JPH03249722A - 光ビーム走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、光源からの光ビームを回転多面鏡で反射し
、走査レンズを介して、被走査面を光走査する光ビーム
走査装置、特に面倒れ補正機能を有し、かつ像面湾曲な
く光ビームを被走査面上に結像することができる光ビー
ム走査装置に関する。

（従来の技術とその課題） この種の光ビーム走査装置では、第１７図（ｂ）に示す
ように、光源（図示省略）からの光ビームＬが矢印方向
Ａに回転する回転多面鏡１の鏡面１ａにより反射され、
さらにその反射光ビームＬ２が走査レンズ（例えば、ｆ
・θレンズ）２を介して被走査面３に結像される。こう
して、被走査面３に結像された光スポットＳＰは回転多
面鏡１の回転速度に応じた所定の速度で走査方向ｙに沿
って移動する。

ところで、この種の光ビーム走査装置では、回転多面鏡
１の鏡面１ａの面倒れを考慮する必要がある。すなわち
、回転多面鏡１の鏡面１ａは、本来、その回転軸と完全
に平行となるように製造される必要があるが、製作精度
には一定の限界があり、同図（ａ）に示すように、各鏡
面１ａがそれぞれ回転多面鏡１の回転軸に対してわずか
ながら傾斜し、その傾斜角度にばらつきがある。。その
ため、光スポットＳＰは走査面（ｙｚ平面）に対して垂
直な方向Ｘに沿って鏡面１ａの傾き角度φに相当する量
Δだけずれる。したがって、光スポットＳＰを走査方向
ｙに走査しながら被走査面３を方向Ｘに送って所望の画
像を記録する光ビーム走査装置において、上記面倒れが
あると、方向Ｘにピッチむらが生じて、画像品質が低下
する。

そこで、この問題を解決するために、従来より回転多面
鏡１の鏡面１ａと被走査面３とが、走査面に対して垂直
な方向において光学的に共役となるように、光学系が設
計されている。具体的には、第１８図（ａ）　、　（ｂ
）に示すように、走査レンズ２と被走査面３との間に方
向Ｘにのみ屈折力を有するシリンドリカルレンズ４が配
設される。また、光源（図示省略）と回転多面鏡１との
間に第１結像光学系５が配設される。この第１結像光学
系５は、同図（ｂ）　、　（ｅ）に示すように、第１結
像光学系５から出射される光ビームＬｌがｙｚ平面で平
行光になり、ｘｚ平面で回転多面鏡１の鏡面１ａに集光
する集束光となるように構成されている（注：光軸の方
向が光学系の途中で変化しても、光軸を常にＺ方向とみ
なしている）。このように光学系を構成することによっ
て、方向Ｘについて、回転多面鏡１の鏡面１ａが被走査
面３と光学的に共役となり、面倒れが補正される。

このように光ビーム走査装置の光学系を構成した場合に
は、面倒れの問題は解決されるが、以下の問題が生じる
。すなわち、像面が湾曲して、結像位置が被走査面３か
ら光軸方向２にずれ、特にそのずれ量が焦点深度ｄの範
囲から外れると、光スポットＳＰの大きさが変化する。

そこで、この問題を解決するために、従来より２種類の
方法が提案されている。

（１）そのうちのひとつとして、特開昭５８−２００２
１４号公報や特開昭５８−１７９８１３号公報に記載さ
れたものがある。これらに開示された技術によれば、第
１９図（ｂ）に示すように、シリンドリカルレンズ６を
、その光軸ＯＡから両端部に進むにしたがい被走査面３
に近づくように湾曲成形することによって、像面湾曲を
補正せんとするものである。

しかしながら、シリンドリカルレンズ６を同図に示すよ
うに成形した場合には、二のシリンドリカルレンズ６全
体を被走査面３から遠ざけるにしたかってシリンドリカ
ルレンズ６の湾曲のみによって像面湾曲の補正を行うこ
とが困難となり、結像性能の悪化を招くおそれがある。

そのため、このシリンドリカルレンズ６は被走査面３近
傍に配置する必要がある。その結果、シリンドリカルレ
ンズ６の長さは、有効走査幅と同程度の寸法に仕上げな
ければならず、有効走査幅の大きい光ビーム走査装置で
は、シリンドリカルレンズ６自体が長尺となり、その製
作が困難になってくる。また、シリンドリカルレンズ６
を被走査面３近傍に配置した場合には、このシリンドリ
カルレンズ６を通過する光ビームＬ３のビーム径が小さ
くなり、ゴミ付着等により結像性能が悪化するといった
問題も生じやすくなる。

（２）もうひとつの方法として、特開昭６２−２６５６
１５号公報、特開昭６１−２７５８１４号公報や特開昭
６０−１３３４１６号公報に記載されたものがある。こ
れらに開示された技術は、シリンドリカルレンズの走査
面（ｙｚ平面）に対して垂直な方向（上記方向Ｘに相当
する）の屈折力を、光軸からレンズ両端に進むにしたが
って小さくすることにより、像面湾曲を補正する方法で
ある。例えば、第２０図に示すように、シリンドリカル
レンズ７の方向Ｘ（Ｘ−Ｚ平面に平行な面内の曲率半径
が光軸ＯＡがらレンズ両端に進むにしたがって大きくな
るように仕上げて、方向Ｘの実効屈折力を上記のように
変化させるものがある。

このようなレンズ設計は理論的には可能であるが、その
設計によって求められるレンズの形状を示す式は複雑な
ものとなり、その式にしたがってレンズ加工することが
困難な場合がある。

（発明の目的） この発明は、上記課題を解消するためになされたもので
、面倒れ補正機能を有し、また像面湾曲なく光ビームを
被走査面上に結像することができ、しかも被走査面に最
も近いレンズを小型化することができる光ビーム走査装
置を提供することを目的とする。

（目的を達成するための手段） この発明は、光源がらの先ビームを回転多面鏡の回転軸
方向にのみ集光させてその反射面上て結像させ、その回
転多面鏡によって反射偏向された光ビームにより、走査
レンズおよびアナモルフィックレンズを介して被走査面
を走査する光ビーム走査装置であって、上記目的を達成
するために、前記アナモルフィックレンズの一方面は、
次式ただし、ｘ、ｙ、ｚは原点を前記アナモルフィック
レンズの一方面と光軸とが交差する点とした３次元直交
座標系を構成し、Ｚ軸は光軸を示し、Ｙ軸は光軸方向と
走査方向とを含む走査面内における光軸に垂直な軸を示
し、Ｘ軸は前記走査面に垂直な軸を示し、また Ｃ　・・・光軸方向と走査方向とを含む走査面内におけ
る前記一方面の曲率半径「　の逆数、Ｃ・・・光軸を含
み前記走査面に対し垂直な面内における前記一方面の曲
率半径ｒ　の逆数 で表され、しかも曲率半径の符号を、光ビームの進行方
向に対して凸となる場合を正、凹となる場合を負とした
時、前記曲率半径ｒ　と前記曲率半径ｒ　ｘとが相互に
異符号である一方、前記アナモルフィックレンズの他方
面が前記走査面内で曲成されたシリンドリカル面に仕上
げられている。

（作用） この発明によれば、光源からの光ビームが回転多面鏡の
回転軸方向にのみ集光されてその反射面上で結像される
一方、その回転多面鏡によって反射偏向された光ビーム
が、走査レンズおよびアナモルフィックレンズを介して
被走査面を走査する。

したがって、回転多面鏡の反射面と被走査面とが走査面
に垂直な方向（回転多面鏡の回転軸方向）に対して光学
的に共役となり、面倒れが補正される。

また、アナモルフィックレンズの一方面は、次式 で表され、しかも曲率半径「　と曲率半径ｒ　とＸ が相互に異符号である一方、アナモルフィックレンズの
他方面が走査面内で曲成されたシリンドリカル面に仕上
げられている。これにより、アナモルフィックレンズの
一方面における光軸方向と走査方向とに対して垂直な方
向の曲率半径が、光軸からレンズ両端（走査方向）に進
むにしたがって大きくなる。言い換えれば、アナモルフ
ィックレンズの一方面における同方向の屈折力が、光軸
からレンズ両端に進むにしたがって小さくなる結果、像
面湾曲が補正される。

さらに、アナモルフィックレンズは上記のように仕上げ
られており、コマ収差や像面湾曲が小さいので、アナモ
ルフィックレンズを被走査面から比較的離れた位置に配
置することがてき、アナモルフィックレンズが小型とな
る。

（実施例） Ａ、光ビーム走査装置の構成 第１図はこの発明にかかる光ビーム走査装置の１実施例
を示す図である。同図に示すように、この光ビーム走査
装置では、図示を省略した光源からの光ビームが第１結
像光学系５を介して矢印方向Ａに回転する回転多面鏡１
に入射される。

この第１結像光学系５は、第１図（ｂ）　、　（ｃ）に
示すように、それを通過した光ビームＬｌがｙｚ平面で
平行光になり、ｘｚ平面で回転多面鏡１の鏡面１ａに集
光する集束光となるように構成されている。

また、回転多面鏡１と被走査面３との間には、走査レン
ズ２とアナモルフィックレンズ１０が回転多面鏡１側か
らこの順で配設されている。このため、回転多面鏡１の
鏡面１ａにより反射された反射光ビームＬ２は走査レン
ズ２およびアナモルフィックレンズ１０を介して被走査
面３に結像される。

Ｂ、光学系の構成 次に、上記のように構成された光ビーム走査装置の光学
系の構成について説明する。なお、ここでは、以下に詳
説するように、第１結像光学系５を２群３枚構成とし、
走査レンズ２を３群４枚構成としているが、これらに限
定されるものではない。

第２Ａ図はｙｚ平面での光学系の構成を示す図であり、
第２Ｂ図はｘｚ平面での光学系の構成を示す図である。

なお、以下の説明の便宜から、光軸ＯＡ中心でのｙｚ平
面内の曲率半径を半径ｒ。

とし、ＸＺ平面内のそれを半径ｒ　とする。また、光源
ＬＳ（第２Ａ図および第２Ｂ図）から数えてｉ番目（ｉ
＝１〜１５）のレンズ面（あるいは鏡面）の曲率半径ｒ
　　、ｒ　　をそれぞれｒ　　ｌｌ＋ｘ　　　　　ｙ　
　　　　　　　　　　　　　ｘ］　　　　ｙｌとする。

両図に示すように、第１結像光学系５ては、光源ＬＳ側
から回転多面鏡１側へ第１ないし第３レンズ５１〜５３
がこの順で配置されている。これらのレンズ５１〜５３
のうち、第ルンズ５１は方向ｘ（ｘ−ｚ平面内）にのみ
屈折力を有するシリンドリ力ルレンスであり、第２Ａ図
かられかるように光源側に向いた面５１ａの曲率半径ｒ
ｙｌおよび回転多面鏡１を向いた面５１ｂの曲率半径ｒ
、２はともに無限大、すなわち平面に仕上げられている
。一方、第２Ｂ図かられかるように、第ルンズ５１の面
５１ａの曲率半径’ｘｌおよび面５１ｂの曲率半径　ｒ
ヶ、がそれぞれ所定値をとるように仕上げられている。

ただし、面５１ｂは非球面、すなわち光軸ＯＡから方向
Ｘに行くにしたがって曲率半径が連続的に変化するよう
に仕上げられている。

また、第２と第３レンズ５２．５３は相互に貼り合わさ
れて、貼り合わせレンズ群５４が形成されている。この
ように、第１結像光学系５は２群３枚構成であり、その
第１結像光学系５を通過した光ビームＬｌはｙｚ平面で
平行光になり、ｘｚ平面で回転多面鏡１の鏡面１ａに集
光する集束光となるように整形された後、回転多面鏡１
の鏡面１ａに入射される。

光ビームＬ１は回転多面鏡１の鏡面１ａて反射され、そ
の反射光ビームＬ２が走査レンズ２に入射される。この
走査レンズ２は、第４ないし第７レンズ２４，２５，２
６．２７による３群４枚構成であり、第２Ａ図および第
２Ｂ図に示すように、回転多面ｆｌｉ、１の鏡面１ａ側
から被走査面３側へこの順序に配列されている。

第４レンズ２４．第７レンズ２７はともに凸メニスカス
レンズであり、第４レンズ２４および第７レンズ２７は
凹面を鏡面ｌａ側に向けて配置されている。

また、第５レンズ２５は両凹レンズであり、第６レンズ
２６は両凸レンズである。そして、これら第５．第６レ
ンズ２５．２６が貼り合わされて、貼り合わせレンズ群
２８が形成されている。

次に入射するアナモルフィックレンズ］０は、走査レン
ズ２に向いた面１０ａが次式によって表される面に仕上
げられている。

・・・（１） ただし、ｘ、ｙ、ｚは原点を前記アナモルフィックレン
ズの一方面と光軸とが交差する点とした３次元直交座標
系を構成し、Ｚ軸は光軸を示し、Ｙ軸は光軸方向と走査
方向とを含む走査面内における光軸に垂直な軸を示し、
Ｘ軸は前記走査面に垂直な軸を示し、また Ｃ　０９．光軸方向２と走査方向ｙとを含む走査面（す
なわちｙｚ平面）内における面１０ａの曲率半径ｒ　　
の逆数、 １４ Ｃ・・・光軸ＯＡを含み走査面（すなわちｙｚ平面）に
対し垂直な面（すなわちｘｚ平面）内における面１０ａ
の曲率半径ｒｘ１４の逆数 である。

また、アナモルフィックレンズ１０の被走査面３に向い
た面１０ｂはＹＺ面内でのみ曲率を有するシリンドリカ
ル面に仕上げられている。

しかも、アナモルフィックレンズ１０では、第２Ａ図お
よび第２Ｂ図かられかるように、曲率半径の符号を、光
ビームが進む方向に対して凸となる場合を正、凹となる
場合を負とした時、曲率半ｘ１４　　　ｙ１４が相互に
異符号となるように仕径ｊ　　　、ｒ 上げられている。その理由は、像面湾曲の補正を行うた
めにアナモルフイ・ツクレンズ１０の方向Ｘ（Ｘ−Ｚ平
面に平行な面内）の屈折力を光軸ＯＡからレンズ両端（
方向ｙ）に行くにしたがって小さくなるように設計する
必要からである。

さらに、その理由を、第３Ａ図ないし第３Ｄ図を参照し
つつ、より詳細に説明する。第３Ａ図ｔｔ第２Ａ図に対
応するアナモルフイ・ツクレンズ１０の外観を示す斜視
図である。また、第３Ｂ図ｉｔ曲率半径’Ｘ１４”　ｙ
１４がともに同符号である場合のアナモルフィックレン
ズ１０′の構成を示す斜視図である。さらに、参考のた
めに、Ｘ方向、Ｘ方向の曲率半径が相互に異符号で、Ｙ
Ｚ面内で湾曲されたシリンドリカルレンズを第３Ｃ図に
、またそれらがともに同符号で、ＹＺ面内で湾曲された
シリンドリカルレンズを第３Ｄ図に示す。

第３Ｃ図に示すように、ＹＺ面内で湾曲されたシリンド
リカルレンズでは、方向Ｘの曲率半径（１ｙ方向のどの
位置においても常に一定であり、レンズのエツジ部分に
おける厚みｔは方向ｙ１こお（１で均一となっている。

これに対して、第３Ａ図に示すようにアナモルフィック
レンズ１０では、中央部分のエツジ厚みｔｏが最も薄く
、レンズ両端（方向ｙ）に行くにしたがって徐々に厚み
ｔが増大するように仕上げられている。このため、両図
の比較から容易に理解できるように、アナモルフィック
レンズ１０の方向Ｘの曲率半径は光軸ＯＡからレンズ両
端（方向ｙ）に行くにしたがって大きくなり、言い換え
れば方向Ｘの屈折力が光軸ＯＡからレンズ両端に行くに
したがって徐々に小さくなっている。

また、第３Ｂ図と第３Ｄ図に基づいて、上記と同様にし
て考えると、第３Ｂ図に示すアナモルフィックレンズ１
０′では、方向Ｘの曲率半径は光軸ＯＡからレンズ両端
（方向ｙ）に行くにしたがって小さくなり、逆に方向Ｘ
の屈折力は光軸ＯＡからレンズ両端に行くにしたがって
大きくなっている。

したがって、像面湾曲を補正するためには、アナモルフ
ィックレンズ１０は、第３Ａ図の状態にあることが要求
され、したがってその一方面が（１）式にしたがって仕
上げられるとともに、他方面がシリンドリカル面１０ｂ
に仕上げられるだけでは足りず、Ｘ方向、Ｘ方向の曲率
半径が相互に異符号であることが必須要素となる。

また、走査面の像面湾曲により走査レンズの特性を損な
わないようにするためには、アナモルフィックレンズ１
０の面１０ａの走査方向ｙ（ｙ−２平面内）の曲率と、
シリンドリカル面１０ｂのそれとが同心であることが好
ましい。

なお、上記においては、アナモルフィックレンズ１０に
おいて、走査レンズ２に向いた面１０ａが（１）式によ
って表されるように仕上げられる一方、被走査面３に向
いた面１０ｂがシリンドリカル面に仕上げられているが
、第４図に示すように、逆に仕上げられてもよい。すな
わち、走査レンズ２に向いた面１０ａをシリンドリカル
面に仕上げる一方、被走査面３に向いた面１０ｂを（１
）式によって表される面に仕上げるようにしてもよく、
上記と同様にして、像面湾曲を補正することができる。

なお、第１図（ａ）および第４図（ａ）に示すように、
上記のように光ビーム走査装置の光学系を構成した場合
には、回転多面鏡１の鏡面１ａと被走査面３とが回転多
面鏡１の回転軸方向に対して光学的に共役となる。この
ために、面倒れが補正される。

Ｃ０実施例 次に、さらに詳しい第１ないし第４実施例について説明
し、その光学的特性について評価する。

Ｃ−１，第１実施例 この第１実施例にかかる光ビーム走査装置は、第１図に
示すように構成されるとともに、その光学系は第１表に
示すデータにしたがって構成される。

第 表 ’ｘ６゜ ｒｙｅ°〜 ６−５０ ｒｘ１５−　” ｒ、、５−＋２［ｉＦ＋、８ｇ４ ｄ　、５−１１ｎ、４Ｕｊｊ 同表において、ｄｏは光源ＬＳと第１番目のレンズ面５
１ａとの距離であり、ｄ、は光源ＬＳ側から数えてｉ番
目（１−１〜１４）のレンズ面と（ｊ＋１）番目のレン
ズ面との光軸ＯＡ上のレンズ面間距離であり、ｄ１５は
１５番目のレンズ面１０ｂと被走査面３との距離である
。また、０１〜ｎ８はそれぞれ波長７１ｉ０ｎｍに対す
る第１ないし第７レンズ５１，５２，５３，２４，２５
，２６゜２７およびアナモルフィックレンズ１０の屈折
率である。なお、以下に説明する第２ないし第４実施例
においても、同様の符号を用い、その説明については省
略する。

また、光源ＬＳ側から数えて２番目のレンズ面、すなわ
ち第７レンズ５１の面５１ｂは非球面であり、次式 たたし、Ｘ、Ｚｏは原点を第７レンズ５１ｂと光軸ＯＡ
とが交差する点とした２次元直交座標系を構成し、Ｚｏ
軸は光軸を示し、Ｘｏは光軸方向と走査方向に垂直な軸
を示し、また、 ｃｘｏ・・・光軸ＯＡを含み走査面（すなわちｙｚ平面
）に対し垂直な面（すなわちｘｚ平面）内における面５
１ｂの曲率半径ｒ　の逆Ｚ 数 ｋ・・・コーニック係数（−０，８６８”）となるよう
に仕上げられている。

さらに、この光学系では、光源側開口数は走査方向ｙお
よび方向Ｘともに“０１”であり、被走査面側開口数は
走査方向ｙおよび方向Ｘともに“０．０２４　”であり
、走査幅は３５０てあり、しかも走査画角（−２θ）は
５０°である。

第５Ａ図および第５Ｂ図はそれぞれ走査方向ｙ方向Ｘの
横収差を示す横収差図である。また、第６図は非点収差
図であり、同図および以下に説明する第９図、第１２図
、第１５図において実線は方向Ｘの像面を示し、破線は
走査方向ｙの像面を示している。また、第７図はｆθ特
性を示す図てある。なお、ｆθ特性の評価については、
次式に基づいて行う。

ｆ　θ Ｃ−２，第２実施例 第２実施例にかかる光ビーム走査装置は、第４図に示す
ように構成されるとともに、その光学系は第２表に示す
データにしたがって構成される。

（以下余白） 表 第−結像光学系 偏向面（鏡面） ’１６°　− ｙｓ　　　　　　’ｅ・５０ アナモルフィックレンズ ｒ、、４−−　　　　ｒｙ、４−２８２２．６７８ｒ　
　−４７，５０４ｒ、１５＝　２１１１７．６７＋１１
１５ ｄ、４−５．０ （１＋５−１１８．６７２ ｎｇ　”　１．４８５７７ なお、光源側から数えて２番目のレンズ面は、第１実′
施例と同様に、（２）式で示される非球面であり、コー
ニツク係数ｋが“−０゜８６８°となるように仕上げら
れている。

また、光源側開口数、被走査面側開口数、走査幅および
走査画角についても第１実施例と同一である。

第８Ａ図および第８Ｂ図はそれぞれ走査方向ｙ。

方向Ｘの横収差を示す横収差図であり、第９図は非点収
差図であり、また第１Ｏ図はｆθ特性を示す図である。

Ｃ−３，第３実施例 第３実施例にかかる光ビーム走査装置は、第１図に示す
ように構成されるとともに、その光学系は第３表に示す
データにしたがって構成される。

（以下余白） 第 表 第−結像光学系 偏向面（鏡面） ｒｙ６゜ ｒ　ｙｅ“− ６−５０ 走 査 レ ン ズ アナモルフィックレンズ なお、光源側から数えて２番目のレンズ面は（２）式で
示される非球面であり、コーニック係数ｋが−１，５１
２”となるように仕上げられている。

また、光源側開口数、被走査面側開口数、走査幅および
走査画角については第１実施例と同一である。

第１１Ａ図および第１１Ｂ図はそれぞれ走査方向ｙ、力
方向の横収差を示す横収差図であり、第１２図は非点収
差図であり、また第１３図はｆθ特性を示す図である。

Ｃ−４，第４実施例 第４実施例にかかる光ビーム走査装置は、第４図に示す
ように構成されるとともに、その光学系は第４表に示す
データにしたがって構成される。

（以下余白） 第 表 コーニツク係数二に− ５０６ 偏向面（鏡面） ｒｘＢｏ　〜 ｙ６− ６−５０ 走査レンズ アナモルフィックレンズ なお、光源側から数えて２番目のレンズ面は（２）式で
示される非球面であり、コーニック係数ｋが“−７，５
０６°となるように仕上げられている。

また、光源側開口数、被走査面側開口数、走査幅および
走査画角については第１実施例と同一である。

第１４Ａ図および第１４Ｂ図はそれぞれ走査方向ｙ、力
方向の横収差を示す横収差図であり、第１５図は非点収
差図であり、また第１６図はｆθ特性を示す図である。

ｃ−５，第１ないし第４実施例の効果 第６図、第９図、第１２図および第１５図から、いずれ
の実施例によっても、像面湾曲が小さいことがわかる。

また、第１表ないし第４表の各間隔ｄ１５の値（−アナ
モルフィックレンズ１０と被走査面３との距離）かられ
かるように、アナモルフィックレンズ１０を被走査面３
から比較的離れた位置に配設したとしても、像面湾曲を
低く抑えることができる。したがって、アナモルフィッ
クレンズ１０を小型化することができる。

（発明の効果） 以上のように、この発明によれば、光源からの光ビーム
が回転多面鏡の回転軸方向にのみ集光されてその反射面
上で結像される一方、その回転多面鏡によって反射偏向
された光ビームが走査レンズおよびアナモルフィックレ
ンズを介して被走査面を走査するように構成されている
ので、回転多面鏡の反射面と被走査面とが回転多面鏡の
回転軸方向に対して光学的に共役となり、面倒れを補正
することができる。

また、アナモルフィックレンズの一方面は、次式 て表され、しかも曲率半径「　と曲率半径ｒ　とｘ が相互に異符号であるため、アナモルフィックレンズの
一方面における光軸方向と走査方向とに対して垂直な方
向の曲率半径が、光軸からレンズ両端（走査方向）に進
むにしたがって大きくなる。

また、アナモルフィックレンズの他方面が走査面内でシ
リンドリカル面に湾曲されているため、光軸方向と走査
方向とに対して垂直な方向の屈折力が、光軸からレンズ
両端（走査方向）に進むにしたがって小さくなり、像面
湾曲を補正することができる。

さらに、アナモルフィックレンズは上記のように仕上げ
られているので、そのアナモルフイ・ツクレンズを前記
被走査面から比較的離れた位置に配置することができ、
アナモルフィックレンズを小型化することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明にかかる光ビーム走査装置の一実施例
を示す構成図であり、 第２Ａ図および第２Ｂ図はそれぞれ第１図に示す光ビー
ム走査装置の光学系の構成を示す構成図であり、 第３Ａ図はこの光学系の構成要素たるアナモルフィック
レンズを示す斜視図であり、 第３Ｂ図ないし第３Ｄ図はそれぞれ第３Ａ図に示すレン
ズを説明するための説明斜視図であり、第４図はこの発
明にかかる光ビーム走査装置の他の実施例を示す構成図
であり、 第５Ａ図および第５Ｂ図はそれぞれ第１実施例における
走査方向ｙ、力方向の横収差を示す横収差図であり、 第６図は第１実施例における非点収差図であり、第７図
は第１実施例におけるｆθ特性を示す図であり、 第８Ａ図および第８Ｂ図はそれぞれ第２実施例における
走査方向ｙ、走査方向ｙに対して垂直な方向Ｘの横収差
を示す横収差図であり、第９図は第２実施例における非
点収差図であり、第１０図は第２実施例におけるｆθ特
性を示す図であり、 第１１Ａ図および第１１Ｂ図はそれぞれ第３実施例にお
ける走査方向ｙ、走査方向ｙに対して垂直な方向Ｘの横
収差を示す横収差図であり、第１２図は第３実施例にお
ける非点収差図てあり、 第１３図は第３実施例におけるｆθ特性を示す図であり
、 第１４Ａ図および第１４Ｂ図はそれぞれ第４実施例にお
ける走査方向ｙ、走査方向ｙに対して垂直な方向Ｘの横
収差を示す横収差図であり、第１５図は第４実施例にお
ける非点収差図であり、 第１６図は第４実施例におけるｆθ特性を示す図であり
、 第１７図ないし第２０図はそれぞれ従来の光ビーム走査
装置を示す図である。 １・・・回転多面鏡、　　　　　　１ａ・・・鏡面、２
・・・走査レンズ、 １０・・・アナモルフィックレンズ、

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）光源からの光ビームを回転多面鏡の回転軸方向に
   のみ集光させてその反射面上で結像させ、その回転多面
   鏡によって反射偏向された光ビームにより走査レンズお
   よびアナモルフィックレンズを介して被走査面を走査す
   る光ビーム走査装置であって、 前記アナモルフィックレンズの一方面は、次式▲数式、
   化学式、表等があります▼ ただし、Ｘ、Ｙ、Ｚは原点を前記アナモルフィックレン
   ズの一方面と光軸とが交差する点とした３次元直交座標
   系を構成し、Ｚ軸は光軸を示し、Ｙ軸は光軸方向と走査
   方向とを含む走査面内における光軸に垂直な軸を示し、
   Ｘ軸は前記走査面に垂直な軸を示し、また ｃ＿ｙ・・・光軸方向と走査方向とを含む走査面内にお
   ける前記一方面の曲率半径ｒ＿ｙの逆数、ｃ＿ｘ・・・
   光軸を含み前記走査面に対し垂直な面内における前記一
   方面の曲率半径ｒ＿ｘの逆 数、 で表され、しかも前記曲率半径ｒ＿ｙと前記曲率半径ｒ
   ＿ｘとが相互に異符号である一方、前記アナモルフィッ
   クレンズの他方面が前記走査面内で曲成されたシリンド
   リカル面であることを特徴とする光ビーム走査装置。