアルキル化剤と共に反応させら
    れて第四アンモニア化合物を形成するポリアミンの生成
    方法。
  17. (17)特許請求の範囲第10項に記載される方法であ
    って、前記ポリアミンがアルコキシル化する薬剤でアル
    コキシル化させられるポリアミンの生成方法。
  18. (18)特許請求の範囲第10項に記載される方法であ
    って、前記ポリアミンがカルボン酸によって反応させら
    れアミドを形成するポリアミンの生成方法。
  19. (19)特許請求の範囲第10項に記載される方法であ
    って、前記水素化する条件に於てアンモニアが存在する
    ことを含むポリアミンの生成方法。
JP2293483A 1990-01-12 1990-10-30 ポリアミンとそれらの生成方法 Pending JPH03240757A (ja)

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