JPH03245490A - 有機膜発光素子 - Google Patents
有機膜発光素子Info
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- JPH03245490A JPH03245490A JP2040918A JP4091890A JPH03245490A JP H03245490 A JPH03245490 A JP H03245490A JP 2040918 A JP2040918 A JP 2040918A JP 4091890 A JP4091890 A JP 4091890A JP H03245490 A JPH03245490 A JP H03245490A
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- organic film
- electrode
- organic
- light emitting
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、有機色素を含む有機膜を用いた発光素子に係
り、特にメモリ特性を示す有機膜発光素子に関する。
り、特にメモリ特性を示す有機膜発光素子に関する。
(従来の技術)
近年、表示素子や照明素子等として用いられる有機膜発
光素子の研究開発か盛んに行われている。例えば、凡用
大学の斎藤省吾は、1986年に金属電極/芳香族色素
/ポリチオフェン/透明電極を用いた有機2層構造素子
を報告している(J、 J、 AI)pl、Phys
、 25.L773.198B)。ここでは、有機膜
の膜厚が1μm以上あり、印加電圧も100Vと大きい
。これに対して、コダック社のC,W、Tang等は、
Mg −Ag /AIq3 /ジアミン/ITOという
有機2層構造で、有機膜の膜厚を1000Å以下にする
ことによって、印加電圧10V以下で駆動して実用上十
分な輝度を示す素子が得られたことを報告している(A
P L。
光素子の研究開発か盛んに行われている。例えば、凡用
大学の斎藤省吾は、1986年に金属電極/芳香族色素
/ポリチオフェン/透明電極を用いた有機2層構造素子
を報告している(J、 J、 AI)pl、Phys
、 25.L773.198B)。ここでは、有機膜
の膜厚が1μm以上あり、印加電圧も100Vと大きい
。これに対して、コダック社のC,W、Tang等は、
Mg −Ag /AIq3 /ジアミン/ITOという
有機2層構造で、有機膜の膜厚を1000Å以下にする
ことによって、印加電圧10V以下で駆動して実用上十
分な輝度を示す素子が得られたことを報告している(A
P L。
5]、、913.1987 )。これらの発光素子は、
電子注入性的な色素と正孔注入性的な色素とを組合わせ
て有機2層構造とすることを基本とし、有機膜をできる
だけ薄くすること、電子注入側の金属電極に仕事関数の
小さいものを選ぶこと、真空蒸着法或いは昇華法によっ
て有機膜を形成する際に電気的欠陥が発生しないような
材料を選択すること、等を主要な特徴としている。凡用
大学の斎藤省吾は更に1988年には、電子注入層/発
光層/正孔注入層という有機3層構造素子を提案し、発
光層に高いフォトルミネセンスを示す色素を選ぶことに
よって高輝度発光が得られることを示した(J、 J
、 Apl)1.Phys 、 、 27.L2B9.
1988)。
電子注入性的な色素と正孔注入性的な色素とを組合わせ
て有機2層構造とすることを基本とし、有機膜をできる
だけ薄くすること、電子注入側の金属電極に仕事関数の
小さいものを選ぶこと、真空蒸着法或いは昇華法によっ
て有機膜を形成する際に電気的欠陥が発生しないような
材料を選択すること、等を主要な特徴としている。凡用
大学の斎藤省吾は更に1988年には、電子注入層/発
光層/正孔注入層という有機3層構造素子を提案し、発
光層に高いフォトルミネセンスを示す色素を選ぶことに
よって高輝度発光が得られることを示した(J、 J
、 Apl)1.Phys 、 、 27.L2B9.
1988)。
その他これまでに、各種の有機膜の組合わせによる発光
素子構造、単層の有機膜であっても、発光剤と正孔注入
剤を混合することによっである程度の発光が認められる
こと、発光体であるA iq3の特性劣化に関する研究
等が次々に報告されており、また同様の特許出願が多く
なされている。
素子構造、単層の有機膜であっても、発光剤と正孔注入
剤を混合することによっである程度の発光が認められる
こと、発光体であるA iq3の特性劣化に関する研究
等が次々に報告されており、また同様の特許出願が多く
なされている。
ところで最近各種の電子機器に用いられているフラット
パネル・デイスプレィは、多数の表示画素をマトリクス
配列してこれを時分割駆動している。その方式には、単
純マトリクス方式とアクティブ・マトリクス方式がある
が、いずれにしても一画素に加わる駆動電圧はパルス的
であって、電圧印加時間は非常に短い。そのため画質の
高い画像を得るためには、各画素かある程度メモリ機能
を有することが必要である。例えば液晶デイスプレィに
おいては、液晶自体の容量或いは、液晶と並列に設けら
れた容量によってこのメモリ機能を持たせている。
パネル・デイスプレィは、多数の表示画素をマトリクス
配列してこれを時分割駆動している。その方式には、単
純マトリクス方式とアクティブ・マトリクス方式がある
が、いずれにしても一画素に加わる駆動電圧はパルス的
であって、電圧印加時間は非常に短い。そのため画質の
高い画像を得るためには、各画素かある程度メモリ機能
を有することが必要である。例えば液晶デイスプレィに
おいては、液晶自体の容量或いは、液晶と並列に設けら
れた容量によってこのメモリ機能を持たせている。
有機膜発光素子においても、この様なマトリクス駆動の
フラットパネル・デイスプレィ等に応用するに当たって
はメモリ機能を持たせることが必要になるが、これまで
のところ有機膜発光素子についてその様なメモリ機能に
ついて報告はなされていない。
フラットパネル・デイスプレィ等に応用するに当たって
はメモリ機能を持たせることが必要になるが、これまで
のところ有機膜発光素子についてその様なメモリ機能に
ついて報告はなされていない。
(発明が解決しようとする課題)
以上のように、有機膜発光素子について各所で研究が盛
んに行われているが、マトリクス駆動の表示素子として
望まれるメモリ機能について、全く言及されていない。
んに行われているが、マトリクス駆動の表示素子として
望まれるメモリ機能について、全く言及されていない。
本発明はこの様な点に鑑みなされたもので、メモリ機能
付きの有機膜発光素子を提供することを目的とする。
付きの有機膜発光素子を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明に係る有機膜発光素子は、少なくとも一種の有機
色素を含む有機膜が、電子注入性の第1の電極と正孔注
入性の第2の電極間に挟まれた構造を有し、第1.第2
の電極間に第2の電極側に正のバイアスを与えたときに
、有機膜には第1の電極から注入された電子と第2の電
極から注入された正孔とが蓄積されて、メモリ特性を特
つ発光を示すことを特徴とする。
色素を含む有機膜が、電子注入性の第1の電極と正孔注
入性の第2の電極間に挟まれた構造を有し、第1.第2
の電極間に第2の電極側に正のバイアスを与えたときに
、有機膜には第1の電極から注入された電子と第2の電
極から注入された正孔とが蓄積されて、メモリ特性を特
つ発光を示すことを特徴とする。
(作用)
発光性有機膜に対して両面共に電子注入性の電極を設け
た場合、バイアス印加によって有機膜に注入されるのは
電子のみである。発光素子に用いられる有機材料は、キ
ャリア易動度か高々1O−3CII+2/v−5ecと
小さく、注入された電子は空間電荷を形成するが、この
とき流れる電流は低電界ではオーミック電流(電圧に比
例する)であり、高電界では内部電界により制限される
空間電荷制限電流(電圧の2乗に比例する)となる。
た場合、バイアス印加によって有機膜に注入されるのは
電子のみである。発光素子に用いられる有機材料は、キ
ャリア易動度か高々1O−3CII+2/v−5ecと
小さく、注入された電子は空間電荷を形成するが、この
とき流れる電流は低電界ではオーミック電流(電圧に比
例する)であり、高電界では内部電界により制限される
空間電荷制限電流(電圧の2乗に比例する)となる。
これではメモリ機能は出ない。
これに対して本発明では、有機膜を挟む一方の電極を電
子注入性とし、もう一方の電極を正孔注入性とする。そ
うすると、バイアスを印加した時、有機膜には電子と正
孔が同時に注入されて蓄積される。そしてキャリア再結
合が生じる状態では有機膜の電荷状態は中性化し、これ
によってキャリア易動度が大きくなる。すなわち有機膜
内ではいわゆる伝導度変調が生し、低抵抗となって大き
い電流が流れる。この結果素子の電気的特性には、定電
圧駆動であればヒステリシス特性が生じ、定電流駆動で
あれば負性抵抗特性が生じ、その結果発光特性にメモリ
機能が生じる。さらにこのメモリ機能は残像現象として
現れる。
子注入性とし、もう一方の電極を正孔注入性とする。そ
うすると、バイアスを印加した時、有機膜には電子と正
孔が同時に注入されて蓄積される。そしてキャリア再結
合が生じる状態では有機膜の電荷状態は中性化し、これ
によってキャリア易動度が大きくなる。すなわち有機膜
内ではいわゆる伝導度変調が生し、低抵抗となって大き
い電流が流れる。この結果素子の電気的特性には、定電
圧駆動であればヒステリシス特性が生じ、定電流駆動で
あれば負性抵抗特性が生じ、その結果発光特性にメモリ
機能が生じる。さらにこのメモリ機能は残像現象として
現れる。
(実施例)
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は一実施例の発光素子断面構造を示す。
この素子は、上から見て第1の電極(Ml ) 5第1
4)NJliilli (01) 4. 第2(7)G
7機膜(02)3および第2の電極ll2)2により構
成されている。第2の電極2はこの実施例ではガラス基
板1に形成されたITO等の透明電極であって、光は基
板1側から取出される。透明電極として化合物半導体を
用いてもよい。この素子の製造プロセスは、後に具体的
に説明するが、基板上に真空蒸着法、真空昇華法等によ
って順次膜を積層形成する。
4)NJliilli (01) 4. 第2(7)G
7機膜(02)3および第2の電極ll2)2により構
成されている。第2の電極2はこの実施例ではガラス基
板1に形成されたITO等の透明電極であって、光は基
板1側から取出される。透明電極として化合物半導体を
用いてもよい。この素子の製造プロセスは、後に具体的
に説明するが、基板上に真空蒸着法、真空昇華法等によ
って順次膜を積層形成する。
第2図は、この発光素子を構成する各層がそれぞれ独立
した状態でのバンド図を示す。第1の有機膜4の伝導帯
レベルをE。0.フェルミレベルをE11価電子帯レベ
ルをEv、とし、第2の有機膜3の伝導帯レベルをE。
した状態でのバンド図を示す。第1の有機膜4の伝導帯
レベルをE。0.フェルミレベルをE11価電子帯レベ
ルをEv、とし、第2の有機膜3の伝導帯レベルをE。
2.フェルミレベルをE2価電子帯レベルをEv2とし
たとき、図示のように、ECI>EC21EVI>Ev
2なる材料が選ばれている。
たとき、図示のように、ECI>EC21EVI>Ev
2なる材料が選ばれている。
また第1の電極5は、仕事関数EMIが、EMI<E、
であり、第1の有機膜4に対して電子を注入しやすい関
係に選ばれている。第2の電極2は、仕事関数EM2が
、Ev2>E2であり、第2の有機膜3に対して正孔を
注入しやすい関係に選ばれている。
であり、第1の有機膜4に対して電子を注入しやすい関
係に選ばれている。第2の電極2は、仕事関数EM2が
、Ev2>E2であり、第2の有機膜3に対して正孔を
注入しやすい関係に選ばれている。
第3図は、これらの各層が接合された発光素子の熱平衡
状態でのバンド図である。熱平衡状態では系のフェルミ
レベルが一致する。したがって第2図に示す電極の仕事
関数および有機膜の各エネルギーレヘルの大小関係から
、第3図に示すように、第1の電極5と第1の有機膜4
の間は第1の電極5から電子が注入しやすい接合が形成
される。
状態でのバンド図である。熱平衡状態では系のフェルミ
レベルが一致する。したがって第2図に示す電極の仕事
関数および有機膜の各エネルギーレヘルの大小関係から
、第3図に示すように、第1の電極5と第1の有機膜4
の間は第1の電極5から電子が注入しやすい接合が形成
される。
第2の電極2と第2の有機膜3の間は第2の電極2から
正孔か注入しやすい接合が形成される。第1の有機膜4
と第2の有機膜3の間には、伝導帯にΔE(=Ec+
EC2なる障壁が形成され、価電子帯にはΔEv=E
v+ Ev2なる障壁が形成される。
正孔か注入しやすい接合が形成される。第1の有機膜4
と第2の有機膜3の間には、伝導帯にΔE(=Ec+
EC2なる障壁が形成され、価電子帯にはΔEv=E
v+ Ev2なる障壁が形成される。
この実施例の発光素子の動作原理を第4図を用いて説明
する。第4図(a)は、第1の電極5に対して第2の電
極2に正のあるバイアス電圧V、を印加したときの素子
のバンド図である。第1の電極5からは第1の有機膜4
に電子が注入され、第2の電極2からは第2の有機膜3
に正孔が注入されて、これらの電子、正孔は第1.第2
の有機膜3.4の障壁接合界面に蓄積される。この蓄積
されたキャリアは、電気二重層を形成することになる。
する。第4図(a)は、第1の電極5に対して第2の電
極2に正のあるバイアス電圧V、を印加したときの素子
のバンド図である。第1の電極5からは第1の有機膜4
に電子が注入され、第2の電極2からは第2の有機膜3
に正孔が注入されて、これらの電子、正孔は第1.第2
の有機膜3.4の障壁接合界面に蓄積される。この蓄積
されたキャリアは、電気二重層を形成することになる。
この電気二重層の厚みは、色素の分子間距離(約10人
)であるから、結果としてここに大きい電界か発生する
。そして第4図(b)に示すように・1イアス電圧かあ
るしきい値を越えてV2になると、電気二重層を形成す
るキャリアは障壁接合を通して隣接層にトンネル注入さ
れる。第2の有機膜3から第1の有機膜4に注入された
正孔は、第1の何機膜4内で多数キャリアである電子と
再結合する。第1の有機膜4が発光層である場合にはこ
れにより第1の波長λ1の発光が得られる。
)であるから、結果としてここに大きい電界か発生する
。そして第4図(b)に示すように・1イアス電圧かあ
るしきい値を越えてV2になると、電気二重層を形成す
るキャリアは障壁接合を通して隣接層にトンネル注入さ
れる。第2の有機膜3から第1の有機膜4に注入された
正孔は、第1の何機膜4内で多数キャリアである電子と
再結合する。第1の有機膜4が発光層である場合にはこ
れにより第1の波長λ1の発光が得られる。
第1の有機膜4から第2の有機膜3に注入された電rは
、第2の有機膜3内で多数キャリアである正孔と再結合
する。第2の有機膜3か発光層である場合には、これに
より第2の波長λ2の発光か得られる。
、第2の有機膜3内で多数キャリアである正孔と再結合
する。第2の有機膜3か発光層である場合には、これに
より第2の波長λ2の発光か得られる。
第1の波長の発光と第2の波長の発光のいずれが支配的
になるかは、第1.第2の有機膜4,3の障壁接合の電
子に対する障壁高さΔECと、正孔に対する障壁高さΔ
Evの関係によって決まる。
になるかは、第1.第2の有機膜4,3の障壁接合の電
子に対する障壁高さΔECと、正孔に対する障壁高さΔ
Evの関係によって決まる。
したかって材料を選択することによって、■あるしきい
値で第1.第2の波長光か同時に得られる発光素子、 ■第1のしきい値では第1の波長の発光のみで、第2の
しきい値で多重発光が得られる発光素子、■第1のしき
い値では第2の波長の発光のみで、第2のしきい値で多
重発光が得られる発光素子、のいずれも得ることができ
る。
値で第1.第2の波長光か同時に得られる発光素子、 ■第1のしきい値では第1の波長の発光のみで、第2の
しきい値で多重発光が得られる発光素子、■第1のしき
い値では第2の波長の発光のみで、第2のしきい値で多
重発光が得られる発光素子、のいずれも得ることができ
る。
第5図(a) (b)は、Eel EC2<EVI
Ev2を満すように材料が選択された発光素子の動作
を説明するためのバンド図である。先の原理説明から明
らかなようにバイアス電圧Vによって電子、正孔がそれ
ぞれ注入されて電気二重層が形成されるが、バイアス電
圧Vが第1のしきい値v thiを越えると、第5図(
a)に示すように第1の有機膜から電子が第2の有機膜
にトンネル注入され、第2の有機膜で発光再結合して波
長λ2の発光が生じる。さらにバイアス電圧■を上げて
これか第2のしきい値V th2を越えると、第5図(
b)に示すように第2の有機膜から第1の有機膜への正
孔のトンネル注入も始まり、第1の有機膜て発光再結合
して波長λ1の発光か重なる。
Ev2を満すように材料が選択された発光素子の動作
を説明するためのバンド図である。先の原理説明から明
らかなようにバイアス電圧Vによって電子、正孔がそれ
ぞれ注入されて電気二重層が形成されるが、バイアス電
圧Vが第1のしきい値v thiを越えると、第5図(
a)に示すように第1の有機膜から電子が第2の有機膜
にトンネル注入され、第2の有機膜で発光再結合して波
長λ2の発光が生じる。さらにバイアス電圧■を上げて
これか第2のしきい値V th2を越えると、第5図(
b)に示すように第2の有機膜から第1の有機膜への正
孔のトンネル注入も始まり、第1の有機膜て発光再結合
して波長λ1の発光か重なる。
第6図(a) (b)は、E c+−E C2> E
vlE y2を満すように材料が選択された発光素子の
動作を説明するためのバンド図である。この場合は第5
図と逆に、第1のしきい値v thtで第1の有機膜で
の発光(波長λ1)が生じ、第2のしきい値V th2
で第2の有機膜での発光(波長λ2)か重なる。なお第
6図での第1.第2のしきい値vtht 、 vth
2、波長λ1.λ2は第5図でのそれらとは一般には同
じてはない。
vlE y2を満すように材料が選択された発光素子の
動作を説明するためのバンド図である。この場合は第5
図と逆に、第1のしきい値v thtで第1の有機膜で
の発光(波長λ1)が生じ、第2のしきい値V th2
で第2の有機膜での発光(波長λ2)か重なる。なお第
6図での第1.第2のしきい値vtht 、 vth
2、波長λ1.λ2は第5図でのそれらとは一般には同
じてはない。
この実施例によれば、第1.第2の有機膜43にそれぞ
れ電子、正孔が注入されて、これらが障壁接合に蓄積さ
れる結果、発光特性にはメモリ機能が現れる。
れ電子、正孔が注入されて、これらが障壁接合に蓄積さ
れる結果、発光特性にはメモリ機能が現れる。
第7図は、この実施例の素子を定電圧駆動した場合の電
圧−電流特性であり、電子および正孔の同時注入効果と
キャリア蓄積によるメモリ機能の結果として、ヒステリ
ンス特性か現れる。第8図は同様にその実施例の素子を
定電流駆動した場合の電圧−電流特性であり、メモリ機
能の結果として負性抵抗特性か現われる。これらの図の
縦軸の電流は発光輝度に対応する。
圧−電流特性であり、電子および正孔の同時注入効果と
キャリア蓄積によるメモリ機能の結果として、ヒステリ
ンス特性か現れる。第8図は同様にその実施例の素子を
定電流駆動した場合の電圧−電流特性であり、メモリ機
能の結果として負性抵抗特性か現われる。これらの図の
縦軸の電流は発光輝度に対応する。
この実施例の素子に於いて、上述したようなメモリ機能
を有することは、以下の実験によって確認することがで
きる。
を有することは、以下の実験によって確認することがで
きる。
先ず、素子の直流電気特性を測定すると、第9図に示す
ように整流特性が得られる。第1の電極5側が負になる
極性か順方向である。順方向電流はすでに述べたように
、電気二重層形成によるトンネル注入によって流れる。
ように整流特性が得られる。第1の電極5側が負になる
極性か順方向である。順方向電流はすでに述べたように
、電気二重層形成によるトンネル注入によって流れる。
逆バイアスで電流か流れないのは、画電極からのキャリ
ア注入かないからである。
ア注入かないからである。
次のこの素子に三角波交流バイアスを印加して変位電流
を測定する。測定領域は、第9図に破線で示すように電
圧−電流特性の原点近傍の微小電流領域である。第10
図か得られる電位電流特性である。先ず逆バイアス領域
すなわち第10図のA点より右側では、前述のように有
機膜にはキャリア注入は生じないから、両電極間に電荷
か蓄積する。このとき両電極間は絶縁体としての2層の
有機膜が挟まれているキャパシタと同しであり、したか
って容量は小さい。その結果変位電流も小さい。変位電
流Iは一般に、容量Cに対して、I−C−dV/d t で表され、いまの場合容量Cは第1.第2の有機膜4,
3の直列容量となるからである。
を測定する。測定領域は、第9図に破線で示すように電
圧−電流特性の原点近傍の微小電流領域である。第10
図か得られる電位電流特性である。先ず逆バイアス領域
すなわち第10図のA点より右側では、前述のように有
機膜にはキャリア注入は生じないから、両電極間に電荷
か蓄積する。このとき両電極間は絶縁体としての2層の
有機膜が挟まれているキャパシタと同しであり、したか
って容量は小さい。その結果変位電流も小さい。変位電
流Iは一般に、容量Cに対して、I−C−dV/d t で表され、いまの場合容量Cは第1.第2の有機膜4,
3の直列容量となるからである。
次にバイアスが逆バイアス領域から零バイアスに近づく
と、電極から有機膜4へのキャリアが始まる。一般には
第1の電極5から第1の有機膜4への電子注入と、第2
の電極2から第2の有機膜3への正孔注入とは同時には
起こらないから、今の場合電子注入か先に起るとすると
、第10図のA点で、第1の電極5から第1の有機膜4
への電子注入か始まる。注入された電子は、第1.第2
の有機膜4,3間が障壁接合を構成するためにその障壁
接合界面に蓄積される。このとき容量は、第2の有機膜
3によって決まる値、はぼ2倍になり、したがって変位
電流もほぼ2倍に増大する。
と、電極から有機膜4へのキャリアが始まる。一般には
第1の電極5から第1の有機膜4への電子注入と、第2
の電極2から第2の有機膜3への正孔注入とは同時には
起こらないから、今の場合電子注入か先に起るとすると
、第10図のA点で、第1の電極5から第1の有機膜4
への電子注入か始まる。注入された電子は、第1.第2
の有機膜4,3間が障壁接合を構成するためにその障壁
接合界面に蓄積される。このとき容量は、第2の有機膜
3によって決まる値、はぼ2倍になり、したがって変位
電流もほぼ2倍に増大する。
バイアスか増加して第2の電極2から第2の有機膜3へ
の正孔注入が始まると、前述のように有機膜界面に電気
二重層か形成されて容量はその二重層の容量となって極
めて大きくなる。従って、第10図に示したように正孔
注入か始まるB点で変位電流が大きく増大する。そして
トンネル注入による大きい順方向電流が流れて、発光が
観測されることになる。
の正孔注入が始まると、前述のように有機膜界面に電気
二重層か形成されて容量はその二重層の容量となって極
めて大きくなる。従って、第10図に示したように正孔
注入か始まるB点で変位電流が大きく増大する。そして
トンネル注入による大きい順方向電流が流れて、発光が
観測されることになる。
この様に変位電流特性を測定することによって、この実
施例の素子のキャリア注入と蓄積の状態か分かる。
施例の素子のキャリア注入と蓄積の状態か分かる。
次により具体的な実施例を説明する。第1図の素子にお
いて、 第1の電極5:イッテルビウム 第1の有機膜4:ビ(9−マロノニトリルフルオレニル
) 第2の有機膜3:ビビレニル(−発光層)第2の電極2
:ITO を用いた。
いて、 第1の電極5:イッテルビウム 第1の有機膜4:ビ(9−マロノニトリルフルオレニル
) 第2の有機膜3:ビビレニル(−発光層)第2の電極2
:ITO を用いた。
ITO基板上に真空昇華法(真空度〜10Torr)に
よってビビレニル薄膜を1000人形成し、次いてビ(
9−マロノニトリルフルオレニル)薄膜を10 ill
0人形成し、最後にイッテルビウム電極を直空蒸着に
より1000人形成した。
よってビビレニル薄膜を1000人形成し、次いてビ(
9−マロノニトリルフルオレニル)薄膜を10 ill
0人形成し、最後にイッテルビウム電極を直空蒸着に
より1000人形成した。
得られた素子の変位電流特性か第10図のようになるこ
とが確認された。またこの素子に、ITO電極側か正と
なる順方向バイアスを印加すると、第11図に示すヒス
テリシス特性が得られた。さらにITO’4極側か正に
なるパルス状バイアスを印加した結果、第12図に示す
ように発光強度に残像効果か認められた。
とが確認された。またこの素子に、ITO電極側か正と
なる順方向バイアスを印加すると、第11図に示すヒス
テリシス特性が得られた。さらにITO’4極側か正に
なるパルス状バイアスを印加した結果、第12図に示す
ように発光強度に残像効果か認められた。
本発明は上記実施例に限られるものではない。
実施例では、有機膜の二層積層構造を用いたが、二層以
上の積層構造を用いることもてきる。要するに6機膜お
よびこれを挟む電極が、有機膜に対して電子と正孔が同
時に注入され、これらか蓄積されるという条件を満たせ
ばよい。電子注入用の電極としては、イッテルビウムの
ほが、ランタン(La ) 、 ネオジウム(Nd
) 、 ガドリウム(Gd )その他の希土類元素が好
ましい。
上の積層構造を用いることもてきる。要するに6機膜お
よびこれを挟む電極が、有機膜に対して電子と正孔が同
時に注入され、これらか蓄積されるという条件を満たせ
ばよい。電子注入用の電極としては、イッテルビウムの
ほが、ランタン(La ) 、 ネオジウム(Nd
) 、 ガドリウム(Gd )その他の希土類元素が好
ましい。
[発明の効果]
以上述べたように本発明によれば、電子および正孔の両
キャリア注入と蓄積を利用して発光特性にメモリ機能を
持たせた有機膜発光素子を得ることができる。
キャリア注入と蓄積を利用して発光特性にメモリ機能を
持たせた有機膜発光素子を得ることができる。
第1図は本発明の一実施例の有機膜発光素子を示す断面
図、 第2図はその各層の接合前の状態を示すバンド図、 第3図は同じく接合後の素子のバンド図、第4図(a)
(b)はその素子の発光動作を説明するためのバンド
図、 第5図(a) (b)は、第2の有機膜の発光が優先す
る場合の動作を説明するためのハンド図、第6図(a)
(b)は第1の有機膜の発光が優先する場合の動作を
説明するためのバンド図、第7図はこの実施例の素子の
定電圧久遠にょるヒステリシス特性を示す図、 第8図は同しく定電流駆動による負性抵抗特性を示す図
、 第9図は素子の直流電流−電圧特性を示す図、第10図
は同じく素子の変位電流特性を示す図、第11図は具体
的な実施例の素子のヒステリシス特性を示す図、 第12図は同じくパルス駆動時の残像特性を示す図であ
る。 1・・カラス基板、2・・第2の電極、3・・第2の有
機膜、4・・第1の有機膜、5・・第1の電極。
図、 第2図はその各層の接合前の状態を示すバンド図、 第3図は同じく接合後の素子のバンド図、第4図(a)
(b)はその素子の発光動作を説明するためのバンド
図、 第5図(a) (b)は、第2の有機膜の発光が優先す
る場合の動作を説明するためのハンド図、第6図(a)
(b)は第1の有機膜の発光が優先する場合の動作を
説明するためのバンド図、第7図はこの実施例の素子の
定電圧久遠にょるヒステリシス特性を示す図、 第8図は同しく定電流駆動による負性抵抗特性を示す図
、 第9図は素子の直流電流−電圧特性を示す図、第10図
は同じく素子の変位電流特性を示す図、第11図は具体
的な実施例の素子のヒステリシス特性を示す図、 第12図は同じくパルス駆動時の残像特性を示す図であ
る。 1・・カラス基板、2・・第2の電極、3・・第2の有
機膜、4・・第1の有機膜、5・・第1の電極。
Claims (2)
- (1)少なくとも一種の有機色素を含む有機膜が、電子
注入性の第1の電極と正孔注入性の第2の電極間に挟ま
れた構造を有し、 前記第1,第2の電極間に第2の電極側に正のバイアス
を与えたときに、前記有機膜に前記第1の電極から注入
された電子と前記第2の電極から注入された正孔とが蓄
積されて、メモリ特性を特つ発光を示す、 ことを特徴とする有機膜発光素子。 - (2)前記有機膜が、電子および正孔に対して障壁接合
を構成する第1の有機膜と第2の有機膜の積層構造を有
する請求項1記載の有機膜発光素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2040918A JPH03245490A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 有機膜発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2040918A JPH03245490A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 有機膜発光素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03245490A true JPH03245490A (ja) | 1991-11-01 |
Family
ID=12593881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2040918A Pending JPH03245490A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 有機膜発光素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03245490A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2005115950A1 (ja) * | 2004-05-27 | 2008-03-27 | 出光興産株式会社 | 非対称ピレン誘導体及びそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2009070987A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Mitsui Chemicals Inc | 有機トランジスタ |
| JP2010525543A (ja) * | 2007-04-24 | 2010-07-22 | アイユーシーエフ‐エイチワイユー | 発光素子及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-02-23 JP JP2040918A patent/JPH03245490A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2005115950A1 (ja) * | 2004-05-27 | 2008-03-27 | 出光興産株式会社 | 非対称ピレン誘導体及びそれを利用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2010525543A (ja) * | 2007-04-24 | 2010-07-22 | アイユーシーエフ‐エイチワイユー | 発光素子及びその製造方法 |
| JP2009070987A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Mitsui Chemicals Inc | 有機トランジスタ |
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