JPH0325227U - - Google Patents
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- JPH0325227U JPH0325227U JP8506389U JP8506389U JPH0325227U JP H0325227 U JPH0325227 U JP H0325227U JP 8506389 U JP8506389 U JP 8506389U JP 8506389 U JP8506389 U JP 8506389U JP H0325227 U JPH0325227 U JP H0325227U
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- JP
- Japan
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- reticle
- reduction projection
- projection exposure
- chip
- exposure apparatus
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- Pending
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
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Landscapes
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
Description
第１図は本案の一実施例のステツパーの概略図
、第２図は第１図で露光した後のレジスト概略図
、第３図は本案の一実施例のステツパーの概略図
、第４図は本案の一実施例のステツパーの概略図
、第５図は従来例のステツパーの概略図、第６図
は従来の第５図のステツパーで露光したレジスト
概略図、第７図はレジストの感度曲線を示す図で
ある。 １……半導体基板、２……感光性レジスト、３
……第１レチクル、４……縮小レンズ、５……第
２レチクル。
、第２図は第１図で露光した後のレジスト概略図
、第３図は本案の一実施例のステツパーの概略図
、第４図は本案の一実施例のステツパーの概略図
、第５図は従来例のステツパーの概略図、第６図
は従来の第５図のステツパーで露光したレジスト
概略図、第７図はレジストの感度曲線を示す図で
ある。 １……半導体基板、２……感光性レジスト、３
……第１レチクル、４……縮小レンズ、５……第
２レチクル。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 半導体基板上にフオトレジストを形成し、パ
ターニングする縮小投影露光装置において、半導
体基板の露光を、まず、第１レチクルを用いて半
導体基板上のチツプの１部分を露光し、しかる後
正規のプロセスパターンの第２レチクルを用いて
半導体基板上のチツプ全域を露光するレチクルを
具備したことを特徴とする縮小投影露光装置。 ２ 前記第１レチクルは、チツプ中心部分を除い
た外側の露光することを特徴とする縮小投影露光
装置。 ３ 前記第２レチクルを用いて、チツプを露光す
る露光量は、前記第１レチクルを用いて、チツプ
中心部分を除いた外側を露光する露光量より、多
い露光量で露光することを特徴とする縮小投影露
光装置。 ４ 前記、第１レチクルの中心部分は、光を透過
させるパターンが形成されてないことを特徴とす
る縮小投影露光装置。 ５ 前記、第１レチクルが上位と第２レチクルは
下位にあり、露光後第１レチクルを除き、第２レ
チクルで再露光することを特徴とする縮小投影露
光装置。 ６ 前記、第１、第２レチクルとも、レチクル搬
送ケースからの搬入、搬出ができる機構であるこ
とを特徴とする縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8506389U JPH0325227U (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8506389U JPH0325227U (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0325227U true JPH0325227U (ja) | 1991-03-15 |
Family
ID=31633963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8506389U Pending JPH0325227U (ja) | 1989-07-21 | 1989-07-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0325227U (ja) |
-
1989
- 1989-07-21 JP JP8506389U patent/JPH0325227U/ja active Pending
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