JPH0346284A - Narrowband oscillation excimer laser - Google Patents
Narrowband oscillation excimer laserInfo
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- JPH0346284A JPH0346284A JP18167989A JP18167989A JPH0346284A JP H0346284 A JPH0346284 A JP H0346284A JP 18167989 A JP18167989 A JP 18167989A JP 18167989 A JP18167989 A JP 18167989A JP H0346284 A JPH0346284 A JP H0346284A
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- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はステッパー用の光源として使用される狭帯域
発振エキシマレーザに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] This invention relates to a narrowband oscillation excimer laser used as a light source for a stepper.
半導体装置製造用の縮小投影露光装置(以下、ステッパ
ーという)の光源としてエキシマレーザの利用が注目さ
れている。これはエキシマレーザの波長が短い(KrF
の波長は約248.4nm)ことから光露光の限界を0
.5μm以下に延ばせる可能性があること、同じ解像度
なら従来用いていた水銀ランプのg線やi線に比較して
焦点深度が深いこと、レンズの開口数(NA)が小さく
て済み、露光領域を大きくできること、大きなパワーが
得られること等の多くの優れた利点が期待できるからで
ある。The use of excimer lasers as light sources for reduction projection exposure apparatuses (hereinafter referred to as steppers) for manufacturing semiconductor devices is attracting attention. This is due to the short wavelength of excimer laser (KrF
The wavelength of
.. It is possible to extend the length to 5 μm or less, the depth of focus is deeper than the G-line and I-line of conventional mercury lamps for the same resolution, and the numerical aperture (NA) of the lens can be small, making it possible to expand the exposure area. This is because it can be expected to have many excellent advantages such as being able to be made larger and having greater power.
ところで、ステッパーの光源として利用されるエキシマ
レーザとしては線幅3pm以下の狭帯化が要求され、し
かも大きな出力パワーが要求される。Incidentally, an excimer laser used as a light source for a stepper is required to have a narrow line width of 3 pm or less, and is required to have a large output power.
エキシマレーザの狭帯域化の技術としては従来インジエ
ンクションロック方式と呼ばれるものがある。このイン
ジエンクションロック方式は、オシレータ段のキャビテ
ィ内に波長選択素子(エタロン、回折格子、プリズム等
)を配置し、ピンホールによって空間モードを制限して
単一モード発振させ、このレーザ光を増幅段によって注
入同期する。この方式によると比較的大きな出力パワー
が得られるが、ミスショットがあったり、ロッキング効
率を100%とすることが困難であったり、スペクトル
純度が悪くなるという欠点がある。また、この方式の場
合その出力光はコヒーレンス性が高く、これを縮小露光
装置の光源に用いた場合はスペックル・パターンが発生
する。一般にスペックル・パターンの発生はレーザ光に
含まれる空間横モードの数に依存すると考えられている
。すなわち、レーザ光に含まれる空間横モードの数が少
ないというスペックル・パターンが発生し易くなり、逆
に空間モードの数が多くなるとスペックル・パターンは
発生しにくくなることが知られている。上述したインジ
ェクションロック方式は本質的には空間横モードの数を
著しく減らすことによって狭帯域化を行う技術であり、
スペックル・パターンの発生が大きな問題となるため縮
小投影露光装置には採用できない。As a technique for narrowing the band of an excimer laser, there is a conventional technique called an injection locking method. This injection locking method places a wavelength selection element (etalon, diffraction grating, prism, etc.) inside the cavity of the oscillator stage, limits the spatial mode with a pinhole, causes single mode oscillation, and amplifies this laser light. Injection locking by stage. Although relatively large output power can be obtained with this method, there are drawbacks such as miss shots, difficulty in achieving 100% locking efficiency, and poor spectral purity. Furthermore, in the case of this method, the output light has high coherence, and if this is used as a light source for a reduction exposure device, a speckle pattern will occur. It is generally believed that the generation of speckle patterns depends on the number of spatial transverse modes contained in laser light. That is, it is known that when the number of spatial transverse modes included in laser light is small, speckle patterns are more likely to occur, and conversely, when the number of spatial modes is large, speckle patterns are less likely to occur. The injection locking method described above is essentially a technology that narrows the band by significantly reducing the number of spatial transverse modes.
Since the generation of speckle patterns is a serious problem, it cannot be used in a reduction projection exposure apparatus.
エキシマレーザの狭帯域化の技術として他に有望なもの
は波長選択素子であるエタロンを用いたものがある。こ
のエタロンを用いた従来技術としてはAT&Tベル研究
所によるエキシマレーザのフロントミラーとレーザチャ
ンバとの間にエタロンを配置し、エキシマレーザの狭帯
域化を図ろうとする技術、または本発明者等によるエキ
シマレーザのりアミラーとレーザチャバとの間にエタロ
ンを配置し、エキシマレーザの狭帯域化を図ろうとする
技術が提案されている。Another promising technique for narrowing the band of excimer lasers is the use of an etalon, which is a wavelength selection element. Conventional techniques using this etalon include a technique developed by AT&T Bell Laboratories in which an etalon is placed between the front mirror of an excimer laser and a laser chamber to narrow the band of the excimer laser, and a technique developed by the present inventors in which an etalon is placed between the front mirror of an excimer laser and a laser chamber, and an excimer laser developed by the present inventors. A technique has been proposed in which an etalon is disposed between a laser beam mirror and a laser chamber to narrow the band of the excimer laser.
第6図はエキシマレーザのフロントミラー1とレーザチ
ャンバ4との間に2枚のエタロン2a。FIG. 6 shows two etalons 2a between the front mirror 1 of the excimer laser and the laser chamber 4.
2bを挿入して構成した従来装置を示すものである。な
お、第5図において5はりアミラー 3a。2b shows a conventional device configured by inserting the 2b. In addition, in FIG. 5, 5 beam mirror 3a.
3bはレーザチャンバ4のウィンドウを示す。3b shows the window of the laser chamber 4.
また第7図はエキシマレーザのりアミラー5とレーザチ
ャンバ4との間に2枚のエタロン2a。Further, FIG. 7 shows two etalons 2a between the excimer laser beam mirror 5 and the laser chamber 4.
2bを挿入して構成した他の従来装置を示すものである
。2b shows another conventional device configured by inserting the 2b.
また、第8図に示すようにレーザチャンバ4とエタロン
2aとの間に、例えば凸レンズ6と凹レンズ7との組み
合わせからなるコリメータを挿入して有効面積の小さな
エタロンを使用できるようにしたものもある。Furthermore, as shown in FIG. 8, a collimator made of, for example, a combination of a convex lens 6 and a concave lens 7 is inserted between the laser chamber 4 and the etalon 2a so that an etalon with a small effective area can be used. .
ところで、第6図、第7図、第8図に示すようなレーザ
キャビティ内にエタロンを配置して構成した狭帯域発振
エキシマレーザは、エタロンを透過するレーザ光のエネ
ルギー密度は非常に高いためエタロンの反射膜が少ない
ショツト数で劣化してしまい、エタロンの透過率が著し
く減少したり、フィネスが小さくなったりすることがあ
った。By the way, narrowband oscillation excimer lasers, which are constructed by arranging an etalon inside a laser cavity as shown in Figs. The reflective film deteriorates with a small number of shots, resulting in a significant decrease in etalon transmittance and finesse.
この場合は出力レーザ光のスペクトル純度またはパワー
が著しく低下することになった。これはエキシマレーザ
をステッパー用の光源として使用する場合には特に問題
となった。In this case, the spectral purity or power of the output laser light was significantly reduced. This became a particular problem when an excimer laser was used as a light source for a stepper.
また第8図に示すようにコリメータレンズを使用して、
エタロンに入射するレーザビーム面積が出力レーザビー
ム面積より小さくしたものにおいてはこの傾向は更に顕
著となった。Also, as shown in Figure 8, using a collimator lens,
This tendency became even more pronounced when the laser beam area incident on the etalon was made smaller than the output laser beam area.
そこで、この発明はエタロンの劣化をできるだけおさえ
るようにした狭帯域発振エキシマレーザを提供すること
を目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a narrowband oscillation excimer laser in which deterioration of the etalon is suppressed as much as possible.
上記目的を達成するため、この発明においてはレーザチ
ャンバとエタロンとの間にビームエキスパンダを配置し
てエタロンに入射するレーザビームを拡大するように構
成される。In order to achieve the above object, the present invention is configured such that a beam expander is disposed between the laser chamber and the etalon to expand the laser beam incident on the etalon.
これによってエタロンを透過するレーザ光のエネルギー
密度は大幅に減少され、エタロンの劣化を飛躍的におさ
えることができる。As a result, the energy density of the laser beam that passes through the etalon is significantly reduced, and deterioration of the etalon can be dramatically suppressed.
以下、この発明の実施例を添付図面を参照して詳細に説
明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
第1図はこの発明の狭帯域発振エキシマレーザの一実施
例を示したものである。第1図において、フロントミラ
ー1とりアミラー5との間にレーザチャンバ4、ビーム
エキスパンダ8、エタロン2a、2bが配設される。こ
こでフロントミラー1とりアミラー5とは光共振器を構
成している。FIG. 1 shows an embodiment of a narrow band oscillation excimer laser according to the present invention. In FIG. 1, a laser chamber 4, a beam expander 8, and etalons 2a and 2b are arranged between a front mirror 1 and an rear mirror 5. Here, the front mirror 1 and the rear mirror 5 constitute an optical resonator.
レーザチャンバ4はその内にKrF等を含むレーザガス
が循環可能に充填され、またレーザガスを励起させるた
め図示しない放電電極が配置されている。更にレーザチ
ャンバ4の両端には所定の角で配置されたフィンドウ3
a、3bが設けられている。The laser chamber 4 is filled with a laser gas containing KrF or the like in a circulable manner, and is provided with a discharge electrode (not shown) for exciting the laser gas. Furthermore, fin windows 3 are arranged at predetermined angles at both ends of the laser chamber 4.
a and 3b are provided.
ビームエキスパンダ8はレーザチャンバ4のウィンドウ
3bから出力されたレーザ光の面積を拡大するためのも
ので、このビームエキスパンダで拡大されたレーザ光は
エタロン2a、2bに照射される。The beam expander 8 is for expanding the area of the laser beam output from the window 3b of the laser chamber 4, and the laser beam expanded by this beam expander is irradiated onto the etalons 2a and 2b.
エタロン2a、 2bは狭帯域化素子として機能する
もので、エタロン2a、2bのうち一方はフリースペク
、トラルレンジの大きいもの、他方は小さいものから構
成され、この2つのエタロン2a。The etalons 2a and 2b function as band narrowing elements, and one of the etalons 2a and 2b has a free spectrum with a large tral range, and the other has a small tral range.
2bの透過帯域を重ね合わせることにより狭帯域化がは
かられている。なお、エタロン2a、2bのそれぞれの
透過特性の制御は、光軸に対する各エタロン2a、2b
の角度、各エタロン2a、2bのギャップ長、ギャップ
空間の圧力等を変化させることにより行うことができる
。Narrowing of the band is achieved by overlapping the transmission bands of 2b. Note that the transmission characteristics of each etalon 2a, 2b are controlled by controlling each etalon 2a, 2b with respect to the optical axis.
This can be done by changing the angle of , the gap length of each etalon 2a, 2b, the pressure in the gap space, etc.
このような構成によると、レーザチャンバ4からの出力
レーザ光はビームエキスパンダ8により拡大されてエタ
ロン2a、2bに照射されるので、エタロン2a、2b
を透過するレーザ光のエネルギー密度は大幅に小さくな
り、これによりエタロン2a、2bの劣化は大幅におさ
えられる。According to such a configuration, the output laser light from the laser chamber 4 is expanded by the beam expander 8 and irradiated onto the etalons 2a, 2b.
The energy density of the laser beam transmitted through the etalons 2a and 2b is significantly reduced, thereby significantly suppressing deterioration of the etalons 2a and 2b.
第2図はビームエキスパンダとして凹レンズ6と凸レン
ズ7を用いて構成した実施例を示すものである。この実
施例において、レーザチャンバ4のウィンドウ3bから
出力されるレーザ光は凹レンズ6凸レンズ7によって拡
大された平行光に変換され、エタロン2a、 2bに
照射される。これによってエタロン2a、2bを透過す
るレーザ光のエネルギー密度は減少される。FIG. 2 shows an embodiment in which a concave lens 6 and a convex lens 7 are used as a beam expander. In this embodiment, the laser light output from the window 3b of the laser chamber 4 is converted into parallel light that is expanded by a concave lens 6 and a convex lens 7, and is irradiated onto the etalons 2a and 2b. This reduces the energy density of the laser beam that passes through the etalons 2a, 2b.
なお、第2図に示した実施例において、レーザチャンバ
4のウィンドウ3bから出力されるレーザ光は、すべて
の方向に対して一定の比率で拡大するように構成したが
、これを特定の方向のみ拡大するように構成してもよい
。このように構成することによりエタロンの有効径をあ
まり大きくすることなくエタロンの寿命をのばすことが
できる。In the embodiment shown in FIG. 2, the laser beam output from the window 3b of the laser chamber 4 is configured to expand at a constant ratio in all directions, but this is expanded only in a specific direction. It may be configured to expand. With this configuration, the life of the etalon can be extended without increasing the effective diameter of the etalon too much.
第3図は(a)(b)はこのように構成したこの発明の
他の実施例を示したものである。第3図(a)はその平
面図、第3図(b)はその側面図を示す。第3図(a)
(b)に示す実施例においては2枚のシリンドリカルレ
ンズ10.11によってビームエキスパンダが構成され
る。この場合、レーザチャンバ4のウィンドウ3bから
出力されるレーザ光はレーザチャンバ4内の電極9によ
る放電方向と直角な方向にのみ拡大されてエタロン2a
、2bに照射される。FIGS. 3(a) and 3(b) show another embodiment of the invention constructed in this manner. FIG. 3(a) shows its plan view, and FIG. 3(b) shows its side view. Figure 3(a)
In the embodiment shown in (b), a beam expander is constituted by two cylindrical lenses 10 and 11. In this case, the laser light output from the window 3b of the laser chamber 4 is expanded only in a direction perpendicular to the direction of discharge by the electrode 9 in the laser chamber 4, and the laser beam is expanded into the etalon 2a.
, 2b.
第4図(a) (b)はビームエキスパンダとして2個
のプリズム12a、12bを用いてtRl1ffiした
他の実施例を示したものである。ここで、第4図(a)
は平面図、第4図(b)は側面図を示す。この場合もビ
ームエキスパンダのビーム拡大方向は電極9による放電
方向とほぼ垂直となるように構成される。FIGS. 4(a) and 4(b) show another embodiment in which tRl1ffi is achieved using two prisms 12a and 12b as beam expanders. Here, Fig. 4(a)
shows a plan view, and FIG. 4(b) shows a side view. In this case as well, the direction of beam expansion of the beam expander is configured to be substantially perpendicular to the direction of discharge by the electrodes 9.
なお、第4図の構成において2個のプリズム12a、1
2bを用いてビームエキスパンダを構成したが、1個の
プリズムまたは3個以上のプリズムを用いてビームエキ
スパンダを構成するようにしてもよい。In addition, in the configuration of FIG. 4, two prisms 12a, 1
Although the beam expander is constructed using the prism 2b, the beam expander may be constructed using one prism or three or more prisms.
第5図(a) (b)はビームエキスパンダ13として
一方向のみを拡大するものを用い、エタロンに入射する
レーザビームの形状がほぼ正方形となるようにした他の
実施例を示したものである。ここで第5図(a)はその
平面図、第5図(b)はその側面図を示す。Figures 5(a) and 5(b) show another embodiment in which a beam expander 13 that expands only in one direction is used so that the shape of the laser beam incident on the etalon is approximately square. be. Here, FIG. 5(a) shows its plan view, and FIG. 5(b) shows its side view.
一般にレーザチャンバ4のレーザ発振領域は電極9によ
る放電方向に長い長方形をしている。そこで、この実施
例では電1ft9による放電方向に垂直な方向のみを拡
大してエタロン2a、2bに入射するレーザビームの形
状を第5図(C)に示すようにほぼ正方形となるように
している。Generally, the laser oscillation area of the laser chamber 4 has a rectangular shape that is long in the direction of discharge by the electrode 9. Therefore, in this embodiment, only the direction perpendicular to the discharge direction by the electric current 1ft9 is expanded so that the shape of the laser beam incident on the etalons 2a and 2b is approximately square as shown in FIG. 5(C). .
なお、この実施例では放電方向に垂直な方向のみを拡大
したが、放電方向とこれに垂直な方向とをそれぞれ異な
る比率で拡大するようにしても、エタロンに入射するビ
ームの形状をほぼ正方形にすることができる。Note that in this example, only the direction perpendicular to the discharge direction is expanded, but even if the discharge direction and the direction perpendicular to this are expanded at different ratios, the shape of the beam incident on the etalon will be approximately square. can do.
このように構成するとエタロンの有効径をほとんど大き
くすることなく効率よく狭帯域化することができ、また
エタロンの寿命をのばすことができる。With this configuration, the band can be efficiently narrowed without increasing the effective diameter of the etalon, and the life of the etalon can be extended.
なお、上記実施例ではりアミラーとレーザチャンバとの
間にエタロンを挿入した場合を示したが、フロントミラ
ーとレーザチャンバとの間にエタロンを挿入した場合に
も同様に適用できる。また挿入するエタロンは2枚に限
定されず、1枚でもよいし、また3枚以上でもよい。Although the above embodiment shows the case where the etalon is inserted between the beam mirror and the laser chamber, the present invention can be similarly applied to the case where the etalon is inserted between the front mirror and the laser chamber. Further, the number of etalons to be inserted is not limited to two, but may be one or three or more.
以上説明したようにこの発明によれば、以下に示すよう
な効果が得られる。As explained above, according to the present invention, the following effects can be obtained.
(1)レーザチャンバとエタロンの間にビームエキスパ
ンダを配置し、エタロンに入射するレーザビームを拡大
することによりエタロンを透過するエネルギ密度を小さ
くしたためエタロンの寿命が飛躍的に延びる。(1) A beam expander is placed between the laser chamber and the etalon to expand the laser beam incident on the etalon, thereby reducing the energy density that passes through the etalon, thereby dramatically extending the life of the etalon.
(2)さらに、ビーム拡大方向を放電方向と垂直となる
ように配置することにより、エタロンの有効径をあまり
おおきくすることなく効率的に狭帯域化し、かつエタロ
ンの寿命を飛躍的に延ばすことができる。(2) Furthermore, by arranging the beam expansion direction to be perpendicular to the discharge direction, it is possible to effectively narrow the band without increasing the effective diameter of the etalon and dramatically extend the life of the etalon. can.
(3)また、エタロンに入射すレーザビームを正方形に
することによって、エタロンの有効径をほとんど大きく
することなく、効率的に狭帯域化し、かつエタロンの寿
命を飛躍的にのばすことができる。(3) Furthermore, by making the laser beam incident on the etalon square, it is possible to effectively narrow the band and dramatically extend the life of the etalon without increasing the effective diameter of the etalon.
第1図はこの発明にかかわる狭帯域発振エキシマレーザ
の一実施例を示す平面図、第2図はビームエキスパンダ
として凹レンズと凸レンズとの組合せを用いた実施例を
示す平面図、第3図(a)(b)はビームエキスパンダ
として2枚のシリンドリカルレンズを用いて構成した他
の実施例を示す平面図および側面図、第4図(a) (
b)はビームエキスパンダとして2個のプリズムを用い
て構成した他の実施例を示す平面図および側面図、第5
図(a) (b)はエタロンへの入射ビームの形状がほ
ぼ正方形となるように構成した更に他の実施例を示す平
面図および側面図、第5図(C)は第5図(a) (b
)に示した実施的におけるビーム形状を示す図、第6図
、第7図、第8図はこの発明の従来例を示す図である。
1・・・フロントミラー 2a、2b・・・エタロン、
3a、3b・・・ウィンドウ、4・・・レーザチャンバ
、5・・・リアミラー 6・・・凹レンズ、7・・・凸
レンズ、8.13・・・ビームエキスパンダ、9・・・
電極、10゜11・・・シリンドリカルレンズ、12a
、12b・・・プリズム。
第2図
第3図
(a)
第3図(b)
第4
図(0)
第4
図(b)
第5図(c)FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a narrow band oscillation excimer laser according to the present invention, FIG. 2 is a plan view showing an embodiment using a combination of a concave lens and a convex lens as a beam expander, and FIG. a) and (b) are a plan view and a side view showing another embodiment configured using two cylindrical lenses as a beam expander, and FIG.
b) is a plan view and a side view showing another embodiment configured using two prisms as a beam expander;
Figures (a) and (b) are plan and side views showing still another embodiment in which the shape of the beam incident on the etalon is approximately square, and Figure 5 (C) is the same as Figure 5 (a). (b
), FIG. 6, FIG. 7, and FIG. 8 are diagrams showing conventional examples of the present invention. 1...Front mirror 2a, 2b...Etalon,
3a, 3b...Window, 4...Laser chamber, 5...Rear mirror 6...Concave lens, 7...Convex lens, 8.13...Beam expander, 9...
Electrode, 10° 11... Cylindrical lens, 12a
, 12b...prism. Figure 2 Figure 3 (a) Figure 3 (b) Figure 4 (0) Figure 4 (b) Figure 5 (c)
Claims (5)
エキシマレーザにおいて、 ビームエキスパンダをレーザチャンバとエタロンとの間
に配置し、 前記エタロンに入射するレーザビーム面積が少なくとも
出力レーザビーム面積より大きくしたことを特徴とする
狭帯域発振エキシマレーザ。(1) In a narrowband oscillation excimer laser using an etalon as a band narrowing element, a beam expander is disposed between a laser chamber and the etalon, and the area of the laser beam incident on the etalon is at least larger than the area of the output laser beam. A narrowband oscillation excimer laser.
ンドリカルレンズを用いて構成され、レーザ光の一方向
のみを拡大することを特徴とする請求項(1)記載の狭
帯域発振エキシマレーザ。(2) The narrowband oscillation excimer laser according to claim (1), wherein the beam expander is configured using a prism or a cylindrical lens and expands only one direction of the laser beam.
が放電電極の放電方向とほぼ垂直となるようにしたこと
を特徴とする請求項(1)記載の狭帯域発振エキシマレ
ーザ。(3) The narrow band oscillation excimer laser according to claim 1, wherein the beam expander has a beam expansion direction substantially perpendicular to the discharge direction of the discharge electrode.
用いて構成されることを特徴とする請求項(1)記載の
狭帯域発振エキシマレーザ。(4) The narrowband oscillation excimer laser according to claim (1), wherein the beam expander is constructed using a collimator lens.
ぼ正方形となるようにしたことを特徴とする請求項(1
)記載の狭帯域発振エキシマレーザ。(5) Claim (1) characterized in that the shape of the laser beam incident on the etalon is approximately square.
) Narrowband oscillation excimer laser.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18167989A JPH0346284A (en) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | Narrowband oscillation excimer laser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18167989A JPH0346284A (en) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | Narrowband oscillation excimer laser |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0346284A true JPH0346284A (en) | 1991-02-27 |
Family
ID=16104977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18167989A Pending JPH0346284A (en) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | Narrowband oscillation excimer laser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0346284A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006049839A (en) * | 2004-07-06 | 2006-02-16 | Komatsu Ltd | High power gas laser equipment |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP18167989A patent/JPH0346284A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2006049839A (en) * | 2004-07-06 | 2006-02-16 | Komatsu Ltd | High power gas laser equipment |
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