JPH03250677A - レーザ装置 - Google Patents
レーザ装置Info
- Publication number
- JPH03250677A JPH03250677A JP4593490A JP4593490A JPH03250677A JP H03250677 A JPH03250677 A JP H03250677A JP 4593490 A JP4593490 A JP 4593490A JP 4593490 A JP4593490 A JP 4593490A JP H03250677 A JPH03250677 A JP H03250677A
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- Japan
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- discharge
- voltage electrode
- potential
- side electrode
- voltage side
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、高電圧側及び低電圧側電極間に、高周波電源
により高周波電圧を印加し、誘電体を隔てて高周波放電
を行うレーザ装置に関するものである。
により高周波電圧を印加し、誘電体を隔てて高周波放電
を行うレーザ装置に関するものである。
(従来の技術)
各種レーザ加工に使用される、レーザガス圧力数10t
orr〜200torr程度で高周波放電を発生させて
レーザ励起を行うレーザ装置の一例を第4図に示した。
orr〜200torr程度で高周波放電を発生させて
レーザ励起を行うレーザ装置の一例を第4図に示した。
なお、第4図は、高周波電源とレーザ発振部を表してい
る。即ち、高周波電源1は励振部2とパワーアンプ部3
より構成されており、励振部2で発生した周波数f(通
常13゜56 HM z±2KHz)の高周波電力は、
パワーアンプ部3により増幅され、特、性インピーダン
ス50Ωの同軸ケーブル4によりインピーダンス整合を
とるための整合器5を経てレーザ放電部の高電圧側電極
6aに供給される。一方、低電圧側電極6bは接地され
ている。
る。即ち、高周波電源1は励振部2とパワーアンプ部3
より構成されており、励振部2で発生した周波数f(通
常13゜56 HM z±2KHz)の高周波電力は、
パワーアンプ部3により増幅され、特、性インピーダン
ス50Ωの同軸ケーブル4によりインピーダンス整合を
とるための整合器5を経てレーザ放電部の高電圧側電極
6aに供給される。一方、低電圧側電極6bは接地され
ている。
また、高電圧側電極6aと低電圧側電極6b間に供給さ
れた高周波電圧は、各電極に隣接して配設された誘電体
7a及び7bを介してレーザガスに印加され、高周波放
電8を発生させる。なお、図には示していないが、高周
波放電8によるガス温度上昇を防ぐため、誘電体7a、
7b間にはレーザガスを流している。さらに、前記高周
波放電8を挟んで、反射鏡9と部分反射鏡10を配置し
てレーザ共振器を構成することにより、レーザ発振を行
い、レーザ光11を得るように構成されている。なお、
レーザ光11を変調する必要があるときには、励振部2
に外部よりパルス変調信号12を送ればよい。
れた高周波電圧は、各電極に隣接して配設された誘電体
7a及び7bを介してレーザガスに印加され、高周波放
電8を発生させる。なお、図には示していないが、高周
波放電8によるガス温度上昇を防ぐため、誘電体7a、
7b間にはレーザガスを流している。さらに、前記高周
波放電8を挟んで、反射鏡9と部分反射鏡10を配置し
てレーザ共振器を構成することにより、レーザ発振を行
い、レーザ光11を得るように構成されている。なお、
レーザ光11を変調する必要があるときには、励振部2
に外部よりパルス変調信号12を送ればよい。
一方、パワーアンプ部3は、高周波信号を増幅するため
の真空管13、出力インピーダンス調整用コンデンサC
,、C2及びインダクタンスL1より構成され、前記真
空管13には、真空管13を動作させるための直流の高
電圧が印加されており、さらに、この直流分を高周波出
力側に通さないためのコンデンサC3が接続されている
。また、インピーダンス整合をとるための整合器5は逆
り形であり、可変コンデンサC4とインダクタンスL2
より構成されている。
の真空管13、出力インピーダンス調整用コンデンサC
,、C2及びインダクタンスL1より構成され、前記真
空管13には、真空管13を動作させるための直流の高
電圧が印加されており、さらに、この直流分を高周波出
力側に通さないためのコンデンサC3が接続されている
。また、インピーダンス整合をとるための整合器5は逆
り形であり、可変コンデンサC4とインダクタンスL2
より構成されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記の様な構成を有する従来のレーザ装
置においては、以下に述べる様な解決すべき課題があっ
た。
置においては、以下に述べる様な解決すべき課題があっ
た。
即ち、2つの誘電体7a、7b間の距離を延ばして放電
ギャップの間隔を広くとった場合、または、レーザガス
圧力を高くした場合に、放電部に発生する高周波放電8
が、放電部下流方向にとんでしまうといった欠点があっ
た。
ギャップの間隔を広くとった場合、または、レーザガス
圧力を高くした場合に、放電部に発生する高周波放電8
が、放電部下流方向にとんでしまうといった欠点があっ
た。
この点を詳細に説明すると、第2図に示した様に、放電
部は高電圧側電極6a、低電圧側電極6b1誘電体7a
、7bと、各誘電体7a、7bを固定するための絶縁体
17a、17bより構成されている。ここで、低電圧側
電極6bは接地されており、その電位vbはOVである
。また、この放電部は金属製のレーザ容器18の一部と
して構成され、誘電体7a、7bで挟まれた放電ギャッ
プにはレーザガス流19が供給されている。
部は高電圧側電極6a、低電圧側電極6b1誘電体7a
、7bと、各誘電体7a、7bを固定するための絶縁体
17a、17bより構成されている。ここで、低電圧側
電極6bは接地されており、その電位vbはOVである
。また、この放電部は金属製のレーザ容器18の一部と
して構成され、誘電体7a、7bで挟まれた放電ギャッ
プにはレーザガス流19が供給されている。
この様な従来のレーザ装置においては、高電圧側電極6
a、低電圧側電極6bに高周波電圧V。
a、低電圧側電極6bに高周波電圧V。
を印加して高密度高周波放電8を発生させようとすると
、高周波放電8は誘電体7aとレーザ容器18間で起き
てしまう。これは、低電圧側電極6bの電位が接地電位
であるため、高周波放電が起こる際に、低電圧側の誘電
体7bの放電部側の電位が、高電圧側電極6aの電位よ
りとなるので、接地電位であるレーザ容器18の方に高
周波放電8が飛びやすくなるためである。その結果、放
電部において安定した放電が得られず、レーザ出力も低
下するといった欠点があった。
、高周波放電8は誘電体7aとレーザ容器18間で起き
てしまう。これは、低電圧側電極6bの電位が接地電位
であるため、高周波放電が起こる際に、低電圧側の誘電
体7bの放電部側の電位が、高電圧側電極6aの電位よ
りとなるので、接地電位であるレーザ容器18の方に高
周波放電8が飛びやすくなるためである。その結果、放
電部において安定した放電が得られず、レーザ出力も低
下するといった欠点があった。
本発明は、上記の様な従来技術の欠点を解消するために
提案されたもので、その目的は、広い放電ギャップをと
ったり、高いレーザガス圧力においても、放電電極間で
安定した高密度放電が実現でき、且つ、高効率でコンパ
クトなレーザ装置を提供することにある。
提案されたもので、その目的は、広い放電ギャップをと
ったり、高いレーザガス圧力においても、放電電極間で
安定した高密度放電が実現でき、且つ、高効率でコンパ
クトなレーザ装置を提供することにある。
[発明の構成コ
(課題を解決するための手段)
本発明は、高電圧側電極と低電圧側電極間に高周波電源
によって高周波電圧を印加し、誘電体を隔てて高周波放
電を発生するレーザ装置において、低電圧側電極の電位
と高電圧側電極の電位が、レーザ装置の配線に基づく浮
遊容量によって決まるように構成し、高電圧側電極と低
電圧側電極の間が接地電位となるようにしたことを特徴
とするものである。
によって高周波電圧を印加し、誘電体を隔てて高周波放
電を発生するレーザ装置において、低電圧側電極の電位
と高電圧側電極の電位が、レーザ装置の配線に基づく浮
遊容量によって決まるように構成し、高電圧側電極と低
電圧側電極の間が接地電位となるようにしたことを特徴
とするものである。
(作用)
本発明のレーザ装置によれば、高電圧側電極と低電圧側
電極の間が接地電位となるので、両電極間に発生する高
周波放電が、放電電極から接地電位であるレーザ容器側
へ飛ぶことを防止でき、誘電体間で安定した高密度の放
電を発生することができる。
電極の間が接地電位となるので、両電極間に発生する高
周波放電が、放電電極から接地電位であるレーザ容器側
へ飛ぶことを防止でき、誘電体間で安定した高密度の放
電を発生することができる。
(実施例)
以下、本発明の一実施例を第1図に基づいて具体的に説
明する。なお、第4図に示した従来形と同一の部材には
同一の符号を付して、説明は省略する。
明する。なお、第4図に示した従来形と同一の部材には
同一の符号を付して、説明は省略する。
本実施例のレーザ装置は、第1図に示した様に、自励式
高周波電源とレーザ発振部とから構成されている。即ち
、高周波電源の高周波発振部20は、高周波をトランス
結合により放電負荷側に取出しやすいコルピッツ回路で
構成され、高周波を発振するための真空管(三極管)2
1、発振周波数fを決めるコンデンサC5,C6及び負
荷との結合トランスを兼ねたインダクタンスL3より構
成されている。また、真空管21には、真空管を動作さ
せるための直流の高電圧が印加されており、さらに、こ
の直流分を高周波出力側に通さないためのコンデンサC
7が取付けられている。
高周波電源とレーザ発振部とから構成されている。即ち
、高周波電源の高周波発振部20は、高周波をトランス
結合により放電負荷側に取出しやすいコルピッツ回路で
構成され、高周波を発振するための真空管(三極管)2
1、発振周波数fを決めるコンデンサC5,C6及び負
荷との結合トランスを兼ねたインダクタンスL3より構
成されている。また、真空管21には、真空管を動作さ
せるための直流の高電圧が印加されており、さらに、こ
の直流分を高周波出力側に通さないためのコンデンサC
7が取付けられている。
なお、このとき、高周波発振部20で発生する発振周波
数fは、 f=1/2πJ]/L3・(1/C+、 + 1 /C
2)・・・(1)であり、放電負荷の変動に伴って発振
周波数が変化して、不整合状態による反射電力を和らげ
る働きがある。また、本実施例の場合、レーザ光11を
パルス変調するときには、真空管21のグリッドに外部
よりパルス変調信号12を送れば良い。
数fは、 f=1/2πJ]/L3・(1/C+、 + 1 /C
2)・・・(1)であり、放電負荷の変動に伴って発振
周波数が変化して、不整合状態による反射電力を和らげ
る働きがある。また、本実施例の場合、レーザ光11を
パルス変調するときには、真空管21のグリッドに外部
よりパルス変調信号12を送れば良い。
さらに、負荷側回路中には、コンデンサC8,C9が挿
入されており、これらのコンデンサC8゜C9により、
高電圧側電極16a及び低電圧側電極16bの電位が、
装置の浮遊容量によって決まるように構成されている。
入されており、これらのコンデンサC8゜C9により、
高電圧側電極16a及び低電圧側電極16bの電位が、
装置の浮遊容量によって決まるように構成されている。
また、前記高周波発振部20で発生した周波数f(周波
数変動幅的±10%)の高周波電力は、トランス結合2
2を介してレーザ放電部の高電圧側電極16aと低電圧
側電極16bに供給されるように構成されている。ここ
で、トランス結合22は、ある放電入力条件において(
例えば、最大放電入力)、高周波発振部20の出力イン
ピーダンスとレーザ放電部のインピーダンスとの整合を
とることができるように、1次側と2次側の巻数比を調
整している。
数変動幅的±10%)の高周波電力は、トランス結合2
2を介してレーザ放電部の高電圧側電極16aと低電圧
側電極16bに供給されるように構成されている。ここ
で、トランス結合22は、ある放電入力条件において(
例えば、最大放電入力)、高周波発振部20の出力イン
ピーダンスとレーザ放電部のインピーダンスとの整合を
とることができるように、1次側と2次側の巻数比を調
整している。
この様な構成を有する本実施例のレーザ装置における作
用について以下に述べる。
用について以下に述べる。
即ち、本実施例のレーザ装置においては、高電圧側電極
16a、低電圧側電極1.6 bの電位Va。
16a、低電圧側電極1.6 bの電位Va。
vb(va−vb−Vo)の間に接地電位があるため、
従来よりも放電ギャップの広い場合、もしくはレーザガ
ス圧力が高い場合でも、高周波放電23は、第3図に示
した様に、誘電体7a、7bの間で発生する。これは、
第2図に示した従来型の場合に、高周波放電が接地電位
であるレーザ容器18の方に飛びやすかったのと異なり
、電位的に誘電体7a、7b間に起こりやすくなってい
るからである。
従来よりも放電ギャップの広い場合、もしくはレーザガ
ス圧力が高い場合でも、高周波放電23は、第3図に示
した様に、誘電体7a、7bの間で発生する。これは、
第2図に示した従来型の場合に、高周波放電が接地電位
であるレーザ容器18の方に飛びやすかったのと異なり
、電位的に誘電体7a、7b間に起こりやすくなってい
るからである。
この様に、本実施例によれば、高電圧側電極と低電圧側
電極の間を接地電位となるようにすることによって、広
い放電ギャップ間隔や、高いレーザガス圧力となる条件
下においても、放電電極間で安定した高密度放電が実現
でき、且つ高効率でコンパクトなレーザ装置を得ること
ができる。
電極の間を接地電位となるようにすることによって、広
い放電ギャップ間隔や、高いレーザガス圧力となる条件
下においても、放電電極間で安定した高密度放電が実現
でき、且つ高効率でコンパクトなレーザ装置を得ること
ができる。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
く、レーザ発振部に配設するコンデンサC8,C7とし
て固定式のコンデンサを用いたが、少なくともどちらか
一方を可変式コンデンサとしてもよい。また、コンデン
サC8,C9を用いずに、第1図に示したトランス結合
22の位置で、−次側に対して二次側を浮かしても良い
。
く、レーザ発振部に配設するコンデンサC8,C7とし
て固定式のコンデンサを用いたが、少なくともどちらか
一方を可変式コンデンサとしてもよい。また、コンデン
サC8,C9を用いずに、第1図に示したトランス結合
22の位置で、−次側に対して二次側を浮かしても良い
。
[発明の効果]
以上述べた様に、本発明によれば、低電圧側電極の電位
と高電圧側電極の電位が、レーザ装置の配線に基づく浮
遊容量によって決まるように構成し、高電圧側電極と低
電圧側電極の間が接地電位となるようにすることによっ
て、広い放電ギャップをとったり、高いレーザガス圧力
においても、放電電極間で安定した高密度放電が実現で
き、且つ、高効率でコンパクトなレーザ装置を提供する
ことができる。
と高電圧側電極の電位が、レーザ装置の配線に基づく浮
遊容量によって決まるように構成し、高電圧側電極と低
電圧側電極の間が接地電位となるようにすることによっ
て、広い放電ギャップをとったり、高いレーザガス圧力
においても、放電電極間で安定した高密度放電が実現で
き、且つ、高効率でコンパクトなレーザ装置を提供する
ことができる。
第1図は本発明のレーザ装置の一実施例を示す回路図、
第2図は従来例の放電部付近の放電状態を示す拡大断面
図、第3図は本実施例の放電部付近の放電状態を示す拡
大断面図、第4図は従来のレーザ装置の一例を示す回路
図である。 1・・・高周波電源、2・・・励振部、3・・・パワー
アンプ部、4・・・同軸ケーブル、5・・・整合器、6
a・・・高電圧側電極、6b・・・低電圧側電極、7a
、7b・・・誘電体、8・・・高周波放電、9・・・反
射鏡、10・・・部分反射鏡、11・・・レーザ光、1
2・・・パルス変調信号、13・・・真空管、16a・
・・高電圧側電極、16b・・・低電圧側電極、20・
・・高周波発振部、21・・・真空管、22・・・トラ
ンス結合、23・・・高周波放電。 第 2 図 第 図
第2図は従来例の放電部付近の放電状態を示す拡大断面
図、第3図は本実施例の放電部付近の放電状態を示す拡
大断面図、第4図は従来のレーザ装置の一例を示す回路
図である。 1・・・高周波電源、2・・・励振部、3・・・パワー
アンプ部、4・・・同軸ケーブル、5・・・整合器、6
a・・・高電圧側電極、6b・・・低電圧側電極、7a
、7b・・・誘電体、8・・・高周波放電、9・・・反
射鏡、10・・・部分反射鏡、11・・・レーザ光、1
2・・・パルス変調信号、13・・・真空管、16a・
・・高電圧側電極、16b・・・低電圧側電極、20・
・・高周波発振部、21・・・真空管、22・・・トラ
ンス結合、23・・・高周波放電。 第 2 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 高電圧側電極と低電圧側電極間に高周波電源によって高
周波電圧を印加し、誘電体を隔てて高周波放電を発生す
るレーザ装置において、 前記低電圧側電極の電位と高電圧側電極の電位が、レー
ザ装置の配線に基づく浮遊容量によって決まるように構
成し、前記高電圧側電極と低電圧側電極の間が接地電位
となるようにしたことを特徴とするレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4593490A JPH03250677A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4593490A JPH03250677A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03250677A true JPH03250677A (ja) | 1991-11-08 |
Family
ID=12733097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4593490A Pending JPH03250677A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03250677A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60177692A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-11 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ発振装置 |
| JPS6422081A (en) * | 1987-07-17 | 1989-01-25 | Fanuc Ltd | High frequency discharge excitation laser equipment |
| JPS6422082A (en) * | 1987-07-17 | 1989-01-25 | Fanuc Ltd | High frequency discharge excitation laser equipment |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP4593490A patent/JPH03250677A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60177692A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-11 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ発振装置 |
| JPS6422081A (en) * | 1987-07-17 | 1989-01-25 | Fanuc Ltd | High frequency discharge excitation laser equipment |
| JPS6422082A (en) * | 1987-07-17 | 1989-01-25 | Fanuc Ltd | High frequency discharge excitation laser equipment |
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