JPH03243785A - electroforming equipment - Google Patents
electroforming equipmentInfo
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- JPH03243785A JPH03243785A JP3838990A JP3838990A JPH03243785A JP H03243785 A JPH03243785 A JP H03243785A JP 3838990 A JP3838990 A JP 3838990A JP 3838990 A JP3838990 A JP 3838990A JP H03243785 A JPH03243785 A JP H03243785A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光カード、光ディスク、光磁気ディスク等の
情報を記録再生する情報記録媒体、ないし該媒体の基板
を複製するための成形用スタンパ−の製造に用いられる
電鋳装置および該電鋳装置に用いられる被電鋳ガラス原
盤の支持装置に関する。Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to an information recording medium for recording and reproducing information such as an optical card, an optical disk, and a magneto-optical disk, or a molding stamper for duplicating the substrate of the medium. The present invention relates to an electroforming device used in the production of - and a supporting device for an electroformed glass master disk used in the electroforming device.
従来、光カード、光ディスク、光磁気ディスク等の情報
を記録再生する情報記録媒体、ないし該媒体の基板(以
後、情報記録媒体等、と称する)の成形用スタンパ−は
、通常、特開昭61−284843号公報や実開昭58
−141435号公報、あるいは「光デイスクプロセス
技術の要点 No、5J (日本工業技術センター)
に記載されている方法等により製造されている。Conventionally, a stamper for molding an information recording medium for recording and reproducing information such as an optical card, an optical disk, or a magneto-optical disk, or a substrate of the medium (hereinafter referred to as an information recording medium, etc.) is usually manufactured by Japanese Patent Laid-Open No. 61 -284843 publication and Utility Model Publication No. 58
-141435, or “Key Points of Optical Disk Process Technology No. 5J (Japan Industrial Technology Center)
It is manufactured by the method described in .
すなわち、第6図の(a)〜(e)に示したように、ガ
ラス基板27の表面にフォトレジスト26を塗布し、そ
のうえに、トラッキング用溝、情報用ビット等の凹凸の
微細パターン26°を形成することによって、ガラス原
盤9を得る。次に上記ガラス原盤9の表面に導電化膜2
8を形成(導電化膜を含むガラス原盤 9゛)した後、
電鋳法により金属膜29を形成させ、導電化膜28およ
び金属膜29を一体としてガラス原盤9より剥離するこ
とにより、情報記録媒体等用スタンパ−(マザースタン
パ−、マスタースタンパ−)30を製造してし)る。That is, as shown in FIGS. 6(a) to (e), a photoresist 26 is coated on the surface of a glass substrate 27, and a fine pattern of 26 degrees of unevenness such as tracking grooves and information bits is formed thereon. By forming, a glass master disk 9 is obtained. Next, a conductive film 2 is applied to the surface of the glass master 9.
After forming 8 (glass master disk containing conductive film 9゛),
A stamper (mother stamper, master stamper) 30 for information recording media, etc. is manufactured by forming a metal film 29 by electroforming and peeling the conductive film 28 and the metal film 29 together from the glass master 9. do).
導電化膜としては、真空中での金属の蒸着、もしくはス
パッタリング等の方法により成膜されるもので、成膜さ
れる金属材料としては、一般的に銀またはニッケルが使
用される。多くの場合、ニッケルが用いられる。トラッ
キング用溝、情報用ビット等の微細凹凸パターン26°
の上に、50〜1100nのニッケル層をスパッタリン
グ法により成膜するのが一般的である。The conductive film is formed by a method such as metal vapor deposition or sputtering in a vacuum, and silver or nickel is generally used as the metal material to be formed. Nickel is often used. 26° fine unevenness pattern for tracking grooves, information bits, etc.
It is common to form a 50 to 1100 nm nickel layer thereon by sputtering.
電鋳工程では一般にスルファミン酸ニッケル電鋳液が使
用され、例えばその液組成としては、スルファミン酸ニ
ッケル・ 4水塩
[Ni (NH2SO3) 2・4)1203 5
00g/氾ホウ酸 [)13BO3] 3
5〜38g#2ビット防止剤 2.5
n+j2 /β蒸留水 残部
スルファミン酸ニッケル電鋳液のpHは、通常3〜5に
調整され、pHの変動は内部歪みを発生させ、スタンパ
−のカーリングを引き起こすため、臭化ニッケル、スル
ファミン酸、苛性ソーダ等の直接添加によって調整され
る。電鋳工程では、その前段階で、スルファミン酸ニッ
ケル電鋳液の有機不純物は、定期的な活性炭処理によっ
て、また金属イオンは電解クリーニングによって偏析さ
せ、除去を図っている。In the electroforming process, a nickel sulfamate electroforming solution is generally used. For example, the liquid composition is nickel sulfamate tetrahydrate [Ni (NH2SO3) 2.4) 1203 5
00g/Flood boric acid [)13BO3] 3
5-38g #2 bit inhibitor 2.5
n+j2/β Distilled water Remainder The pH of the nickel sulfamate electroforming solution is usually adjusted to 3 to 5, and since pH fluctuations cause internal distortion and curling of the stamper, nickel bromide, sulfamic acid, and caustic soda are used. etc. by direct addition. Prior to the electroforming process, organic impurities in the nickel sulfamate electroforming solution are removed by periodic activated carbon treatment, and metal ions are segregated and removed by electrolytic cleaning.
電鋳工程に従来使用されている装置の基本構成を第5図
に示す。ニッケルチップl (球形のものを使用)は、
常時pH3〜5のスルファミン酸ニッケル電鋳液3中に
浸漬されているために、その表面層は酸化され、茶褐色
に変色している。この状態で電鋳を行なうと、酸化層に
至るまで電鋳が行なわれてしまう。FIG. 5 shows the basic configuration of a device conventionally used in the electroforming process. Nickel tip l (use a spherical one),
Since it is constantly immersed in the nickel sulfamate electroforming solution 3 having a pH of 3 to 5, its surface layer is oxidized and discolored to brown. If electroforming is performed in this state, electroforming will be performed up to the oxidized layer.
通常は、この酸化層を除去するために、第5図(a)に
示すように、銅等の導電率の高いダミー電極4を用い、
ニッケルチップ1を陽極、ダミー電極4を陰極として電
解を行ない、−旦ニッケルチップ1上の酸化層を除去す
る。その後、あらためて、第5図(b)に示すように、
導電化処理を施したガラス原盤9°を挿入して、これを
陰極として電鋳を行なう。ダミー電極4を用いることに
より電鋳液の電解クリーニングも同時に行なうことがで
きる。Usually, in order to remove this oxide layer, a dummy electrode 4 made of copper or the like with high conductivity is used, as shown in FIG. 5(a).
Electrolysis is performed using the nickel chip 1 as an anode and the dummy electrode 4 as a cathode to remove the oxide layer on the nickel chip 1. After that, as shown in FIG. 5(b),
A 9° glass master plate that has been subjected to conductivity treatment is inserted, and electroforming is performed using this as a cathode. By using the dummy electrode 4, electrolytic cleaning of the electroforming solution can be performed at the same time.
ダミー電極4とガラス原盤9°の挿入、取り出しは槽の
ふた25を開閉して行なわれる。Insertion and removal of the dummy electrode 4 and the glass master disk 9° are performed by opening and closing the lid 25 of the tank.
電鋳の間、ガラス原盤9°は均一厚さの電鋳膜が得られ
るよう、モーター6により回転させられる。また、電鋳
液は槽外に導かれ、濾過フィルター11を通して循環さ
せることにより、ゴミ、不純物等の除去を行ない、液温
の制御は、電鋳の効率がもっと良い50〜55℃に電鋳
槽2中に設けられた加熱ヒーター10により加温される
。During electroforming, the glass master disk 9° is rotated by the motor 6 so that an electroformed film of uniform thickness is obtained. In addition, the electroforming solution is guided outside the tank and circulated through a filtration filter 11 to remove dust, impurities, etc., and the temperature of the solution is controlled at 50 to 55°C for better electroforming efficiency. It is heated by a heater 10 provided in the tank 2.
このようにして、導電化処理を施したガラス原盤9゛上
にニッケル金属のみの電鋳膜を形成することができる。In this way, an electroformed film of only nickel metal can be formed on the glass master disk 9 which has been subjected to conductivity treatment.
(発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記従来例では以下のような欠点を有し
ていた。(Problems to be Solved by the Invention) However, the above conventional example had the following drawbacks.
l)加熱状態での通電のため、電鋳工程中に電鋳液の水
分が蒸発し、おおむねlOサイクル毎に電鋳槽容量の4
〜6%の純水を添加する必要がある。l) Because the current is applied in a heated state, water in the electroforming solution evaporates during the electroforming process, and approximately 40% of the electroforming tank capacity is removed every 1O cycle.
~6% pure water needs to be added.
2)加熱状態でガラス原盤を回転させるため、飛沫が飛
びやすく、また、飛散した液の乾燥も早いため、液組成
物やその反応生成物が槽内空間部分および電鋳槽周辺に
汚れとなって固着しやすい。2) Since the glass master disk is rotated in a heated state, it is easy for droplets to fly, and the splashed liquid dries quickly, so the liquid composition and its reaction products can stain the inner space of the tank and the area around the electroforming tank. It is easy to stick.
3)上記l)、2)により液量・液組成やpHが変化す
るために、その調整を目的として、電鋳液組成物単体の
適当量を適宜直接添加しなければならない。3) Since the liquid amount, liquid composition, and pH change due to the above 1) and 2), an appropriate amount of the electroforming liquid composition alone must be directly added as appropriate for the purpose of adjustment.
4)電鋳槽内の電鋳液上部の空間にミストが溜り、モー
ターの回転軸の導電体部分に悪影響を与える。4) Mist accumulates in the space above the electroforming solution in the electroforming tank, which adversely affects the conductor portion of the rotating shaft of the motor.
[課題を解決するための手段]
本発明は、従来の電鋳装置のこのような欠点に鑑みなさ
れたもので、すなわち本発明は、槽内に電鋳液を密閉保
持して電鋳を行なう電鋳装置であって、濾過フィルター
、該濾過フィルターを経由して電鋳液を循環させるポン
プ、および電鋳波調!!!檜とを備え、着脱自在の被電
鋳ガラス原盤支持装置を設けたことを特徴とする密閉式
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。[Means for Solving the Problems] The present invention was made in view of the above-mentioned drawbacks of conventional electroforming devices. Specifically, the present invention performs electroforming by keeping an electroforming liquid in a tank in a hermetically sealed state. An electroforming device that includes a filtration filter, a pump that circulates the electroforming liquid through the filtration filter, and an electroforming wave! ! ! The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施態様にょる電鋳装置の断面図、
第2図は同電鋳装置に用いられる被電鋳ガラス原盤支持
装置の斜視図である。また、第3図および第4図はそれ
ぞれ、本発明の他の実施態様による電鋳装置の断面図、
同電鋳装置に用いられる被電鋳ガラス原盤支持装置の斜
視図である。FIG. 1 is a sectional view of an electroforming device according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a perspective view of an electroformed glass master support device used in the electroforming apparatus. Further, FIGS. 3 and 4 are sectional views of electroforming equipment according to other embodiments of the present invention, respectively,
FIG. 2 is a perspective view of an electroformed glass master support device used in the electroforming apparatus.
第1図および第3図において、3はニッケル金属を析出
させて電鋳を行なうためのスルファミン酸ニッケル電鋳
液、2はスルファミン酸ニッケル電鋳液を収容するため
の電鋳槽、11は電鋳槽内のスルファミン酸ニッケル電
鋳液を循環させて、ごみ、不純物等を除去する濾過フィ
ルター 1は導電化処理されたガラス原盤に金属膜を形
成させるためのニッケルチップ、10は液温を調節する
ための加熱ヒーターである。In FIGS. 1 and 3, 3 is a nickel sulfamate electroforming solution for precipitating nickel metal and performing electroforming, 2 is an electroforming tank for containing the nickel sulfamate electroforming solution, and 11 is an electroforming tank. A filtration filter that circulates the nickel sulfamate electroforming solution in the casting tank and removes dust, impurities, etc. 1 is a nickel chip for forming a metal film on a conductive glass master disk, 10 is for adjusting the temperature of the liquid This is a heater for heating.
第1図において、12は電鋳液の液組成を制御するとき
にあらかじめ電鋳液組成物の所要量を加えて電鋳槽内の
電鋳液と速やかに混合することを可能にする電鋳液調整
槽、13は該調整槽から濾過フィルターへ電鋳液または
調整液を送り込むための加圧ポンプPI、14は電鋳槽
から電鋳液および電鋳槽上部に蓄積されるガスを液調整
槽に送り込むための加圧ポンプP2である。In Fig. 1, reference numeral 12 indicates an electroforming system that enables adding a required amount of electroforming liquid composition in advance and quickly mixing it with the electroforming liquid in the electroforming tank when controlling the liquid composition of the electroforming liquid. A liquid adjustment tank, 13 is a pressure pump PI for sending the electroforming liquid or adjustment liquid from the adjustment tank to the filtration filter, 14 is a liquid adjustment tank for controlling the electroforming liquid from the electroforming tank and the gas accumulated in the upper part of the electroforming tank. This is a pressurizing pump P2 for feeding into the tank.
まず、第1図の電鋳装置において、電鋳槽2内部はスル
ファミン酸ニッケル電鋳液3で満たされている。電鋳槽
上部には被電鋳ガラス原盤支持装置を挿入させるための
開口部が設けられており、ここに、第2図に示す構成の
被電鋳ガラス原盤支持装置を挿入する。First, in the electroforming apparatus shown in FIG. 1, the inside of an electroforming tank 2 is filled with a nickel sulfamate electroforming solution 3. An opening for inserting an electroformed glass master supporting device is provided in the upper part of the electroforming tank, into which the electroformed glass master supporting device having the configuration shown in FIG. 2 is inserted.
第1図の装置に用いられる被電鋳ガラス原盤支持装置5
は、トラッキング用溝や情報用ビット等の凹凸の微細パ
ターンの施されたガラス原盤9に導電化膜を形成したガ
ラス原盤9°を保持するホルダー8、このホルダーごと
ガラス原盤9°を回転させるためのモーター6、該モー
ター6の回転をホルダーに伝達するためのシャフト7と
からなるサブユニットと、該サブユニットの電鋳槽への
着脱時および電鋳工程の実行時にサブユニットを所望の
位置にセットするための可動部15、該可動部の動きに
対応して変形可能でありサブユニットが電鋳槽に装着さ
れている間、実質的に電鋳槽と外界とを遮断するフレキ
シブルハツチ16、および電鋳液からモーター6本体を
保護するためのシール材料17等から構成される。Electroformed glass master support device 5 used in the device shown in Fig. 1
is a holder 8 for holding a glass master disk 9 degrees formed by forming a conductive film on a glass master disk 9 having a fine pattern of irregularities such as tracking grooves and information bits, and for rotating the glass master disk 9 degrees together with this holder. A subunit consisting of a motor 6, a shaft 7 for transmitting the rotation of the motor 6 to the holder, and a subunit that is positioned at a desired position when the subunit is attached to and removed from the electroforming tank and when performing the electroforming process. a movable part 15 for setting, a flexible hatch 16 that is deformable in response to the movement of the movable part and substantially blocks the electroforming tank from the outside world while the subunit is attached to the electroforming tank; and a sealing material 17 for protecting the main body of the motor 6 from electroforming liquid.
導電化膜を形成したガラス原盤9′を被電鋳ガラス原盤
支持装置5のホルダー8に装着して、電鋳装置本体2の
上部に必要最小限に開けられた穴より挿入する。該穴に
上記ホルダーユニットに設けられたフレキシブルハツチ
16で蓋をして、外部雰囲気と電鋳槽内部とを遮断する
0次いで、上記ガラス原盤9°を可動部15を中心とし
て回転移動させ、電鋳工程に最適の位置に固定する。こ
の移動の間、および電鋳構成の位置に原盤9°がセット
されている間を通じて、前記ハツチ16が変形しつつ電
鋳槽の内外を遮断し続ける。前記ハツチ16の材質とし
ては、電鋳液と反応せず、上記回転移動において所望の
変形を達成できる形状および該変形を繰り返しても劣化
しない材料が望まれ、例えば、耐薬品性に優れたパイト
ン(商品名)製のベローズをなどを使用することができ
る。The glass master disk 9' on which the conductive film has been formed is mounted on the holder 8 of the electroforming glass master support device 5, and inserted through the minimum necessary hole drilled in the upper part of the electroforming apparatus main body 2. The hole is covered with a flexible hatch 16 provided on the holder unit to shut off the outside atmosphere and the inside of the electroforming tank.Next, the glass master disk is rotated by 9 degrees around the movable part 15, and the electroforming tank is heated. Fix it in the optimal position for the casting process. During this movement and while the master plate 9° is set at the electroforming configuration position, the hatch 16 continues to deform and shut off the inside and outside of the electroforming tank. The material for the hatch 16 is desirably a material that does not react with the electroforming solution, has a shape that can achieve the desired deformation during the rotational movement, and does not deteriorate even if the deformation is repeated, such as Piton, which has excellent chemical resistance. (Product name) bellows etc. can be used.
この構成においては、電鋳液が外部の雰囲気と遮断され
、また、電鋳液上部にも空間が形成されないため、従来
の装置に比べ、液の蒸発による電鋳液の組成変化が著し
く抑制され、液組成が極めて安定する。このため、形成
される金属膜の特性が向上し、スタンバ−の品質も向上
する効果を有するものである。In this configuration, the electroforming solution is isolated from the outside atmosphere and no space is formed above the electroforming solution, so changes in the composition of the electroforming solution due to evaporation of the solution are significantly suppressed compared to conventional devices. , the liquid composition is extremely stable. This has the effect of improving the characteristics of the metal film formed and improving the quality of the stand bar.
上記のような構造および機能を有する被電鋳ガラス原盤
支持装置は、電鋳槽に設けられる開口部および被電鋳ガ
ラス原盤支持装置に設けられるフレキシブルハツチの大
きさを変えることにより様様な大きさのガラス原盤に対
応可能であるが、特に5.25インチ以下の光記録媒体
、とりわけ、3.5インチ以下の光ディスクや光カード
の成形用スタンバ−の製造に最適である。The electroformed glass master support device having the structure and function described above can be made into various sizes by changing the size of the opening provided in the electroforming tank and the flexible hatch provided in the electroformed glass master support device. The present invention is suitable for manufacturing optical recording media of 5.25 inches or less, especially stub bars for molding optical disks and optical cards of 3.5 inches or less.
一方、電鋳液の組成、pH1液温度等は、電鋳槽2とは
別に設けられた液調整槽12において行なわれる。本発
明においては電鋳液の蒸発を極力抑制する構造となって
いるために、液組成の調整はその頻度が極力少なく押え
られ、少なくとも20サイクル以上は液組成物の添加を
必要とせず、従来の電鋳装置に比較して、液調整の回数
が極めて少なく、装置の稼動率が向上するものである。On the other hand, the composition of the electroforming liquid, the pH 1 liquid temperature, etc. are determined in a liquid adjustment tank 12 provided separately from the electroforming tank 2. Since the present invention has a structure that suppresses evaporation of the electroforming solution as much as possible, the frequency of adjustment of the solution composition can be kept as low as possible, and the addition of the solution composition is not required for at least 20 cycles. Compared to the electroforming equipment described above, the number of times of liquid adjustment is extremely small, and the operating rate of the equipment is improved.
本発明の他の実施態様を示す第3図において、その最も
特徴とするところは、電鋳槽2の上部に突き出す形で前
室18を設けたことである。この前室18は第1図に示
す装置における液調整槽の役割を果し、この前室18に
対して被電鋳ガラス原盤支持装置が挿入される0本装置
における液循環は、前記前室および電鋳槽本体2から濾
過フィルター11ヘバルブ19を介してその流れを制御
して行なわれる。本装置に使用される被電鋳ガラス原盤
支持装置5°としては、第4図(a)に示すように、第
2図と同様のサブユニットと、該被電鋳ガラス原盤支持
装置5°を前記前室18にセットしたときに、実質的に
同前室の天井部および底部を形成する遮断板20および
21.上記遮断板20および21に設けられ、必要に応
じ開閉できるシャッター22および23、および該被電
鋳ガラス原盤支持装置5゛を前室に固定するためのフラ
ンジ24等から構成される。In FIG. 3 showing another embodiment of the present invention, the most distinctive feature is that a front chamber 18 is provided in a manner that projects from the upper part of the electroforming tank 2. This front chamber 18 plays the role of a liquid adjustment tank in the apparatus shown in FIG. The flow is controlled from the electroforming tank body 2 to the filtration filter 11 via the valve 19. As shown in FIG. 4(a), the electroformed glass master support device 5° used in this device includes a subunit similar to that shown in FIG. 2, and the electroformed glass master support device 5°. Shielding plates 20 and 21 which, when set in the front chamber 18, substantially form the ceiling and bottom of the front chamber. It is comprised of shutters 22 and 23 that are provided on the shielding plates 20 and 21 and can be opened and closed as necessary, and a flange 24 for fixing the electroformed glass master support device 5' to the front chamber.
本実施態様においても、電鋳液の蒸発を極力抑えること
が可能であり、液組成の調整はほとんど不要である。Also in this embodiment, it is possible to suppress evaporation of the electroforming liquid as much as possible, and adjustment of the liquid composition is almost unnecessary.
遮断板20および21に設けられたシャッター22およ
び23は、被電鋳ガラス原盤支持装置5°の着脱時、電
鋳液の循環時には開状態とすることによって、不要な流
れや、圧力過剰な状態の発生を防止出来、これらによっ
て、前室や電鋳槽本体から圧力抜き機構等を省略するこ
とが出来、外部雰囲気に触れる機会をさらに減らすこと
ができる。The shutters 22 and 23 provided on the shielding plates 20 and 21 are opened when the electroformed glass master supporting device 5° is attached and removed, and when the electroforming liquid is circulated, thereby preventing unnecessary flow and excessive pressure. As a result, it is possible to omit a pressure release mechanism from the front chamber and the electroforming tank body, and the chances of contact with the external atmosphere can be further reduced.
被電鋳ガラス原盤支持装置5°の遮断板およびシャッタ
ーの材質としては、電鋳液と反応せず、上記前室への着
脱時のおいて密閉性を保持しつつ、該前室の内壁を滑る
ことが必要である。形状が単純であるため、材質の自由
度は大きく、耐薬品性に優れたものであれば、無機・金
属材料、有機・高分子材料を問わず、広く選択できる。The material of the 5° blocking plate and shutter of the electroformed glass master support device does not react with the electroforming liquid, maintains airtightness when attached to and removed from the front chamber, and protects the inner wall of the front chamber. It is necessary to slide. Since the shape is simple, there is a large degree of freedom in selecting the material, and as long as it has excellent chemical resistance, it can be selected from a wide range of materials, including inorganic/metallic materials and organic/polymeric materials.
また、構造機能と前室内壁の摺動機能とを分離し、別々
の材質で複合化した構成としてもよい、−例としては、
高品質のステンレス鋼で形成した骨格を、耐薬品性に優
れたパイトン(商品名)などの樹脂材でコートしたもの
などが好適である。Alternatively, the structural function and the sliding function of the front interior wall may be separated and combined using different materials. For example,
A suitable material is one in which a skeleton made of high-quality stainless steel is coated with a resin material such as Pyton (trade name), which has excellent chemical resistance.
本実施態様における前室の開口部の形状および口径は、
電鋳槽の上部に設けられるという設計上の制約範囲であ
れば自由に設定できるが、従来例における電鋳槽の上蓋
(例えば、第5図−25)に比べて、実質的に小さけれ
ば効果が高い、この構成の電鋳装置によって、電鋳可能
なガラス原盤の大きさも、上記前室の口径に依存するが
、直径5.25インチ以下のディスク状媒体やカード状
媒体の成形用スタンパ−が作製可能である。更に、前室
の開口部の形状によっては、異形のスタンR−も製造す
ることが可能である。また第4図(b)に示すように、
ホルダ一部8をシャフト7に対して、回転軸15°のま
わりに首振り可能な構成とすることによって、開口部の
形状や大きさに制約されないガラス原盤の電鋳が可能と
なる。例えば、ディスク状媒体を2枚同時に成型し得る
スタンパ−(2個取りスタンパ−)を−度の電鋳工程で
、しかも継ぎ目なしに作製することができる。The shape and diameter of the opening of the front chamber in this embodiment are as follows:
It can be set freely as long as it is within the design constraints of being installed on the top of the electroforming tank, but it will not be effective if it is substantially smaller than the top lid of the electroforming tank in the conventional example (for example, Fig. 5-25). The size of the glass master disk that can be electroformed using the electroforming apparatus with this configuration, which has a high can be produced. Furthermore, depending on the shape of the opening of the front chamber, it is also possible to manufacture an irregularly shaped stun R-. Also, as shown in Figure 4(b),
By configuring the holder part 8 to be swingable around the rotation axis of 15 degrees with respect to the shaft 7, it is possible to electroform a glass master without being restricted by the shape or size of the opening. For example, a stamper (two-cavity stamper) capable of molding two disc-shaped media at the same time can be produced seamlessly using a single electroforming process.
上記のように、電鋳槽上部に前室を設けることにより、
電鋳槽外部に液調整槽を設ける必要がなく、第1図の実
施態様に比べ、さらに省スペース性の効果の高い装置と
することができる。As mentioned above, by providing a front chamber at the top of the electroforming tank,
There is no need to provide a liquid adjustment tank outside the electroforming tank, and the apparatus can be more space-saving than the embodiment shown in FIG.
[実施例] 以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。[Example] Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
実施例1
第1図に示す構成の電鋳装置により光ディスク用スタン
パ−を作製した。Example 1 An optical disk stamper was produced using an electroforming apparatus having the configuration shown in FIG.
容量100ffの電鋳槽に下記組成になる電鋳液を電鋳
槽開口部下まで満たした。An electroforming tank with a capacity of 100 ff was filled with an electroforming solution having the following composition up to the bottom of the opening of the electroforming tank.
スルファミン酸ニッケル・ 4水塩
[Ni (N)ltsOs)2 ・4H,0ノ
500g#2ホウ酸 [83BO3]
35〜38g/氾ビット防止剤
2.5nl / 1次に、第2図に示す構成の
被電鋳ガラス原盤支持装置5にあらかじめ導電化膜を形
成した直径35cmのガラス原盤9′をセットし、電鋳
槽の開口部より挿入して、フレキシブルハツチ16を開
口部に固定して、液漏れのないように密封する。さらに
液調整槽12から上記電鋳液を追加し、電鋳槽内部を電
鋳液で満たす。この時電鋳液のpHを3〜5の間に調整
する。Nickel sulfamate tetrahydrate [Ni (N)ltsOs)2 4H,0 no
500g #2 boric acid [83BO3]
35-38g/Flood bit inhibitor
2.5nl / 1 Next, a glass master plate 9' with a diameter of 35 cm on which a conductive film has been formed in advance is set on the electroformed glass master support device 5 having the configuration shown in Fig. 2, and inserted through the opening of the electroforming tank. Then, the flexible hatch 16 is fixed in the opening and sealed to prevent liquid leakage. Further, the electroforming liquid is added from the liquid adjustment tank 12 to fill the inside of the electroforming tank with the electroforming liquid. At this time, the pH of the electroforming solution is adjusted to between 3 and 5.
以上のようにセットした後、IOVの直流電圧をニッケ
ルチップをプラス、ガラス原盤をマイナスとなるように
印加する。電鋳液の循環はポンプPlおよびP2により
5〜104/分で行ない、モーター6を30rpmの速
度で回転させながら、4時間電鋳を行なうことにより、
厚さ200μmのニッケル膜をガラス原盤上に堆積させ
た。なお、液温は55℃に設定して行なった。ガラス原
盤よりニッケル膜を剥離することにより性能の優れたニ
ッケルスタンバ−が得られた。After setting as above, apply the IOV DC voltage so that the nickel chip is positive and the glass master is negative. The electroforming solution was circulated at a rate of 5 to 104/min using pumps Pl and P2, and electroforming was performed for 4 hours while rotating the motor 6 at a speed of 30 rpm.
A 200 μm thick nickel film was deposited on a glass master. Note that the liquid temperature was set at 55°C. A nickel stump bar with excellent performance was obtained by peeling off the nickel film from the glass master disk.
同様にして、液調整を行なうことなく20回電鋳を行な
ったが、得られたスタンパ−は、どのスタンパ−も1回
目のものと差のないものであった。Electroforming was performed 20 times in the same manner without adjusting the liquid, but all of the stampers obtained were the same as those of the first stamper.
実施例2
電鋳装置として第3図に示す容量100℃の構成のもの
を使用した。同装置に実施例1と同じ電鋳液を前室の配
管上部まで満たし、第4図(a)に示す構成の被電鋳ガ
ラス原盤支持装置5°にあらかじめ導電化膜を形成した
直径35cmのガラス原盤9゛をセットし、前室より電
鋳槽内に挿入した。Example 2 An electroforming device having a capacity of 100° C. as shown in FIG. 3 was used. The same apparatus was filled with the same electroforming solution as in Example 1 up to the top of the piping in the front chamber, and a 35 cm diameter plate with a conductive film pre-formed at 5 degrees of the electroformed glass master support device having the configuration shown in Fig. 4(a) was prepared. A glass master disk 9゛ was set and inserted into the electroforming tank from the front chamber.
この時、遮断板20および21に設けられたシャッター
22および23を開けた状態でゆっくりと挿入した。At this time, the shutters 22 and 23 provided on the shielding plates 20 and 21 were opened and slowly inserted.
以上のようにセットした後、シャッター22および23
を閉じ、IOVの直流電圧をニッケルチップをプラス、
ガラス原盤をマイナスとなるように印加する。電鋳液の
循環はポンプP1およびP2により5〜104/分で行
ない、モーター6を30rpmの速度で回転させながら
、4時間電鋳を行なうことにより、厚さ200μ鳳のニ
ッケル膜がガラス原盤上に堆積させられた。なお、液温
は55℃に設定して行なった。ガラス原盤よりニッケル
膜を剥離することにより性能の優れたニッケルスタンパ
−が得られた。After setting as above, shutters 22 and 23
Close the IOV DC voltage plus the nickel tip,
Apply voltage to the glass master so that it becomes negative. The electroforming solution is circulated at a rate of 5 to 104/min by pumps P1 and P2, and electroforming is carried out for 4 hours while rotating the motor 6 at a speed of 30 rpm, so that a nickel film with a thickness of 200 μm is formed on the glass master disk. was deposited in Note that the liquid temperature was set at 55°C. A nickel stamper with excellent performance was obtained by peeling off the nickel film from the glass master.
同様にして、液調整を行なうことなく20回電鋳を行な
ったが、得られたスタンパ−は、どのスタンパ−も1回
目のものと差のないものであった。Electroforming was performed 20 times in the same manner without adjusting the liquid, but all of the stampers obtained were the same as those of the first stamper.
以上説明したように、本発明の装置によれば、電鋳液と
外気との接触を最小限にすることができ、液の蒸発が抑
制され、純水や電鋳液組成物の補給頻度が著しく減少し
、電鋳槽内部や周辺部の汚れが減り、作業上安全であり
、また、液調整時も、電鋳液組成物を調整液として補給
できるため、濃度均一化までの時間が短縮され、液組成
が安定化するために、形成される金属膜の品質が良好と
なり、高品質のスタンパ−を製造することが可能となる
ものである。As explained above, according to the apparatus of the present invention, contact between the electroforming liquid and the outside air can be minimized, evaporation of the liquid is suppressed, and the frequency of replenishment of pure water and electroforming liquid composition is reduced. This significantly reduces the amount of dirt inside and around the electroforming tank, making it safer to work with.Also, when adjusting the liquid, the electroforming liquid composition can be replenished as the adjustment liquid, reducing the time it takes to equalize the concentration. Since the liquid composition is stabilized, the quality of the metal film formed is good, and it becomes possible to manufacture a high quality stamper.
第1図は本発明の一実施態様による電鋳装置の断面図、
第2図は同電鋳装置に用いられる−被電鋳ガラス原盤支
持装置の斜視図である。また、第3図および第4図はそ
れぞれ、本発明の他の実施態様による電鋳装置の断面図
、同電鋳装置に用いられる被電鋳ガラス原盤支持装置の
斜視図、第5図は従来の電鋳装置の典型的な態様を示す
断面図、第6図は、情報記録媒体等成形用スタンパ−の
製造方法を示す一般的な電鋳法の工程図である。
1・・・ニッケルチップ 2・・・電鋳槽本体3・・・
電鋳液
5・・・被電鋳ガラス原盤支持装置
6・・・モーター 7・・・シャフト8・・・ホ
ルダー 9・・・ガラス原盤10・・・ヒーター
11・・・濾過フィルター12・・・液調整槽
13.14・・・ポンプ15・・・可動部
16・・・フレキシブルハツチ18・・・前室FIG. 1 is a sectional view of an electroforming device according to an embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a perspective view of an electroformed glass master support device used in the electroforming apparatus. 3 and 4 are respectively a sectional view of an electroforming apparatus according to another embodiment of the present invention, a perspective view of an electroformed glass master support device used in the electroforming apparatus, and FIG. 5 is a conventional FIG. 6 is a cross-sectional view showing a typical aspect of the electroforming apparatus of FIG. 1... Nickel chip 2... Electroforming tank body 3...
Electroforming liquid 5...Electroformed glass master support device 6...Motor 7...Shaft 8...Holder 9...Glass master 10...Heater 11...Filtration filter 12... Liquid adjustment tank 13.14...Pump 15...Movable part
16... Flexible hatch 18... Front chamber
Claims (1)
であって、濾過フィルター、該濾過フィルターを経由し
て電鋳液を循環させるポンプ、および電鋳液調整槽とを
備え、着脱自在の被電鋳ガラス原盤支持装置を設けたこ
とを特徴とする密閉式電鋳装置。 2、請求項1記載の構成にさらにガス抜きのためのポン
プと、前記被電鋳ガラス原盤支持装置のための開口部を
電鋳装置上部に設けたことを特徴とする請求項1記載の
電鋳装置 3、前記被電鋳ガラス原盤支持装置が、少なくとも被電
鋳ガラス原盤を保持するホルダー、該ホルダーを回転さ
せるためのモーター、ホルダーにモーターの回転を伝え
るシャフトからなるサブユニットと、該サブユニットに
固定され、該サブユニットを電鋳槽本体に稼動可能に接
続する部材と、電鋳槽の密閉を保持するための可撓性の
フレキシブルハッチとを備えることを特徴とする請求項
2記載の電鋳装置。 4、電鋳液調整槽が、電鋳槽本体上部から突き出した前
室であることを特徴とする請求項1記載の電鋳装置。 5、被電鋳ガラス原盤支持装置が、前記サブユニットと
、該サブユニットに固定され、該サブユニットを電鋳槽
本体に接続する部材と、電鋳槽の密閉を保持し、電鋳装
置の前室を構成する遮断板とを備えたことを特徴とする
請求項4記載の電鋳装置。[Scope of Claims] 1. An electroforming device that performs electroforming by keeping an electroforming liquid in a tank hermetically, which comprises a filtration filter, a pump that circulates the electroforming liquid through the filtration filter, and an electroforming device. 1. A closed type electroforming device comprising a casting liquid adjustment tank and a removable electroformed glass master supporting device. 2. The electroforming apparatus according to claim 1, further comprising a pump for degassing and an opening for the electroformed glass master support device in the upper part of the electroforming apparatus. The casting device 3, the electroformed glass master support device includes a subunit consisting of at least a holder for holding the electroformed glass master, a motor for rotating the holder, a shaft for transmitting the rotation of the motor to the holder, and the subunit. 3. The electroforming tank according to claim 2, further comprising a member fixed to the unit and operatively connecting the subunit to the electroforming tank body, and a flexible hatch for keeping the electroforming tank sealed. electroforming equipment. 4. The electroforming apparatus according to claim 1, wherein the electroforming liquid adjustment tank is a front chamber protruding from the upper part of the electroforming tank main body. 5. An electroformed glass master support device includes the subunit, a member fixed to the subunit and connecting the subunit to the electroforming tank body, and a member that maintains the electroforming tank hermetically and supports the electroforming equipment. 5. The electroforming apparatus according to claim 4, further comprising a blocking plate constituting a front chamber.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3838990A JPH03243785A (en) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | electroforming equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3838990A JPH03243785A (en) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | electroforming equipment |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03243785A true JPH03243785A (en) | 1991-10-30 |
Family
ID=12523928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3838990A Pending JPH03243785A (en) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | electroforming equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03243785A (en) |
-
1990
- 1990-02-21 JP JP3838990A patent/JPH03243785A/en active Pending
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