JPH03250776A - Narrowband oscillation excimer laser - Google Patents
Narrowband oscillation excimer laserInfo
- Publication number
- JPH03250776A JPH03250776A JP4744490A JP4744490A JPH03250776A JP H03250776 A JPH03250776 A JP H03250776A JP 4744490 A JP4744490 A JP 4744490A JP 4744490 A JP4744490 A JP 4744490A JP H03250776 A JPH03250776 A JP H03250776A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- grating
- excimer laser
- wavelength
- slit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はステッパー用の光源として使用される狭帯域発
振エキシマレーザに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a narrowband oscillation excimer laser used as a light source for a stepper.
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕半導体
装置製造用の縮小投影露光装置(以下、ステッパーとい
う)の光源としてエキシマレーザの利用が注目されてい
る。これはエキシマレーザの波長が短い(KrFの波長
は約248.4nm)ことから光露光の限界を0.5μ
m以下に延ばせる可能性があること、同じ解像度なら従
来用いていた水銀ランプのg線やi線に比較して焦点深
度が深いこと、レンズの開口数(NA)が小さくて済み
、露光領域を大きくできること、大きなパワーが得られ
ること等の多くの優れた利点が期待できるからである。[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] The use of an excimer laser as a light source for a reduction projection exposure apparatus (hereinafter referred to as a stepper) for manufacturing semiconductor devices is attracting attention. This is because the wavelength of excimer laser is short (the wavelength of KrF is approximately 248.4 nm), so the limit of optical exposure is 0.5μ.
m or less, the depth of focus is deeper than the g-line and i-line of conventional mercury lamps for the same resolution, and the numerical aperture (NA) of the lens can be small, making it possible to expand the exposure area. This is because it can be expected to have many excellent advantages such as being able to be made larger and having greater power.
ところで、ステッパーの光源として利用されるエキシマ
レーザとしては線幅3pm以下の狭帯化が要求され、し
かも大きな出力パワーが要求される。Incidentally, an excimer laser used as a light source for a stepper is required to have a narrow line width of 3 pm or less, and is required to have a large output power.
エキシマレーザの狭帯域化の技術としては従来インジェ
ンクションロック方式と呼ばれるものがある。このイン
ジエンクションロック方式は、オシレータ段のキャビテ
ィ内に波長選択素子(エタロン、回折格子、プリズム等
)を配置し、ピンホールによって空間モードを制限して
単一モード発振させ、このレーザ光を増幅段によって注
入同期する。この方式によると比較的大きな出力パワが
得られるが、ミスショットがあったり、ロッキング効率
を100%とすることが困難であったり、スペクトル純
度が悪くなるという欠点がある。また、この方式の場合
その出力光はコヒーレンス性が高く、これを縮小露光装
置の光源に用いた場合はスペックル・パターンが発生す
る。一般にスペックル・パターンの発生はレーザ光に含
まれる空間横モードの数に依存すると考えられている。As a technique for narrowing the band of an excimer laser, there is a conventional technique called an injection lock method. This injection locking method places a wavelength selection element (etalon, diffraction grating, prism, etc.) inside the cavity of the oscillator stage, limits the spatial mode with a pinhole, causes single mode oscillation, and amplifies this laser light. Injection locking by stage. Although relatively large output power can be obtained with this method, there are drawbacks such as miss shots, difficulty in achieving 100% locking efficiency, and poor spectral purity. Furthermore, in the case of this method, the output light has high coherence, and if this is used as a light source for a reduction exposure device, a speckle pattern will occur. It is generally believed that the generation of speckle patterns depends on the number of spatial transverse modes included in laser light.
すなわち、レーザ光に含まれる空間横モードの数が少な
いとスペックル・パターンが発生し易くなり、逆に空間
モードの数が多くなるとスペックル・パターンは発生し
にくくなることが知られている。That is, it is known that when the number of spatial transverse modes included in laser light is small, speckle patterns are more likely to occur, and conversely, when the number of spatial modes is large, speckle patterns are less likely to occur.
上述したインジエクションロツタ方式は本質的には空間
横モードの数を著しく減らすことによって狭帯域化を行
う技術であり、スペックル・パターンの発生が大きな問
題となるため縮小投影露光装置には採用できない。The above-mentioned injection rotary method is essentially a technology that narrows the band by significantly reducing the number of spatial transverse modes, and because the generation of speckle patterns is a major problem, it is not used in reduction projection exposure equipment. Can not.
エキシマレーザの狭帯域化の技術として他に有望なもの
は波長選択素子であるエアーギヤ・ツブエタロンを用い
たものがある。このエアーギヤ・ツブエタロンを用いた
従来技術ではエキシマレーザのキャビティ内に複数個の
エアーギャップエタロンを配置してエキシマレーザの狭
帯域化を図ろうとしている。Another promising technique for narrowing the band of excimer lasers is one that uses an air gear tube etalon, which is a wavelength selection element. In the conventional technology using this air gear tube etalon, a plurality of air gap etalons are arranged within the cavity of the excimer laser in an attempt to narrow the band of the excimer laser.
ところが、レーザキャビティ内にエタロンを配置した場
合、単一段のステッパ用の狭帯域発振エキシマレーザは
エタロンを透過するエネルギー密度が非常に高いために
、エタロンの反射膜が少ないショツト数で劣化してしま
い、エタロンの透過率が著しく減少したり、フィネスが
小さくなることによって、出力レーザ光のスペクトル純
度及びパワーが著しく低下していた。また、この従来技
術によれば、エタロンを透過するエネルギー密度が高い
ため、熱によって、エタロンのギャップが変化し、この
結果エタロンの透過波長のシフトが大きくなり、波長の
制御性を著しく低下させるという不具合があった。However, when an etalon is placed inside a laser cavity, the energy density transmitted through the etalon is extremely high in narrow-band oscillation excimer lasers for single-stage steppers, so the etalon's reflective film deteriorates with a small number of shots. , the spectral purity and power of the output laser beam were significantly reduced due to a significant decrease in the transmittance of the etalon and a decrease in finesse. Furthermore, according to this conventional technology, since the energy density transmitted through the etalon is high, the etalon gap changes due to heat, resulting in a large shift in the transmission wavelength of the etalon, which significantly reduces wavelength controllability. There was a problem.
また、他の従来技術として狭帯域化素子としてプリズム
ビームエキスパンダおよびグレーティングを用いたもの
があるが、この場合には線幅を細くするためにアパーチ
ャを挿入する必要があり、この為高効率で発振させるた
めに放電のエネルギー密度を高くして発振させていた。In addition, other conventional technologies use prism beam expanders and gratings as band narrowing elements, but in this case, it is necessary to insert an aperture to narrow the line width, which results in high efficiency. In order to oscillate, the energy density of the discharge was increased to cause oscillation.
したがって、この従来装置では放電電極の寿命が非常に
短くなるという不具合があった。Therefore, this conventional device has a problem in that the life of the discharge electrode is extremely short.
さらに、これらの従来技術では一般にビーム拡がりが大
きいので出力制御のために放電電圧を変化させると、放
電幅が変化して、波長線幅及び発振効率が変化するとい
う問題があった。Furthermore, these conventional techniques generally have a large beam spread, so when the discharge voltage is changed to control the output, the discharge width changes, causing a change in the wavelength line width and oscillation efficiency.
この発明はこのような事情に鑑がみてなされたもので、
狭帯域化及び装置の長寿命化を図ると共に波長の制御性
を向上させ、さらに波長線幅が放電幅に左右されずに高
出力を得ることができる狭帯域発振エキシマレーザを提
供することを目的とする。This invention was made in view of these circumstances,
The purpose of the present invention is to provide a narrowband oscillation excimer laser that can narrow the band and extend the life of the device, improve wavelength controllability, and obtain high output without having the wavelength line width influenced by the discharge width. shall be.
上記目的を達成するためこの発明においては、狭帯域化
素子としてグレーティングを具えた狭帯域発振エキシマ
レーザにおいて、前記グレーティングとレーザチャンバ
との間に空間フィルタを配置するようにしている。In order to achieve the above object, in the present invention, in a narrow band oscillation excimer laser including a grating as a band narrowing element, a spatial filter is disposed between the grating and the laser chamber.
かかる構成によれば、空間フィルタによりグレーティン
グに入射するレーザ光のビーム拡がりを小さくしている
。According to this configuration, the beam spread of the laser light incident on the grating is reduced by the spatial filter.
以下、この発明の実施例を添付図面を参照して詳細に説
明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
第1図はこの発明の狭帯域発振エキシマレーザの一実施
例を示した側面図である。この実施例の狭帯域発振エキ
シマレーザは、フロントミラー1と、リアミラーおよび
波長選択素子の機能を有すルクレーティング6との間に
、レーザチャンバ3、および波長選択素子として機能す
る空間フィルタ20が配設される。空間フィルタ20は
この場合集光し゛ンズ4.4′とアパーチャ5て構成し
ている。すなわちこの場合はフロントミラー1とグレー
ティング6との間に光共振器が構成されている。FIG. 1 is a side view showing an embodiment of a narrow band oscillation excimer laser according to the present invention. In the narrowband oscillation excimer laser of this embodiment, a laser chamber 3 and a spatial filter 20 that functions as a wavelength selection element are arranged between a front mirror 1 and a rear mirror 6 that functions as a wavelength selection element. will be established. In this case, the spatial filter 20 is composed of a light collecting lens 4,4' and an aperture 5. That is, in this case, an optical resonator is configured between the front mirror 1 and the grating 6.
このグレーティングの配置は謂ゆるりドロー配置である
。This grating arrangement is a so-called loose draw arrangement.
レーザチャンバ3はその内にKrF等を含むレーザガス
が循環可能に充填され、更にレーザチャンバ3の両端に
は所定の角度で配置されたウィンドウ2a、2bが設け
られている。The laser chamber 3 is filled with a laser gas containing KrF or the like in a circulatory manner, and windows 2a and 2b are provided at both ends of the laser chamber 3 at a predetermined angle.
グレーティング6は、光の回折を利用して特定波長の光
を選択するもので、一定方向に配列された多数の溝が形
成されている。この明細書ではこの多数の溝と直角の方
向を線引方向と称している。The grating 6 uses light diffraction to select light of a specific wavelength, and has a large number of grooves arranged in a fixed direction. In this specification, the direction perpendicular to the many grooves is referred to as the drawing direction.
グレーティング6は、この線引方向を含む平面内で、入
射光に対するグレーティング6の角度θを可変させるこ
とにより、特定の波長の光を選択する。すなわち、グレ
ーティング6は入射光に対するグレーティングの角度に
対応する特定の光のみを所定の方向(この場合入射光の
方向)に反射させ、これによって特定の波長の光に対す
る選択動作を行なう。The grating 6 selects light of a specific wavelength by varying the angle θ of the grating 6 with respect to the incident light within a plane including the drawing direction. That is, the grating 6 reflects only a specific light corresponding to the angle of the grating with respect to the incident light in a predetermined direction (in this case, the direction of the incident light), thereby performing a selection operation for light of a specific wavelength.
このように、空間フィルタ20をレーザチャンバ3とグ
レーティング6との間に配置することで、グレーティン
グ6に入射するビームの拡がりを小さくして、効率よい
狭帯域化を行うようにしている。By arranging the spatial filter 20 between the laser chamber 3 and the grating 6 in this manner, the spread of the beam incident on the grating 6 is reduced, and the band is efficiently narrowed.
なおこの実施例において、アパーチャ5の代わりにスリ
ットを配置するようにしてもよい。ただし、スリットを
配置する場合は、スリットの長手方向とグレーティング
6の線引き方向とが垂直になるように配置して、グレー
ティング6におけるビーム塩がりを最小にし、効率よく
狭帯域化するようにする。Note that in this embodiment, a slit may be arranged instead of the aperture 5. However, when slits are arranged, they are arranged so that the longitudinal direction of the slits and the drawing direction of the grating 6 are perpendicular to minimize beam distortion in the grating 6 and efficiently narrow the band.
第2図(a) 、 (b)は第1図に示した実施例の空
間フィルタ20をシリンドリカルレンズ8.8′とスリ
ット7で構成したこの発明の他の実施例を平面図および
側面図で示したものである。この実施例では、シリンド
リカルレンズ8.8′によりレーザ光を線光線として集
光するため、先の第1図の実施例に比べてエネルギー密
度がより小さくなり、スリット7の寿命をより延ばすこ
とができる。FIGS. 2(a) and 2(b) show a plan view and a side view of another embodiment of the present invention in which the spatial filter 20 of the embodiment shown in FIG. This is what is shown. In this embodiment, the cylindrical lens 8.8' focuses the laser beam as a linear beam, so the energy density is lower than in the embodiment shown in FIG. 1, and the life of the slit 7 can be further extended. can.
第3図(a) 、(b)は第1図に示した実施例におけ
る放電方向とスリット7の配置方向との関係を特定した
この発明の他の実施例を平面図および側面図で示したも
のである。FIGS. 3(a) and 3(b) show a plan view and a side view of another embodiment of the present invention in which the relationship between the discharge direction and the arrangement direction of the slits 7 in the embodiment shown in FIG. 1 is specified. It is something.
この実施例では、スリット7の長手方向をレーザの放電
方向とほぼ一致させることでスリット7によってけられ
るレーザ光を少なくし空間フィルタ20の透過率を向上
させている。すなわぢ、レーザチャンバ3のウィンドウ
2bから出力されるレーザビームの広がり角は一般に電
極9.9による放電方向すなわち電極9.9の配列方向
よりも、この放電方向に垂直な方向の方が小さく、その
形状は縦長の長方形状となっている。そこで、このレー
ザ断面形状に対応するようスリット7を配置することに
より空間フィルタ20の透過率を向上させて効率のよい
狭帯域化をなし得るようにしている。In this embodiment, by making the longitudinal direction of the slit 7 substantially coincide with the discharge direction of the laser, the amount of laser light blocked by the slit 7 is reduced and the transmittance of the spatial filter 20 is improved. In other words, the spread angle of the laser beam output from the window 2b of the laser chamber 3 is generally smaller in the direction perpendicular to the discharge direction than in the direction of discharge by the electrodes 9.9, that is, the direction in which the electrodes 9.9 are arranged. , its shape is a vertically long rectangle. Therefore, by arranging the slit 7 so as to correspond to this laser cross-sectional shape, the transmittance of the spatial filter 20 is improved and efficient band narrowing can be achieved.
第4図は(a) 、 (b)は第2図に示した実施例に
おいて放電方向とスリット7の長手方向とシリンドリカ
ルレンズ8.8′の機械軸をほぼ一致させ、さらにこれ
らの方向がグレーティング6の線引き方向(第4図(b
)では紙面に垂直な方向)とほぼ垂直になるようにした
この発明の他の実施例を平面図および側面図で示したも
のである。FIGS. 4(a) and 4(b) show that in the embodiment shown in FIG. 2, the discharge direction, the longitudinal direction of the slit 7, and the mechanical axis of the cylindrical lens 8.8' are substantially aligned, and furthermore, these directions are aligned with the grating. 6 drawing direction (Fig. 4(b)
) shows a plan view and a side view of another embodiment of the present invention, which is arranged substantially perpendicular to the plane of the drawing.
このように構成すれば、スリット7によってけられるレ
ーザ光を少なくなり空間フィルタ20の透過率が向上し
、しかもシリンドリカルレンズ8.8′により集光して
いるためにエネルギー密度が小さくなり、スリット7の
寿命をより延ばすことができる。さらに、グレーティン
グ6の線引方向も電極9.9による放電方向に対して垂
直になるようにグレーティング6を配置するようにして
いるので、グレーティング6におけるビーム広がりを最
小にすることができ、これにより効率よく狭帯域化する
ことができる。With this configuration, the amount of laser light that is rejected by the slit 7 is reduced, and the transmittance of the spatial filter 20 is improved.Moreover, since the laser light is focused by the cylindrical lens 8.8', the energy density is reduced, and the slit 7 The lifespan of can be further extended. Furthermore, since the grating 6 is arranged so that the drawing direction of the grating 6 is also perpendicular to the discharge direction by the electrodes 9.9, the beam spread in the grating 6 can be minimized. Bandwidth can be narrowed efficiently.
第5図(a) 、 (b)は第4図に示した実施例にプ
リズムビームエキスパンダ10を追加したこの発明の他
の実施例を平面図および側面図で示したものテアリ、プ
リズムビームエキスパンダ1oは空間フィル゛り20と
グレーティング6の間に配置するようにしている。5(a) and 5(b) show a plan view and a side view of another embodiment of the present invention in which a prism beam expander 10 is added to the embodiment shown in FIG. 4. The panda 1o is arranged between the spatial filter 20 and the grating 6.
ここで、ビームエキスパンダ10によるビーム拡大方向
はレーザチャンバ3内の電極り、9による放電方向と垂
直な方向に一致している。Here, the direction of beam expansion by the beam expander 10 coincides with the direction perpendicular to the direction of discharge by the electrodes 9 in the laser chamber 3.
このような構成によれば、ビームエキスパンダ10によ
ってビームを拡大するようにしているので、レーザビー
ムのエネルギー密度がさらに小さくなり、スリット7及
びグレーティング6の寿命を延ばすことができる。さら
に、その拡大方向は電極9.9による放電方向と垂直な
方向のみであるので、グレーティングに入射するビーム
拡がり角を更に小さくすることができ、これによりより
効率良く狭帯域化することができる。According to such a configuration, since the beam is expanded by the beam expander 10, the energy density of the laser beam is further reduced, and the life of the slit 7 and the grating 6 can be extended. Furthermore, since the direction of expansion is only perpendicular to the direction of discharge by the electrodes 9.9, the beam divergence angle entering the grating can be further reduced, thereby making it possible to narrow the band more efficiently.
第6図(a) 、 (b)は第4図に示した実施例のシ
リンドリカルレンズ8′の配置位置をずらせて空間フィ
ルタ20とビームエキスパンダとの機能を2個のシリン
ドリカルレンズ8.8′とスリット7のみで実現したこ
の発明の他の実施例を側面図および平面図で示したもの
である。6(a) and 6(b) show that the cylindrical lens 8' of the embodiment shown in FIG. 4 is arranged in a different position so that the functions of the spatial filter 20 and the beam expander are replaced by two cylindrical lenses 8.8'. A side view and a plan view of another embodiment of the present invention realized using only the slit 7 and the slit 7 are shown.
このようにすることにより、ビームエキスパンダを省略
することができる。By doing so, the beam expander can be omitted.
第7図は空間フィルタ20を凹面鏡(または放物面鏡)
]]、11′とスリット7て構成したものである。なお
、この凹面鏡(または放物面鏡)11.11′をシリン
ドリカル形状に構成すれば、スリット7には線光線が集
光されるためにスリット7の耐久性を増すことができる
。Figure 7 shows the spatial filter 20 as a concave mirror (or parabolic mirror).
]], 11' and a slit 7. Note that if the concave mirror (or parabolic mirror) 11, 11' is configured in a cylindrical shape, the durability of the slit 7 can be increased because the linear beam is focused on the slit 7.
なお、実施例では、リトロ−配置のみを例示したが本発
明は射入射配置でも適用することができる。また、実施
例では空間フィルタ20として単レンズを例にあげたが
、収差補正を施した組レンズ、非球面レンズなどを用い
ればさらに良好な狭帯域化をなし得る。さらに色収差補
正を施せば、レンズの色が変化しても焦点位置が変化し
ないためさらに良好な狭帯域化をなし得る。In the embodiments, only the retro arrangement is illustrated, but the present invention can also be applied to an incident arrangement. Further, in the embodiment, a single lens is used as an example of the spatial filter 20, but even better band narrowing can be achieved by using a lens set with aberration correction, an aspherical lens, or the like. Furthermore, if chromatic aberration correction is performed, even if the color of the lens changes, the focal position will not change, so that even better band narrowing can be achieved.
以上説明したようにこの発明によれば、(1)空間フィ
ルタによりビーム拡がりを小さくしているので、キャビ
ティ内にアパーチャを挿入しなくでも効率よく狭帯域化
ができ、またアパーチャを挿入しなくてもよいので高出
力が得られる。As explained above, according to the present invention, (1) the spatial filter reduces the beam spread, so it is possible to efficiently narrow the band without inserting an aperture inside the cavity; It is also possible to obtain high output.
(2)空間フィルタによりビーム拡がりを小さくシフて
いるので、放電幅が変化しても波長線幅が変化しないよ
うになり、これにより放電幅を大きくしてエネルギー密
度を小さくすることができるようになり、もって光学素
子および放電電極の寿命を飛躍的に延ばすことができる
とともに、高効率での出力制御が可能になる。(2) Since the beam spread is shifted to a small value using a spatial filter, the wavelength line width does not change even if the discharge width changes, which makes it possible to increase the discharge width and reduce the energy density. As a result, the lifespan of the optical element and the discharge electrode can be dramatically extended, and output control can be performed with high efficiency.
(3)空間フィルタとしてシリンドリカルレンズとスリ
ットを使用するとスリットにはエネルギー密度の低い線
光線が入射されることになり、スリットの寿命を飛p的
に延ばすことができる。(3) When a cylindrical lens and a slit are used as a spatial filter, a ray with low energy density is incident on the slit, and the life of the slit can be dramatically extended.
などの優れた効果を奏する。It has excellent effects such as
第1図はこの発明の一実施例を示す平面図、第2図(a
)(b)乃至第6図(a) (b)は夫々この発明の他
の実施例を示す平面図および側面図、第7図はこの発明
の更に他の実施例を示す平面図である。
1・・・フロントミラー 2a、2b・・・ウィンドウ
、3・・・レーザチャンバ、4・・・集光レンズ、5・
・アパーチャ、6・・・グレーティング、7・・・スリ
ット、8・・・シリンドリカルレンズ、9・・・放電電
極、10・・・プリズムビームエキスノくンダ、20・
・・空間フィルタ
第1
図
0
(b)
第2
図
第3
図
(0)
0
第4
図
に
(b)
第5図
(CI>
To)
第6図FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the present invention, and FIG.
)(b) to 6(a) and 6(b) are respectively a plan view and a side view showing other embodiments of the present invention, and FIG. 7 is a plan view showing still another embodiment of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Front mirror 2a, 2b... Window, 3... Laser chamber, 4... Condensing lens, 5...
・Aperture, 6... Grating, 7... Slit, 8... Cylindrical lens, 9... Discharge electrode, 10... Prism beam extractor, 20.
...Spatial filter 1 Figure 0 (b) Figure 2 Figure 3 Figure (0) 0 Figure 4 (b) Figure 5 (CI> To) Figure 6
Claims (9)
域発振エキシマレーザにおいて、 前記グレーティングとレーザチャンバとの間に空間フィ
ルタを配置するようにしたことを特徴とする狭帯域発振
エキシマレーザ。(1) A narrowband oscillation excimer laser including a grating as a band narrowing element, characterized in that a spatial filter is disposed between the grating and the laser chamber.
有して成る請求項(1)記載の狭帯域発振エキシマレー
ザ。(2) The narrowband oscillation excimer laser according to claim (1), wherein the spatial filter comprises a condenser lens and a slit.
スリットを有して成る請求項(1)記載の狭帯域発振エ
キシマレーザ。(3) The narrowband oscillation excimer laser according to claim (1), wherein the spatial filter comprises a cylindrical lens and a slit.
て成る請求項(1)記載の狭帯域発振エキシマレーザ。(4) The narrowband oscillation excimer laser according to claim (1), wherein the spatial filter comprises a concave mirror and a slit.
して成る請求項(1)記載の狭帯域発振エキシマレーザ
。(5) The narrowband oscillation excimer laser according to claim (1), wherein the spatial filter comprises a parabolic mirror and a slit.
向が略垂直になるよう配置したことを特徴とする請求項
(2)または(3)または(4)または(5)記載の狭
帯域発振エキシマレーザ。(6) The narrowband oscillation excimer laser according to claim 2, wherein the longitudinal direction of the slits and the drawing direction of the grating are substantially perpendicular to each other.
の長手方向とを略一致させ、かつこれらの方向をグレー
ティングの線引き方向と略垂直になるよう配置したこと
を特徴とする請求項(3)記載の狭帯域発振エキシマレ
ーザ。(7) The cylindrical lens according to claim (3), characterized in that the direction of the mechanical axis of the cylindrical lens and the longitudinal direction of the slit are substantially aligned, and these directions are arranged to be substantially perpendicular to the drawing direction of the grating. Narrowband oscillation excimer laser.
と略一致させるよう配置したことを特徴とする請求項(
7)記載の狭帯域発振エキシマレーザ。(8) Claim (8) characterized in that the cylindrical lens is arranged so that the direction of the mechanical axis substantially coincides with the discharge direction.
7) The narrowband oscillation excimer laser described above.
るビームエキスパンダを更に具える請求項(1)記載の
狭帯域発振エキシマレーザ。(9) The narrowband oscillation excimer laser according to claim (1), further comprising a beam expander disposed between the spatial filter and the grating.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04744490A JP3360078B2 (en) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | Narrow band oscillation laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04744490A JP3360078B2 (en) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | Narrow band oscillation laser |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001380190A Division JP2002237634A (en) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | Narrow band oscillation laser |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03250776A true JPH03250776A (en) | 1991-11-08 |
| JP3360078B2 JP3360078B2 (en) | 2002-12-24 |
Family
ID=12775316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04744490A Expired - Lifetime JP3360078B2 (en) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | Narrow band oscillation laser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3360078B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06164029A (en) * | 1992-11-18 | 1994-06-10 | Komatsu Ltd | Narrow-band laser apparatus |
| EP1054490A3 (en) * | 1999-05-10 | 2001-01-24 | Cymer, Inc. | Line narrowed laser with spatial filter |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102540497A (en) * | 2011-04-02 | 2012-07-04 | 北京国科世纪激光技术有限公司 | Spatial filter and high energy laser system thereof |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4156852A (en) | 1978-01-11 | 1979-05-29 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Multipass laser amplification with near-field far-field optical separation |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP04744490A patent/JP3360078B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06164029A (en) * | 1992-11-18 | 1994-06-10 | Komatsu Ltd | Narrow-band laser apparatus |
| EP1054490A3 (en) * | 1999-05-10 | 2001-01-24 | Cymer, Inc. | Line narrowed laser with spatial filter |
| US6556612B2 (en) | 1999-05-10 | 2003-04-29 | Cymer, Inc. | Line narrowed laser with spatial filter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3360078B2 (en) | 2002-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2531788B2 (en) | Narrowband oscillation excimer laser | |
| JP2631554B2 (en) | Laser wavelength controller | |
| US20010009251A1 (en) | Laser machining apparatus | |
| KR20040002536A (en) | Method and apparatus of controlling a laser light source, exposure method and apparatus, and method of manufacturing a device | |
| JP2001203417A (en) | LINE NARROW-BAND ArF EXCIMER LASER | |
| JP2619473B2 (en) | Reduction projection exposure method | |
| JP2001044549A (en) | Line-narrowed laser with spatial filter | |
| JP2631567B2 (en) | Narrow-band oscillation excimer laser | |
| JPH09214023A (en) | Synchronous injection laser device | |
| JP3360078B2 (en) | Narrow band oscillation laser | |
| JP2631553B2 (en) | Laser wavelength controller | |
| JPH03250777A (en) | Narrow-band oscillation excimer laser | |
| JP2961428B2 (en) | Narrow-band oscillation excimer laser | |
| JPH10112570A (en) | Narrow-band oscillation excimer laser | |
| JP2004140265A (en) | Narrow-band laser apparatus | |
| JPH1062710A (en) | Illumination optical system | |
| JP2002237634A (en) | Narrow band oscillation laser | |
| JP2967623B2 (en) | Narrow band laser oscillator | |
| JPH0346284A (en) | Narrowband oscillation excimer laser | |
| JP2787205B2 (en) | Output control method and apparatus for narrow band oscillation excimer laser | |
| JP2688991B2 (en) | Narrow-band oscillation excimer laser | |
| JPH04248556A (en) | Reduction stepper | |
| JP2000216464A (en) | Essell grating used for narrow band laser device | |
| JPH0423480A (en) | Narrow band laser device | |
| JPH03218081A (en) | copper vapor laser equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081018 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091018 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101018 Year of fee payment: 8 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101018 Year of fee payment: 8 |