JPH03241848A - Tabインナーリードのバンプ構造およびその形成方法 - Google Patents

Tabインナーリードのバンプ構造およびその形成方法

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JPH03241848A
JPH03241848A JP3931390A JP3931390A JPH03241848A JP H03241848 A JPH03241848 A JP H03241848A JP 3931390 A JP3931390 A JP 3931390A JP 3931390 A JP3931390 A JP 3931390A JP H03241848 A JPH03241848 A JP H03241848A
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bump
inner lead
bumps
die
groove
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JP3931390A
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Hideki Kaneko
秀樹 金子
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NEC Corp
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は半導体素子の実装に用いられるTAB(Tap
e Automated Bonding)用テープキ
ャリアのインナーリード先端部に、機械的なプレス加工
により複数のバンプを一括して形成するバンプ構造とそ
の形成方法に関する。
〔従来の技術] 一般に、半導体素子をTAB用テープキャリアに実装す
るには、半導体素子の電極部またはテープキャリアのイ
ンナーリード先端部のいずれか一方に、バンプとなる突
起を形成する必要がある。半導体素子の電極部にバンプ
を形成する方法には、例えば、「アイビーエムジャーナ
ル(IBM Journal)J第8巻(1964年)
102頁に記載のように電極部に直接バンプとなる突起
をメツキ法により形成する方法や、「エレクトロニック
・パッケージング・アンド・プロダクション(Elec
tronic Packaging &Product
ion)J、1984年12月号、33〜39頁に記載
のようにエツチング技術を用いたペデスタル法、すなわ
ちバンプを形成する部分をマスキングしておき、他のイ
ンナーリード部分をハーフエツチングすることにより、
30〜40μmの高さの突起を形成する方法、あるいは
「昭和60年度電子通信学会半導体・材料部門全国大会
論文集、講演番号2」(1985年11月)に記載のよ
うにガラス基板にバンプを形成した後、電極部にバンプ
を移し換える方式の転写バンプ法などが行われている。
しかし、これらの方法でバンプを形成するには、高価な
露光装置やメツキ装置などの設備が必要となるばかりで
なく、材料コストが高く、しかもパターンニングのため
のりソゲラフイエ程やエツチング工程が必要になるため
バンプ形成工程が長くなるという問題がある。
このため、特公昭64−10094号公報に記載のよう
に、金型を用いた機械的なプレス成形加工技術を用いて
インナーリード先端部にバンプを製作する方法が提案さ
れている。この方法は、第6図(a)。
(b)、 (c)に示すように、下型22ヘフイルム2
0とインナーリード14が一体となったTABテープ2
1を装着し、上方からインナーリード14の幅よりも太
きな凸部23を有する上型24を降下させてインナーリ
ードの先端部にバンプ25をプレス加工によって形成す
る方法である。なお、上型の凸部により押圧されたイン
ナーリードの凹部により押圧されたインナーリードの凹
部26の材料の逃げのため、幅方向に切欠き27が設け
られている。
〔発明が解決しようとする課題] ところが、このようなプレス加工方法によりインナーリ
ード先端部に成形されたバンプ25は、インナーリード
の外形部分を金型を用いて成形した断面形状が中実構造
のバンプのため、半導体素子とバンプを熱圧着で接合す
る工程において作用させる圧縮荷重に対して、はぼ剛体
として作用する。
このため個々のバンプの高さにバラツキがあると、半導
体素子とバンプを接合するとき、すべてのバンプを均一
に接合することができず、電気的に接続不良が発生する
という課題がある。接続不良を発生させないためには、
バンプの高さのバラツキを少なくとも0.5μm以下と
することが必要であり、極めて高精度にバンプを形成す
ることが要求される。また、インナーリード14には、
事前に切欠きを設ける加工を行う必要がある等の課題が
ある。
本発明の目的はこのような従来の欠点を除去せしめてバ
ンプ形成工程が簡単で、バンプ高さのバラツキが存在し
ても半導体素子との良好な接合を達成できる生産性に優
れたバンプ構造とその形成方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段) 前記目的を達成するため、本発明に係るTABインナー
リードのバンプ構造においては、TAB用テープキャリ
アのインナーリード先端部近傍に中空バンプを有し、 該中空バンプは前記インナーリードの表面側が凹状に窪
み、インナーリードの裏面側に凸状に張り出した構造で
あり、 さらに、該中空バンプは前記インナーリードの幅方向に
沿って形成され、そのインナーリード幅方向の両端がイ
ンナーリードの両側に開口した溝構造としたものである
また、本発明に係るTABインナーリードのバンプ構造
は、TAB用テープキャリアのインナーリード先端部近
傍にバンプを形成する方法であって、少なくともインナ
ーリード装着工程と、位置決め工程と、プレス工程とを
含み、 インナーリード装着工程は、ダイスにTAB用テープキ
ャリアのインナーリードを装着する工程であり、前記ダ
イスは、底部の幅が前記インナーリードの幅に等しく、
かつその上部開口の幅か底部より広幅のテーパ状断面形
状をもつ複数の配置溝と、各配置溝の底部に形成された
バンプ溝とを有し、該配置溝はそのテーパ状側面部に前
記インナーリードを弾接させて粗位置決めするものであ
り、位置決め工程は、ポンチの凸部の中心が前記ダイス
のバンプ溝の中心に一致するようにポンチとダイスとを
位置決めする工程であり、該ポンチはその凸部が前記ダ
イスのバンプ溝より小さな幅をもち、該凸部の周囲に平
坦部が形成されたものであり、 プレス工程は、ポンチの凸部及び平坦部により前記イン
ナーリードをダイスの配置溝底部に向けて圧下してその
一部をダイスのバンプ溝内に圧入して該インナーリード
に中空バンプをプレス加工する工程であるTABインナ
ーリードのバンプ形成方法により得られる。
〔イ乍用1 ポンチとダイスを用いて、インナーリードの幅より小さ
なバンプを形成することにより、ドーム状の中空構造の
バンプを形成することができる。
中空構造のバンプではバンプ形成のための前加工が不用
となり、バンプ形成工程を大幅に簡略化できるという利
点があり、しかも、中実構造に比べ圧縮力に対して変形
し易い性質を有するため、バンプの高さにバラツキが存
在しても熱圧着時の圧縮荷重によりバンプが塑性変形し
、全てのバンプを均一な高さに矯正することができる。
このため、バンプ高さにバラツキが存在しても、中空バ
ンプを半導体素子の全ての電極部と均一に密着させ、良
好な接合を達成できる。
このような中空バンプは一般に第5図に示すように、1
組のダイスIIと棒状のポンチ17を用いて形成される
。この場合、1本のインナーリード14に対してバンプ
18をlケづつ形成するため、多品種少量生産の用途に
対しては十分効果があるが、大量生産の用途に対しては
バンプ形成に要する時間が長くなるため(1ケ当たり1
秒程度)、生産性が低くなるという課題がある。生産性
を向上するためには、複数のダイス穴を有するダイスと
複数の突起を有するポンチを用いて、−括して複数のイ
ンナーリードをプレス加工し、同時に複数の中空バンプ
を形成すれば良い。
L記のような方法で、同時に複数のバンプを高精度、か
つ生産性良く形成するためには、各々のインナーリード
とポンチ及びダイスの位置決めを高精度に、かつ瞬時に
行うことが要求される。ところが、−括して形成するバ
ンプの数、すなわちインナーリードの本数が増加する程
位置決めの累積誤差が増加するため、より高度な位置決
め技術が必要となり、しかも形成バンプ数が増加する程
一般に位置決めに要する時間が長くなるため、生産性の
点でも問題が生じる。
そこで、本発明では第1図(a)、 (b)に示すよう
に、まずダイス11の配置溝12のテーパ状側面部12
aにインナーリード14が接触するようにインナーリー
ド14を粗位置決めし、装着する。ここで、配置溝12
はインナーリード14と等ピッチで複数形成されており
、しかも配置溝12の底部にはポンチ17の凸部15の
外形寸法よりも大きなバンプ溝13が形成されている。
配置溝12は、その底面の幅がインナーリード14の幅
に等しく、その上面の幅がインナーリード14の幅より
も広いテーパ状の断面を有するため、粗位置決めを瞬時
に行うことができる。
次いで、凸部15の周囲が平坦である平坦部16を有す
るポンチ17を、凸部15の中心がバンプ溝13の中心
に一致するように配置し、ポンチ17をダイス11に向
けて下降させる。これにより、インナーリード14はポ
ンチ17の凸部15及び平坦部16により押圧され、イ
ンナーリードI4の先端近傍は配置溝12のテーパ状の
側面に沿って弾性的に移動し、第1図(C)に示すよう
にインナーリード幅に等しい幅を有する配置溝12の底
面に挿入される。以上のようにして、インナーリード1
4とポンチ17及びダイス+1の位置決めが行われる。
なお、第111iJ(b)。
(C)では、説明上ポンチを図示していない。
バンプ18の形成は、さらにポンチ17に作用させる荷
重を増加し、インナーリード14にポンチ17の凸部1
5を押し込むことにより行われ、複数の中空バンプ18
が一括してインナーリード14に形成される。
以上のように本発明のバンプの形成方法では、幅の広い
ダイス配置溝のテーパ状の側面にインナーリードを粗位
置決めさえすれば、インナーリードにバンプを高精度に
形成できる。ダイス配置溝の幅を十分広くすることによ
り、インナーリードの本数が増加しても、高精度にイン
ナーリードとポンチ及びダイスの位置決めを短時間で行
うことができ、複数の中空構造のバンプを高精度、かつ
容易に、しかも生産性良く形成することができる。
〔実施例〕
以下、本発明について図面を用いて詳細に説明する。
第1図(a)〜(d)は本発明のインナーリードのバン
プ形成方法を工程順に説明する断面図並びに平面図を示
す。
第4図に示すように本発明に係るTABインナーリード
のバンプ構造は、インナーリード14の先端部近傍に中
空バンプ18を有しており、該中空バンプ18はインナ
ーリード14の表面側が凹状に窪み、かつ、インナーリ
ード14の裏面側に凸状に張り出した構造であり、しか
も、インナーリード14の幅方向に沿って形成され、さ
らに、該中空バンプ18は、インナーリード幅方向の両
端+8a、 18bがインナーリード14の両側に開口
した溝構造としたものである。また、第1図(a)にお
いて、11はダイス、12はダイスll上に形成された
テーパ状断面を有する配置溝、13は配置溝12の底部
に形成されたバンプ溝、15はポンチ先端に形成した凸
部、16は平坦部、17はポンチを示す。
ポンチ17は第2図(a)、 (b)に示すように、そ
の凸部15が幅30±2μm、凸部15周囲の平坦部1
6は幅67±Iμm、長さ500±5μmの長方形であ
()、凸部15のピッチは140±2μmとし、凸部1
5は一列に30ケ形威した。ダイス11は第2図(a)
、 (b)に示すように、バンプ溝13が幅50±1μ
m、深さが30±1μmであり、配置溝12は底面の幅
70±1μm、長さ500±5μm、ストレート部の深
さ20±1μmである。配置溝12の上面の幅は100
±5μmであり、ピッチ+40±2μmで一列に30ケ
形成した。
まず、第1図(a)に示すように、ポンチ17の凸部1
5の中心がダイス11のバンプ溝13の中心に一致する
ようにポンチ17を位置決めした。さらに第3図に示す
ような幅70μm、厚さ35μmのインナーリード14
が一辺に30ケ、ピッチ140μmで四辺に並んだフィ
ルム20で形成されるTABテープ21を、その−辺が
第1図(b)に示すようにダイス11の配置溝12のテ
ーパ状側面に接触するように粗位置決めを行った。最後
に第1図(d)に示すように、ポンチ17に押し込み荷
重12k g fを作用させ、インナーリード14を押
圧し、中空バンプ18を形成したところ、第4図に示す
ような中空バンプ18を一括して120ケ形成すること
ができた。
インナーリード14の先端に形成された第5図に示す中
空バンプ18と、AQlを極の付いた半導体素子とを低
温ボンディング法(素子加熱温度:275℃。
加圧用ツール温度:450′C,圧力60gf/リード
、加圧時間1秒)により接合したころ、電気的にも機械
的強度の面でも良好な強度で接合を達成できた。
なお、本発明のプレス加工によるバンプ形成方法は、サ
イクルタイム10秒以下でフィルム20上の全てのイン
ナーリード14上に120ケのバンプ形成が可能であっ
た。
本発明の一実施例では、30ケ並んだインナーリードの
一辺に一括してバンプ形成し、同工程を連続して4辺に
あるインナーリードに対して4サイクル行うことによ番
ハフイルム20上の全てのインナーリード14にバンプ
形成を行ったが、−括して4辺にある全てのインナーリ
ード14にバンプ形成を行っても、あるいは数ケのイン
ナーリード14に対して中空バンプ18を一括形成する
工程を複数サイクル行い、全てのインナーリード上にバ
ンプを成形してもよい。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明のTABインナーリードの
バンプ形成方法では、バンプ形成工程が簡単で、バンプ
高さのバラツキが存在しても半導体素子との良好な接合
を達成でき、かつ生産性に優れたバンプ形成を実現でき
る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(d)は本発明のバンプ形成方法を工程
順に示した図であり、第1図(a)はインナーリードと
ポンチおよびダイスを粗位置決めした状態の断面図、第
1図(b)は同平面図、第1図(c)はインナーリード
が配置溝底面に挿入された状態を示す平面図、第1図(
d)はバンプ形成の様子を示す断面図、第2図は本発明
の一実施例におけるポンチおよびダイスを示す断面図、
第3図は本発明の一実施例τ用いたフィルムの平面図、
第4図は本発明の一実施例により形成されたバンプの側
面図、第5図は一組のポンチとダイスにより、1ケづつ
バンプを形成する方法を示す断面図、第6図(a)〜(
c)は従来の金型を用いた機械的なプレス成形加工技術
を用いたバンプ形成方法を示す図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)TAB用テープキャリアのインナーリード先端部
    近傍に中空バンプを有し、 該中空バンプは前記インナーリードの表面側が凹状に窪
    み、インナーリードの裏面側に凸状に張り出した構造で
    あり、 さらに、該中空バンプは前記インナーリードの幅方向に
    沿って形成され、そのインナーリード幅方向の両端がイ
    ンナーリードの両側に開口した溝構造としたものである
    ことを特徴とするTABインナーリードのバンプ構造。
  2. (2)TAB用テープキャリアのインナーリード先端部
    近傍にバンプを形成する方法であって、 少なくともインナーリード装着工程と、位置決め工程と
    、プレス工程とを含み、 インナーリード装着工程は、ダイスにTAB用テープキ
    ャリアのインナーリードを装着する工程であり、前記ダ
    イスは、底部の幅が前記インナーリードの幅に等しく、
    かつその上部開口の幅が底部より広幅のテーパ状断面形
    状をもつ複数の配置溝と、各配置溝の底部に形成された
    バンプ溝とを有し、該配置溝はそのテーパ状側面部に前
    記インナーリードを弾接させて粗位置決めするものであ
    り、位置決め工程は、ポンチの凸部の中心が前記ダイス
    のバンプ溝の中心に一致するようにポンチとダイスとを
    位置決めする工程であり、該ポンチはその凸部が前記ダ
    イスのバンプ溝より小さな幅をもち、該凸部の周囲に平
    坦部が形成されたものであり、 プレス工程は、ポンチの凸部及び平坦部により前記イン
    ナーリードをダイスの配置溝底部に向けて圧下してその
    一部をダイスのバンプ溝内に圧入して該インナーリード
    に中空バンプをプレス加工する工程であることを特徴と
    するTABインナーリードのバンプ形成方法。
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