JPH03248552A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置Info
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- JPH03248552A JPH03248552A JP4633290A JP4633290A JPH03248552A JP H03248552 A JPH03248552 A JP H03248552A JP 4633290 A JP4633290 A JP 4633290A JP 4633290 A JP4633290 A JP 4633290A JP H03248552 A JPH03248552 A JP H03248552A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 84
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 32
- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は樹脂封止型半導体装置に関し、特に、ノイズに
よる誤動作を防止するためのコンデンサを内蔵する樹脂
封止型半導体装置に関する。
よる誤動作を防止するためのコンデンサを内蔵する樹脂
封止型半導体装置に関する。
[従来の技術]
従来、プラスチックパッケージ等により被覆される樹脂
封止型半導体装置においては、電子装置等の基板上への
実装時に前記樹脂封止型半導体装置に搭載された半導体
素子から発生するノイズにより前記電子装置等が誤動作
することを防止するために、電源電極用のリードとアー
ス用のリードとの間に外付はコンデンサが接続されてい
る。しかしながら、この場合、前記コンデンサと前記リ
ードとの間のインダクタンスが低下すると共に、前記基
板上の実装密度が低下するため、近年、このようなコン
デンサを樹脂封止型半導体装置に内蔵するようになって
きた。
封止型半導体装置においては、電子装置等の基板上への
実装時に前記樹脂封止型半導体装置に搭載された半導体
素子から発生するノイズにより前記電子装置等が誤動作
することを防止するために、電源電極用のリードとアー
ス用のリードとの間に外付はコンデンサが接続されてい
る。しかしながら、この場合、前記コンデンサと前記リ
ードとの間のインダクタンスが低下すると共に、前記基
板上の実装密度が低下するため、近年、このようなコン
デンサを樹脂封止型半導体装置に内蔵するようになって
きた。
第3図(a)は従来の樹脂封止型半導体装置を示す平面
図、第3図(b)はその縦断面図である。
図、第3図(b)はその縦断面図である。
第3図(a)及び(b)に示すように、リードフレーム
41には所定の形状のり−ド41a1外部導出用リード
4 l b+ 4101ダイパー41d。
41には所定の形状のり−ド41a1外部導出用リード
4 l b+ 4101ダイパー41d。
吊りリード41e及び半導体素子搭載部42a+42b
がパターン形成されている。半導体素子搭載部42a、
42bは吊りリード41eによりリードフレーム41の
略中夫に保持されており、相互に電気的に分離されてい
る。リード41a及び外部導出用リード41b、41c
は、その一端を半導体素子搭載部42a、42bに向け
て延出するように形成され、ダイパー41(1により相
互に接続されていて、製造後にダイパー41dを切断す
ることにより相互に電気的に分離されるようになってい
る。また、外部導出用リード41b、41cはいづれも
吊りリード41eに電気的に接続されていて、実装時に
外部導出用リード41b。
がパターン形成されている。半導体素子搭載部42a、
42bは吊りリード41eによりリードフレーム41の
略中夫に保持されており、相互に電気的に分離されてい
る。リード41a及び外部導出用リード41b、41c
は、その一端を半導体素子搭載部42a、42bに向け
て延出するように形成され、ダイパー41(1により相
互に接続されていて、製造後にダイパー41dを切断す
ることにより相互に電気的に分離されるようになってい
る。また、外部導出用リード41b、41cはいづれも
吊りリード41eに電気的に接続されていて、実装時に
外部導出用リード41b。
41cの他端が電源に接続される。
チップ型コンデンサ43はその下面の両端に電極を有し
ていて、この各電極が半導体素子搭載部42a、42b
に接続されるようにして、導電性接着剤を介して半導体
素子搭載部42a、42b上に固着されている。
ていて、この各電極が半導体素子搭載部42a、42b
に接続されるようにして、導電性接着剤を介して半導体
素子搭載部42a、42b上に固着されている。
矩形のチップ型の半導体素子44はコンデンサ43上に
固着されており、半導体素子44の上面に設けられた電
極パッド49とリード41a、41b、41cとがボン
ディングワイヤ45により接続されている。なお、半導
体素子44の電源用の電極パッド49は外部導出用リー
ド41b、41cに接続されている。
固着されており、半導体素子44の上面に設けられた電
極パッド49とリード41a、41b、41cとがボン
ディングワイヤ45により接続されている。なお、半導
体素子44の電源用の電極パッド49は外部導出用リー
ド41b、41cに接続されている。
また、リード41a及び外部導出用リード41b、41
cの一部を含む半導体素子44の周囲には、エポキシ樹
脂等を固化させて樹脂層46が成形されている。
cの一部を含む半導体素子44の周囲には、エポキシ樹
脂等を固化させて樹脂層46が成形されている。
このように構成された樹脂封止型半導体装置においては
、半導体素子44の電源用の電極パッド49に接続され
た外部導出用リード41b、4iC間に吊りリード41
eを介してコンデンサ43が接続されているので、電子
装置に実装する際に半導体素子44から発生するノイズ
により前記電子装置が誤動作することが防止される。
、半導体素子44の電源用の電極パッド49に接続され
た外部導出用リード41b、4iC間に吊りリード41
eを介してコンデンサ43が接続されているので、電子
装置に実装する際に半導体素子44から発生するノイズ
により前記電子装置が誤動作することが防止される。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上述した従来の樹脂封止型半導体装置に
おいては、内蔵されるコンデンサ43は、その構造上、
薄いものであると共に半導体素子44よりも大きいもの
である必要がある。このため、半導体素子44が大きく
なるに伴ってコンデンサ43を大きくしなければならず
、コンデンサ43の製造が困難になり、樹脂封止型半導
体装置の製造コストが高くなるという問題点がある。
おいては、内蔵されるコンデンサ43は、その構造上、
薄いものであると共に半導体素子44よりも大きいもの
である必要がある。このため、半導体素子44が大きく
なるに伴ってコンデンサ43を大きくしなければならず
、コンデンサ43の製造が困難になり、樹脂封止型半導
体装置の製造コストが高くなるという問題点がある。
また、コンデンサ43を大きくすると、その強度が低下
し、コンデンサ43とエポキシ樹脂層46との間の熱膨
張差により樹脂封止型半導体装置の耐熱衝撃性が著しく
低下するという問題点がある。
し、コンデンサ43とエポキシ樹脂層46との間の熱膨
張差により樹脂封止型半導体装置の耐熱衝撃性が著しく
低下するという問題点がある。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
電源端子間におけるノイズの発生を防止できると共に、
耐熱衝撃性が優れ、製造コストが低い樹脂封止型半導体
装置を提供することを目的とする。
電源端子間におけるノイズの発生を防止できると共に、
耐熱衝撃性が優れ、製造コストが低い樹脂封止型半導体
装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る樹脂封止型半導体装置は、リードフレーム
に配設された導電性の基板パッドと、この基板パッドに
搭載された半導体素子と、この半導体素子を封止する樹
脂層とを有する樹脂封止型半導体装置において、前記基
板パッド上に形成された誘電体層と、この誘電体層上に
形成された導電体層と、その上面に配線パターンが形成
され前記導電体層上に設けられたプリント配線基板とを
有し、前記半導体素子は前記配線パターンを介して前記
リードフレームと電気的に接続されていると共に、一方
の電源電位が前記基板パッドに接続され、他方の電源電
位が前記導電体層に接続されていることを特徴とする。
に配設された導電性の基板パッドと、この基板パッドに
搭載された半導体素子と、この半導体素子を封止する樹
脂層とを有する樹脂封止型半導体装置において、前記基
板パッド上に形成された誘電体層と、この誘電体層上に
形成された導電体層と、その上面に配線パターンが形成
され前記導電体層上に設けられたプリント配線基板とを
有し、前記半導体素子は前記配線パターンを介して前記
リードフレームと電気的に接続されていると共に、一方
の電源電位が前記基板パッドに接続され、他方の電源電
位が前記導電体層に接続されていることを特徴とする。
[作用コ
本発明においては、リードフレームに配設された導電性
の基板パッドと、この基板パッド上に形成された誘電体
層と、この誘電体層上に形成された導電体層とからなる
コンデンサが構成されている。そして、前記基板パッド
に搭載された半導体素子は、前記誘電体層上に設けられ
たプリント配線基板上の配線パターンを介して前記リー
ドフレームと電気的に接続されていると共に、一方の電
源電位が前記基板パッドに接続され、他方の電源電位が
前記導電体層に接続されている。このため、例えば、こ
の樹脂封止型半導体装置を電子装置に実装する際に前記
半導体素子からノイズが発生しても、前記半導体素子の
双方の電源電位が前述したコンデンサにより固定されて
いるので、前記電子装置が誤動作することがない。
の基板パッドと、この基板パッド上に形成された誘電体
層と、この誘電体層上に形成された導電体層とからなる
コンデンサが構成されている。そして、前記基板パッド
に搭載された半導体素子は、前記誘電体層上に設けられ
たプリント配線基板上の配線パターンを介して前記リー
ドフレームと電気的に接続されていると共に、一方の電
源電位が前記基板パッドに接続され、他方の電源電位が
前記導電体層に接続されている。このため、例えば、こ
の樹脂封止型半導体装置を電子装置に実装する際に前記
半導体素子からノイズが発生しても、前記半導体素子の
双方の電源電位が前述したコンデンサにより固定されて
いるので、前記電子装置が誤動作することがない。
また、従来から使用されている強度が低いチップ型コン
デンサを内蔵する場合と異なり、半導体素子を封止する
樹脂層とコンデンサとの間の熱膨張差により樹脂封止型
半導体装置の耐熱衝撃性が低下することがない。
デンサを内蔵する場合と異なり、半導体素子を封止する
樹脂層とコンデンサとの間の熱膨張差により樹脂封止型
半導体装置の耐熱衝撃性が低下することがない。
更に、前記誘電体層は、気相メツキ法等により薄く且つ
均一に形成することができ、その厚さを容易に制御する
ことができるので、所望の容量のコンデンサを容易に形
成することができる。このため、樹脂封止型半導体装置
の生産性を向上させることができ、その製造コストを低
減することができる。
均一に形成することができ、その厚さを容易に制御する
ことができるので、所望の容量のコンデンサを容易に形
成することができる。このため、樹脂封止型半導体装置
の生産性を向上させることができ、その製造コストを低
減することができる。
なお、前記導電体層の導電体としては、チタン、アルミ
ニウム、クロム又はニッケル等の金属を使用することが
できる。また、前記誘電体層の誘電体としては、酸化チ
タン、酸化アルミニウム若しくはチタン酸バリウム等の
酸化物、窒化ケイ素若しくは窒化タンタル等の窒化物又
は誘電性を有する複合ガラス等を使用することができる
。
ニウム、クロム又はニッケル等の金属を使用することが
できる。また、前記誘電体層の誘電体としては、酸化チ
タン、酸化アルミニウム若しくはチタン酸バリウム等の
酸化物、窒化ケイ素若しくは窒化タンタル等の窒化物又
は誘電性を有する複合ガラス等を使用することができる
。
[実施例コ
次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して説
明する。
明する。
第1図(a)は本発明の第1の実施例に係る樹脂封止型
半導体装置を示す平面図、第1図(b)はその縦断面図
である。
半導体装置を示す平面図、第1図(b)はその縦断面図
である。
第1図(a)及び(b)に示すように、リードフレーム
1には所定の形状のリードla1外部導出用リード1b
+1c1ダイパー1d及び吊りリード1eがパターン形
成されている。リードフレーム1の略中夫にはリードフ
レーム1と同一材質(42合金又は銅合金等)からなる
矩形の基板パッド2が吊りリード1eにより保持されて
いて、リード1a及び外部導出用リード1b+1cはそ
の一端を基板パッド2に向けて延出するように形成され
ている。また、外部導出用リード1cは基板パッド2に
電気的に接続されている。更に、リード1a及び外部導
出用リード1b+1cは、ダイパー1dにより相互に接
続されていて、製造後にダイパー1dを切断することに
より相互に電気的に分離されるようになっている。
1には所定の形状のリードla1外部導出用リード1b
+1c1ダイパー1d及び吊りリード1eがパターン形
成されている。リードフレーム1の略中夫にはリードフ
レーム1と同一材質(42合金又は銅合金等)からなる
矩形の基板パッド2が吊りリード1eにより保持されて
いて、リード1a及び外部導出用リード1b+1cはそ
の一端を基板パッド2に向けて延出するように形成され
ている。また、外部導出用リード1cは基板パッド2に
電気的に接続されている。更に、リード1a及び外部導
出用リード1b+1cは、ダイパー1dにより相互に接
続されていて、製造後にダイパー1dを切断することに
より相互に電気的に分離されるようになっている。
基板パッド2の上には、誘電率が高い酸化チタン、酸化
アルミニウム、チタン酸バリウム、窒化ケイ素、窒化タ
ンタル又は誘電性を有する複合ガラス等の誘電体からな
る誘電体層3が形成されている。この誘電体層3は、P
vD法又はCVD法等の気相メツキ法等により基板パッ
ド2上に前記誘電体を被着して形成するか、基板パッド
2上にタンタル又はアルミニウム等の金属を被着した後
に陽極酸化処理若しくは反応性ラジカルによる金属絶縁
膜化処理を施して形成することにより、その厚さを薄く
且つ均一にすることができる。この場合、誘電体層3の
厚さは、コンデンサの容量を大きくするために、例えば
約3μm以下にすることが好ましい。
アルミニウム、チタン酸バリウム、窒化ケイ素、窒化タ
ンタル又は誘電性を有する複合ガラス等の誘電体からな
る誘電体層3が形成されている。この誘電体層3は、P
vD法又はCVD法等の気相メツキ法等により基板パッ
ド2上に前記誘電体を被着して形成するか、基板パッド
2上にタンタル又はアルミニウム等の金属を被着した後
に陽極酸化処理若しくは反応性ラジカルによる金属絶縁
膜化処理を施して形成することにより、その厚さを薄く
且つ均一にすることができる。この場合、誘電体層3の
厚さは、コンデンサの容量を大きくするために、例えば
約3μm以下にすることが好ましい。
一方、プリント配線基板4は、平面視で基板パッド2と
路間−の形状をなし、その上面に所定のプリント配線4
aがパターン形成されている。プリント配線基板4の下
面には、誘電体に対して密着性を有するチタン、アルミ
ニウム、クロム又はニッケル等の金属導電体からなる導
電体層5が被着されている。この導電体層5は、気相メ
ツキ法等によりプリント配線基板4の下面に前記金属導
電体を被着して形成することが好ましいが、接着剤又は
圧接法によりプリント配線基板4の下面に接合しても良
い。また、プリント配線基板4にはその厚さ方向に挿通
するスルーホール4bが設けられていて、外部導出用リ
ード1bに接続されるプリント配線4aと導電体層5と
がスルーホール4bを介して電気的に接続されている。
路間−の形状をなし、その上面に所定のプリント配線4
aがパターン形成されている。プリント配線基板4の下
面には、誘電体に対して密着性を有するチタン、アルミ
ニウム、クロム又はニッケル等の金属導電体からなる導
電体層5が被着されている。この導電体層5は、気相メ
ツキ法等によりプリント配線基板4の下面に前記金属導
電体を被着して形成することが好ましいが、接着剤又は
圧接法によりプリント配線基板4の下面に接合しても良
い。また、プリント配線基板4にはその厚さ方向に挿通
するスルーホール4bが設けられていて、外部導出用リ
ード1bに接続されるプリント配線4aと導電体層5と
がスルーホール4bを介して電気的に接続されている。
而して、導電体層5は導電性接着剤6を介して誘電体層
3上に接合されている。
3上に接合されている。
半導体素子7は導電性接着剤8を介してプリント配線基
板4の上面略中央に搭載されている。そして、半導体素
子7の上面に設けられた電極バッド9とプリント配線4
aの一端との間、及びプリント配線4aの他端とリード
1a+ 1b+ lcの一端との間がボンディング
ワイヤ10により電気的に接続されている。この場合、
半導体素子7の第1の電源電極用の電極パッド9aは、
ワイヤ10及びプリント配線4aを介して外部導出用リ
ード1bに接続されると共に、スルーホール4bを介し
て導電体層5に接続される。一方、半導体素子7の第2
の電源電極用の電極パッド9bは、ワイヤ10及びプリ
ント配線4aを介して外部導出用リード1cに接続され
ると共に、この外部導出用リード1cを介して基板パッ
ド2に接続される。
板4の上面略中央に搭載されている。そして、半導体素
子7の上面に設けられた電極バッド9とプリント配線4
aの一端との間、及びプリント配線4aの他端とリード
1a+ 1b+ lcの一端との間がボンディング
ワイヤ10により電気的に接続されている。この場合、
半導体素子7の第1の電源電極用の電極パッド9aは、
ワイヤ10及びプリント配線4aを介して外部導出用リ
ード1bに接続されると共に、スルーホール4bを介し
て導電体層5に接続される。一方、半導体素子7の第2
の電源電極用の電極パッド9bは、ワイヤ10及びプリ
ント配線4aを介して外部導出用リード1cに接続され
ると共に、この外部導出用リード1cを介して基板パッ
ド2に接続される。
また、リード1a及び外部導出用リード1b。
1cの一部を含む半導体素子7の周囲には、エポキシ樹
脂等を固化させて樹脂層11が成形されている。
脂等を固化させて樹脂層11が成形されている。
このように構成された樹脂封止型半導体装置においては
、基板パッド2、誘電体層3及び導電体層5からなるコ
ンデンサが構成されていて、半導体素子7の電源電極用
の電極パッド9 a + 9 bは夫々導電体層5及び
基板パッド2に電気的に接続されている。このため、例
えば、この樹脂封止型半導体装置を電子装置に実装する
際に半導体素子7からノイズが発生しても、半導体素子
7の第1及び第2の電源電位が前記コンデンサにより固
定されているので、前記電子装置が誤動作することはな
い。
、基板パッド2、誘電体層3及び導電体層5からなるコ
ンデンサが構成されていて、半導体素子7の電源電極用
の電極パッド9 a + 9 bは夫々導電体層5及び
基板パッド2に電気的に接続されている。このため、例
えば、この樹脂封止型半導体装置を電子装置に実装する
際に半導体素子7からノイズが発生しても、半導体素子
7の第1及び第2の電源電位が前記コンデンサにより固
定されているので、前記電子装置が誤動作することはな
い。
また、従来から使用されている強度が低いチップ型コン
デンサを内蔵する場合と異なり、基板パッド2、誘電体
層3及び導電体層5からなる強度が高いコンデンサを形
成することができるので、樹脂層11と前記コンデンサ
との間の熱膨張差により樹脂封止型半導体装置の耐熱衝
撃性が低下することがない。
デンサを内蔵する場合と異なり、基板パッド2、誘電体
層3及び導電体層5からなる強度が高いコンデンサを形
成することができるので、樹脂層11と前記コンデンサ
との間の熱膨張差により樹脂封止型半導体装置の耐熱衝
撃性が低下することがない。
更に、誘電体層5は、気相メツキ法等により薄く且つ均
一に形成することができ、その厚さを容易に制御するこ
とができるので、容量が均一なコンデンサを容易に形成
することができる。このため、量産により樹脂封止型半
導体装置の生産性を向上させることができるので、樹脂
封止型半導体装置を低コストで製造することができる。
一に形成することができ、その厚さを容易に制御するこ
とができるので、容量が均一なコンデンサを容易に形成
することができる。このため、量産により樹脂封止型半
導体装置の生産性を向上させることができるので、樹脂
封止型半導体装置を低コストで製造することができる。
第2図(a)は本発明の第2の実施例に係る樹脂封止型
半導体装置を示す平面図、第2図(b)はその縦断面図
である。
半導体装置を示す平面図、第2図(b)はその縦断面図
である。
第2図(a)及び(b)に示すように、リードフレーム
21には所定の形状のり−ド21a1ダイパー21d及
び吊りリード21eがパターン形成されている。リード
フレーム1の略中夫には矩形の基板パッド22が吊りリ
ード21eにより保持されていて、リード21aはその
一端を基板パッド22に向けて延出するように形成され
ている。
21には所定の形状のり−ド21a1ダイパー21d及
び吊りリード21eがパターン形成されている。リード
フレーム1の略中夫には矩形の基板パッド22が吊りリ
ード21eにより保持されていて、リード21aはその
一端を基板パッド22に向けて延出するように形成され
ている。
また、リード21aはダイパー21dにより相互に接続
されていて、製造後にダイパー21dを切断することに
より相互に電気的に分離されるようになっている。
されていて、製造後にダイパー21dを切断することに
より相互に電気的に分離されるようになっている。
基板パッド22の上には、その中央の矩形の半導体素子
搭載領域を除く領域に誘電体層23が形成されている。
搭載領域を除く領域に誘電体層23が形成されている。
この誘電体層23上には導電性接着剤26により導電体
層25が接合されている。
層25が接合されている。
更に、この導電体層25上にはプリント配線基板24が
接合されている。プリント配線基板24の上面には所定
のプリント配線24aがパターン形成されている。また
、プリント配線基板24にはその厚さ方向に挿通するス
ルーホール24bが設けられていて、後述する半導体素
子27の電源電極に接続されるプリント配線24aと導
電体層25とがスルーホール24bを介して電気的に接
続されている。
接合されている。プリント配線基板24の上面には所定
のプリント配線24aがパターン形成されている。また
、プリント配線基板24にはその厚さ方向に挿通するス
ルーホール24bが設けられていて、後述する半導体素
子27の電源電極に接続されるプリント配線24aと導
電体層25とがスルーホール24bを介して電気的に接
続されている。
半導体素子27は導電性接着剤28を介して基板パッド
22の前記半導体素子搭載領域上に搭載されている。そ
して、半導体素子27の上面に設けられた電極パッド2
9とプリント配線24aの一端との間、及びプリント配
線24aの他端とリード21aの一端との間がボンディ
ングワイヤ30により電気的に接続されている。この場
合、半導体素子27の電源電極用の電極パッド29aは
、ワイヤ30及びプリント配線4aを介してリード21
aに接続されると共に、スルーホール24bを介して導
電体層25に接続される。一方、半導体素子7のサブス
トレート電位は、導電性接着剤28を介して基板パッド
22と略同電位になる。
22の前記半導体素子搭載領域上に搭載されている。そ
して、半導体素子27の上面に設けられた電極パッド2
9とプリント配線24aの一端との間、及びプリント配
線24aの他端とリード21aの一端との間がボンディ
ングワイヤ30により電気的に接続されている。この場
合、半導体素子27の電源電極用の電極パッド29aは
、ワイヤ30及びプリント配線4aを介してリード21
aに接続されると共に、スルーホール24bを介して導
電体層25に接続される。一方、半導体素子7のサブス
トレート電位は、導電性接着剤28を介して基板パッド
22と略同電位になる。
また、リード21aの一部を含む半導体素子27の周囲
には、エポキシ樹脂等を固化させて樹脂層31が成形さ
れている。
には、エポキシ樹脂等を固化させて樹脂層31が成形さ
れている。
このように構成された樹脂封止型半導体装置においては
、ワイヤリングにより電極パッド29aに電源電極用の
リード21aを選択的に接続すれば、電源電位とサブス
トレート電位との間に基板パッド22、誘電体層23及
び導電体層25からなるコンデンサを構成することがで
きる。従って、本実施例は、第1の実施例と同様の効果
が得られると共に、特に多端子の樹脂封止型半導体装置
に適用するのに好適である。
、ワイヤリングにより電極パッド29aに電源電極用の
リード21aを選択的に接続すれば、電源電位とサブス
トレート電位との間に基板パッド22、誘電体層23及
び導電体層25からなるコンデンサを構成することがで
きる。従って、本実施例は、第1の実施例と同様の効果
が得られると共に、特に多端子の樹脂封止型半導体装置
に適用するのに好適である。
[発明の効果コ
以上説明したように本発明によれば、リードフレームに
配設された導電性の基板パッドと、この基板パッド上に
形成された誘電体層と、この誘電体層上に形成された導
電体層とを有し、前記基板パッドに搭載された半導体素
子は、前記リードフレームと電気的に接続されていると
共に、一方の電源電位が前記基板パッドに接続され、他
方の電源電位が前記導電体層に接続されているから、前
記半導体素子から発生するノイズにより電子装置等が誤
動作することを防止できる。
配設された導電性の基板パッドと、この基板パッド上に
形成された誘電体層と、この誘電体層上に形成された導
電体層とを有し、前記基板パッドに搭載された半導体素
子は、前記リードフレームと電気的に接続されていると
共に、一方の電源電位が前記基板パッドに接続され、他
方の電源電位が前記導電体層に接続されているから、前
記半導体素子から発生するノイズにより電子装置等が誤
動作することを防止できる。
また、従来から使用されている強度が低いチップ型コン
デンサを使用する場合と異なり、樹脂層とこのコンデン
サとの熱膨張差により樹脂封止型半導体装置の耐熱衝撃
性が低下することを防止できる。
デンサを使用する場合と異なり、樹脂層とこのコンデン
サとの熱膨張差により樹脂封止型半導体装置の耐熱衝撃
性が低下することを防止できる。
更に、前記誘電体層の厚さは容易に制御することができ
るから、樹脂封止型半導体装置の生産性を向上させるこ
とができ、その製造コストを低減することができる。
るから、樹脂封止型半導体装置の生産性を向上させるこ
とができ、その製造コストを低減することができる。
従って、本発明によれば、ノイズによる誤動作を防止す
ることができると共に、従来に比して製造コストが低(
、信頼性が高い樹脂封止型半導体装置を提供することが
できる。
ることができると共に、従来に比して製造コストが低(
、信頼性が高い樹脂封止型半導体装置を提供することが
できる。
第1図(a)は本発明の第1の実施例に係る樹脂封止型
半導体装置を示す平面図、第1図(b)はその縦断面図
、第2図(a)は本発明の第2の実施例に係る樹脂封止
型半導体装置を示す平面図、第2図(b)はその縦断面
図、第3図(a)は従来の樹脂封止型半導体装置を示す
平面図、第3図(b)はその縦断面図である。 1.21,41;リードフレーム、1at21at
41 a ; リード、lbt let 41a
+ 41b;外部導出用リード、ld、21d、41
d;ダイパー 1e+ 21et 41e;吊りリ
ード、2.22;基板パッド、3,23;誘電体層、4
゜24;プリント配線基板、4a+ 24a;プリント
配線、4b、24b;スルーホール、5,25;導電体
層、6,8.2B、28;導電性接着剤、7.27,4
4;半導体素子、9,9a、9b。 2L 29a、49;電極パッド、10,30゜45;
ボンディングワイヤ、11,31,48;樹脂層、42
a、42b;半導体素子搭載部、43;チップ型コンデ
ンサ
半導体装置を示す平面図、第1図(b)はその縦断面図
、第2図(a)は本発明の第2の実施例に係る樹脂封止
型半導体装置を示す平面図、第2図(b)はその縦断面
図、第3図(a)は従来の樹脂封止型半導体装置を示す
平面図、第3図(b)はその縦断面図である。 1.21,41;リードフレーム、1at21at
41 a ; リード、lbt let 41a
+ 41b;外部導出用リード、ld、21d、41
d;ダイパー 1e+ 21et 41e;吊りリ
ード、2.22;基板パッド、3,23;誘電体層、4
゜24;プリント配線基板、4a+ 24a;プリント
配線、4b、24b;スルーホール、5,25;導電体
層、6,8.2B、28;導電性接着剤、7.27,4
4;半導体素子、9,9a、9b。 2L 29a、49;電極パッド、10,30゜45;
ボンディングワイヤ、11,31,48;樹脂層、42
a、42b;半導体素子搭載部、43;チップ型コンデ
ンサ
Claims (1)
- (1)リードフレームに配設された導電性の基板パッド
と、この基板パッドに搭載された半導体素子と、この半
導体素子を封止する樹脂層とを有する樹脂封止型半導体
装置において、前記基板パッド上に形成された誘電体層
と、この誘電体層上に形成された導電体層と、その上面
に配線パターンが形成され前記導電体層上に設けられた
プリント配線基板とを有し、前記半導体素子は前記配線
パターンを介して前記リードフレームと電気的に接続さ
れていると共に、一方の電源電位が前記基板パッドに接
続され、他方の電源電位が前記導電体層に接続されてい
ることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4633290A JPH03248552A (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | 樹脂封止型半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4633290A JPH03248552A (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | 樹脂封止型半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03248552A true JPH03248552A (ja) | 1991-11-06 |
Family
ID=12744189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4633290A Pending JPH03248552A (ja) | 1990-02-27 | 1990-02-27 | 樹脂封止型半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03248552A (ja) |
-
1990
- 1990-02-27 JP JP4633290A patent/JPH03248552A/ja active Pending
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