JPH03243920A - 液晶電気光学装置 - Google Patents

液晶電気光学装置

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JPH03243920A
JPH03243920A JP4194490A JP4194490A JPH03243920A JP H03243920 A JPH03243920 A JP H03243920A JP 4194490 A JP4194490 A JP 4194490A JP 4194490 A JP4194490 A JP 4194490A JP H03243920 A JPH03243920 A JP H03243920A
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JP
Japan
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liquid crystal
optical device
state
crystal electro
electro
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JP4194490A
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English (en)
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Yuzuru Sato
譲 佐藤
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は液晶電気光学装置に関し、特に強誘電性液晶電
気光学装置に関する。
[従来の技術] 強誘電性液晶はよく知られているように自発分極を持っ
ている。分子軸n (21)と自発分極P (22)の
関係は図2に示されているように互いに直交している。
nはZ軸に対して常にθ傾いており、Pとxy面とは平
行である。nのxy面への投影をC(23)、CとX軸
とのなす角(方位角)をφで表わす。液晶層を支持する
基板面はxz面内にあり、nとXZ面の成す角度θ。(
プレティルト〉は液晶分子と基板面(配向膜)との相互
作用によって決まる。水平配向処理を施せばθ、斗o’
である。
外場を受けていなければ、基板面から十分前れたところ
ではφは2とともに増加または減少し、らせん構造を形
成する。しかし、液晶層厚がある程度薄くなれば、液晶
層を支持している基板のアンカリング効果のためにらせ
んが解けて、図3(a)、  (b)に示したようなツ
イスト状態となる。ただし、ここでは上下基板(12)
ともPの負側を引きつける性質を持っており、スメクチ
ック層は基板面(XZ面)に対して垂直であるものとす
る。液晶層厚をさらに薄くすればツイスト状態の弾性エ
ネルギーが大きくなるため、図3(c)。
(d)に示したようなユニフォーム状態となる。
一般的には、ある条件の液晶電気光学装置において、無
電界時には二つの状態のみが安定に存在でき、双安定性
(記憶効果)が得られる。その二つの状態とは、二つの
ツイスト状態または二つのユニフォーム状態である。そ
して、二つのツイスト状態間、または二つのユニフォー
ム状態量テスイッチングを行うことができる。
[発明が解決しようとする課題] 二つのユニフォーム状態間のスイッチングを利用すれば
、完全な消光位が得られるために高コントラスト比と高
透過率を両立することができる。
しかし、オン(オフ)状態のまま数日間放置しておくと
オフ〈オン)状態がオン(オフ)状態よりも不安定にな
り、しばしば双安定性が消失して正常に表示できなくな
る。
双安定性が消失する原因として、液晶中の不純物イオン
の偏在が考えられている。第4図にそのモデルを示す。
ここで、初期状態(第4図(a))では正イオン(41
)、負イオン(42)ともランダムに分布しており、す
べての液晶分子の方位角はφ=0(すべてのPは上向き
二 オフ状態)になっているものとする、ところが、液
晶層と配向膜との上下界面には、それぞれ密度P(C7
m)の正の表面電荷(43)と負の表面電荷(44)が
発生しているため、液晶内部には図示したように下向き
の内部電場E+(45)が発生している。そのため、こ
の状態で長時間放置しておくと、第4図(b)に示した
ように内部電場によって正(負)のイオンは下(上)向
きに移動し、下(上)基板と液晶層との界面に蓄積され
る。その後、第4図(C)に示したようにオン状態(P
は下向き)に反転させれば、界面に蓄積されたイオンと
表面電荷によって上向きの内部電場E2(>El:  
イオンの量が十分ならばE2=2EI)が発生するため
、オン状態のエネルギーは初期のオフ状態のそれよりも
高くなる。そして、もし内部電場が充分大きければオン
状態はオフ状態に反転してしまい、双安定性が失われて
表示が不可能になる。
一方、二つのツイスト状態を用いた場合、第5図に示し
たように上下の界面に現われる表面電荷の符号は共に等
しいため、ユニフォーム状態の場合と違って、上下界面
に異なる符号のイオンが偏ることはない。そのため、イ
オンはほとんど双安定性に影響を与えない、しかし、ツ
イスト状態では完全な消光位が得られないために、高コ
ントラスト比と高透過率を両立することはできない。
本発明は上記の課題を解決し、長期間にわたって高コン
トラスト比と高透過率を同時に得ることができる、信頼
性の高い液晶電気光学装置を提供することである。
[課題を解決するための手段] 本発明は電極および前記電極上に配向膜を形成した二枚
の基板A1、  A2の間に強誘電性液晶を挟持した素
子において、 斜方蒸着法によって形成した無機質膜、あるいはラビン
グ処理を施した高分子膜を前記配向膜として用い、 前記強誘電性液晶のカイラルネマチック相またはスメク
チックA相において、前記二枚の基板A1、  A2と
接している液晶分子長軸n1、n2の前記基板面A1、
  A2への投影が互いにほぼ平行であり、また、前記
液晶分子長軸na、n2がそれぞれ前記基板面A1、 
 A2との間に角度θl、  6.2(≠0)をなし、
かつ、前記液晶分子長軸n1、n2が互いに角度α=I
θ。11+lθ、21をなすように前記二枚の基板を組
み合わせることによって、二つのユニフォーム状態と少
なくとも一つのツイスト状態を安定に存在せしめて、使
用時以外は配向をツイスト状態にしておくことを特徴と
する。
[実施例] (実施例1) 本発明で用いた液晶電気光学装置の略断面図を図1に示
す。11は偏光板、12はガラス基板、13は透明電極
、14は絶縁層(SiO2)、15はカラム状の配向膜
(5in)、■6は液晶層、17.18はガラス基板と
接している液晶分子のスメクチックA相における長軸方
向(n1、  n2)、19.20はn1、n2がそれ
ぞれ接しているガラス基板とのなす角度 θ。hθ。2
である。絶縁層の厚さは500人、SiO膜の厚さは1
000人である。
SiO膜は基板法線に対して85度の角度から斜方蒸着
することによって形成したため、図示したようなカラム
状になっている。また、カラムの傾斜方向については、
図示したように上下基板ともZ軸の負方向となるように
基板を重ね合わせた。液晶層厚は2μmである。
このようにして作成した液晶電気光学装置に強誘電性液
晶(チッソ社製CS −1011)を封入し、等方相温
度からスメクチックA相まで2°C/分の速度で降温す
ることによって良好な配向を得た。
スメクチックA相における配向状態は、X線回折法によ
って求めたスメクチック層の傾き角より、−Z方向ヲx
 準ニt iばe 、+ ”= 32” 、 e −a
”= −32”であり、図示したようにn1、n2は互
いに64°の角(=lθ、11+1θ。21)をなして
いると推定される。
図6に25°Cにおけるしきい値特性を示す。この測定
には図7に示した電圧波形を印加し、Vflに対するエ
イと■、の変化を測定した。透過率については、偏光板
の透過光強度を基準とした。透過率が0%の状態と90
%の状態はそれぞれ図3(c)。
(d)に示したユニフォーム状態であり、透過率が25
%の状態は図3(a)または(b)のツイスト状態であ
る。図6かられかるように、V8を十分高くすればIm
: Ipとなり、はぼ完全な記憶効果が得られている。
また、v[!を調節することによってこれら3つの状態
のいずれかを選択することができる。
図8に示したマルチプレックス駆動波形によって、この
液晶電気光学装置をデユーティ比1/1000で駆動し
た。V 1::4 v、  V2: 8 v、  V3
= IOV。
V4=−18vとして、二つのユニフォーム状態間でス
イッチングを行なうことによって、オンの透過率80%
、コントラスト比1:20が得られた。
また、ツイスト状態で6ケ月放置した後、再び同一条件
で駆動したところ、表示特性に劣化は認められなかった
。比較例として、透過率0%のユニフォーム状態(オフ
状態)で−週間放置した後、再び同一条件で駆動したと
ころ、オン状態の透過率は、デユーティ比1/200で
は60%、デユーティ比1/400では30%となった
。これは、既に述べたようにイオンの影響によってオン
状態の安定性が低下し、パルス電圧に対するオン状態の
透過率が図9に示すように時間とともに低下して記憶効
果が不完全になるためである。いったんこのような状況
になれば、駆動電圧を変化させても初期の特性を再現す
ることはできない。
(実施例2) 本実施例では配向膜として厚さ500AのTiO2を用
いた。蒸着角度などは実施例1と同様である。この場合
も二つのユニフォーム状態と一つのツイスト状態が得ら
れ、図6とほぼ同様なしきい値特性が得られた。
図8に示したマルチプレックス駆動波形によって、この
液晶電気光学装置を171000のデユーティ比で駆動
した。V+:4.5v、V2: 9 v、  V3: 
10V、V t = −19vとすることによってオン
の透過率80%、コントラスト比1:18が得られた。
また、ツイスト状態で6ケ月放置した後、再び同一条件
で駆動したところ、表示特性に劣化は認められなかった
。比較例として、透過率O%のユニフォーム状態(オフ
状態〉で−週間放置した後、再び同一条件で駆動したと
ころ、オンの透過率は、デユーティ比1/200では5
5%、デユーティ比1/400では30%となった。さ
らに駆動電圧を変化させて初期の特性を再現しようと試
みたが、はとんど改善されなかった。
(実施例3〉 本実施例では配向膜として厚さ1500人のSiO2を
用いた。蒸着角度などは実施例1と同様である。
この場合も二つのユニフォーム状態と一つのツイスト状
態が得られ、図6とほぼ同様なしきい優待性が得られた
図8に示したマルチプレックス駆動波形によって、この
液晶電気光学装置を171000のデユーティ比で駆動
した。V+= 4 v、  V2:10V、  V3=
 IOV、Va=−20vとすることによってオンの透
過率80%、コントラスト比1:16が得られた。
また、ツイスト状態で6ケ月放置した後、再び同一条件
で駆動したところ、表示特性に劣化は認められなかった
。比較例として、透過″40%のユニフォーム状態(オ
フ状態)で−週間放置した後、再び同一条件で駆動した
ところ、オンの透過率は、デユーティ比1/200では
55%、デユーティ比1/400では20%なった。さ
らに駆動電圧を変化させて初期の特性を再現しようと試
みたが、はとんど改善されなかった。
(実施例4) 本実施例では配向膜としてスピンコード法によって作成
した厚さ900人のポリイミドを用いた。ラビング処理
を施しチッソ社製CS −1011を封入したところ、
スメクチックA相においてθ、I”F15@、θ、2″
ニー15”であった。この場合も二つのユニフォーム状
態と一つのツイスト状態が得られ、図6とほぼ同様なし
きい優待性が得られた。
図8に示したマルチプレックス駆動波形によって、この
液晶電気光学装置を171000のデユーティ比で駆動
した。  V+=4.5v、  ■2= 9 v、  
V3=10v、Va=  19vとすることによってオ
ンの透過率80%、コントラスト比1:18が得られた
また、ツイスト状態で6ケ月放置した後、再び同一条件
で駆動したところ、表示特性に劣化は認められなかった
。比較例として、透過率O%のユニフォーム状態(オフ
状態)で−週間放置した後、再び同一条件で駆動したと
ころ、オンの透過率は、デユーティ比1/200では5
5%、デユーティ比1/400では30%なった。さら
に駆動電圧を変化させて初期の特性を再現しようと試み
たが、はとんど改善されなかった。
(実施例5) 本実施例では配向膜として厚さ500人のポリイミド/
−塩基性クロム錯体混合膜を用いた。この場合、スメク
チック人相においてθ*+’;25@、θ、2ま一25
@であった。ここでも二つのユニフォーム状態と一つの
ツイスト状態が得られ、図6とほぼ同様なしきい優待性
が得られた。
図8に示したマルチプレックス駆動波形によって、この
液晶電気光学装置をデユーティ比1/1000で駆動し
た。V+=4N/S V2=8v、Vs=10v。
Va=−18vとして、二つのユニフォーム状態間でス
イッチングを行なうことによって、オンの透過率80%
、コントラスト比1:19が得られた。
また、ツイスト状態で6ケ月放置した後、再び同一条件
で駆動したところ、表示特性に劣北は認められなかった
。比較例として、透過1!O%のユニフォーム状態(オ
フ状態)で−週間放置した後、再び同一条件で駆動した
ところ、オン状態の透過率は、デユーティ比1/200
では55%、デユーティ比1/400では20%となっ
た。さらに駆動電圧を変化させて初期の特性を再現しよ
うと試みたが、はとんど改善されなかった。
有機配向膜として、ポリイミドとポリイミド/−塩基性
クロム錯体混合膜を用いたが、その材質は限定されない
。また、強誘電性液晶材料も限定されない。
[発明の効果] 上記のように、二つのユニフォーム状態と少なくとも一
つのツイスト状態を安定に存在せしめて、使用時以外は
配向をツイスト状態にしておくことにより、高コントラ
スト比と高透過率を同時に得ることができ、しかも、保
存時に偏ったイオンが発生させる内部電場の影響が小さ
くなるため、双安定性が消失するということがなくなっ
た。
本発明は、液晶デイスプレィや液晶プリンターヘッド、
空間光変調器などに応用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による液晶電気光学装置の略断面図、第
2図は強誘電性液晶の分子軸と自発分極との関係を示す
図、第3図はツイスト状態とユニフォーム状態を表わす
図、第4図はユニフォーム状態で保持したときのイオン
の分布を示す図、第5図はツイスト状態で保持したとき
のイオンの分布を示す図、第6図は本発明の液晶電気光
学装置において得られるしきい優待性を示す図、第7図
はしきい優待性を求めるための印加電圧波形を示す図、
第8図はマルチプレックス駆動のための印加電圧波形を
示す図、第9図はユニフォーム状態で長時間保存した後
の記憶効果を示す図である。 11・・偏光板、12・・ガラス基板、13・・透明電
極、14・・絶縁膜、15・・配向膜、16・・液晶層
、17.18・・ガラス基板と接している液晶分子のス
メクチックA相における長軸方向(B1、  B2)、
19.20・・B+。 B2がそれぞれ接しているガラス基板とのなす角度θ、
1.θ、2.21・・液晶分子軸n、22・・自発分極
P、23・・nのxy面への投影C141・・正イオン
、42・・負イオン、43・・正の表面電荷、44・・
負の表面電荷、45・・内部電場。 以上

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電極および前記電極上に配向膜を形成した二枚の
    基板A_1、A_2の間に強誘電性液晶を挟持した素子
    において、二つのユニフォーム状態と少なくとも一つの
    ツイスト状態が安定に存在することを特徴とする液晶電
    気光学装置。
  2. (2)使用時以外は前記強誘電性液晶の配向状態を前記
    ツイスト状態にしておくことを特徴とする請求項1記載
    の液晶電気光学装置。
  3. (3)前記配向膜は斜方蒸着法によって形成された無機
    質膜から成ることを特徴とする請求項1記載の液晶電気
    光学装置。
  4. (4)前記配向膜はラビング処理が施された高分子膜か
    ら成ることを特徴とする請求項1記載の液晶電気光学装
    置。
  5. (5)前記強誘電性液晶のカイラルネマチック相または
    スメクチックA相において、前記二枚の基板A_1、A
    _2と接している液晶分子長軸n_1、n_2の前記基
    板面A_1、A_2への投影は互いにほぼ平行であり、
    また、前記液晶分子長軸n_1、n_2はそれぞれ前記
    基板面A_1、A_2との間に角度θ_D_1、θ_D
    _2(≠0)をなしており、かつ、前記液晶分子長軸n
    _1、n_2は互いに角度α=|θ_D_1|+|θ_
    D_2|をなしていることを特徴とする請求項1記載の
    液晶電気光学装置。
JP4194490A 1990-02-22 1990-02-22 液晶電気光学装置 Pending JPH03243920A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03288825A (ja) * 1990-04-06 1991-12-19 Canon Inc 液晶装置
US5223963A (en) * 1991-02-13 1993-06-29 Canon Kabushiki Kaisha Chiral smectic liquid crystal device with different pretilt angles in pixel and non-pixel areas

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