JPH0325380B2 - - Google Patents

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JPH0325380B2
JPH0325380B2 JP58090153A JP9015383A JPH0325380B2 JP H0325380 B2 JPH0325380 B2 JP H0325380B2 JP 58090153 A JP58090153 A JP 58090153A JP 9015383 A JP9015383 A JP 9015383A JP H0325380 B2 JPH0325380 B2 JP H0325380B2
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JP
Japan
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disc
cassette
arm
shaped object
cassettes
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JP58090153A
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JPS58216835A (ja
Inventor
Yakobii Hansuudeiiteru
Shumitsuto Peeteru
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UIRUTO RAITSU GmbH
Original Assignee
UIRUTO RAITSU GmbH
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Publication date
Application filed by UIRUTO RAITSU GmbH filed Critical UIRUTO RAITSU GmbH
Publication of JPS58216835A publication Critical patent/JPS58216835A/ja
Publication of JPH0325380B2 publication Critical patent/JPH0325380B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/30Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
    • H10P72/34Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H10P72/3411Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/136Associated with semiconductor wafer handling including wafer orienting means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/137Associated with semiconductor wafer handling including means for charging or discharging wafer cassette

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、段階的に高さ調整可能な放出カセツ
トから位置調整部を経て検査テーブル及び更に
様々の同じく段階的に高さ調整可能な堆積カセツ
ト中へ円板状物体を自動的に運搬するための装置
に関する。
この種の装置は特に半導体の製造の際に薄板表
面の検査のために個々のプロセス段階に投入され
るものである。薄板は規格化されたカセツト内に
存在するが、このカセツトは、薄板が水平位置を
保つ様に所定の装置中に持込まれる。薄板表面の
汚染を防止するために、自動運搬過程中に薄板表
面に出来るだけ接触しないように努力がなされて
いる。
搬搬機構としては、一般にベルト駆動装置及び
空気クツシヨンガイドが使用される。ベルト駆動
の場合には、カセツトからの放出の場合にも、後
退の場合及び堆積カセツトへの供給の場合にも、
薄板下側の汚れ、例えば動かした駆動部の摩耗に
よる汚れは避けることが出来ない。カセツトは
次々に下から放出され、且つ逆の順序で充填され
るので、薄板の下側のこの様な汚れは、その下に
ある薄板の上側に落下し勝ちである。更に後退の
場合にも問題が発生する。なぜなら、薄板の到着
する運搬方向は、ストツパーで終つており、薄板
の縁部がこれにぶつかるからである。その場合、
例えば写真ラツカ部分(Fotolackteile)が飛び
出て恐らく薄板表面上にそのまま残る危険があ
る。
上記の汚損の可能性は全運搬行程中存在する。
この場合に、薄板検査の前に発生した汚れが検査
の際に確かに発見されることもあるが、その後に
発生するものは気付かずに残つたままとなり、疵
物生産のため次の製造段階へ導かれる。
空気クツシヨンガイドの場合には、空気の清浄
保持と流出によつて追加的に発生する外気の乱流
の問題が生ずる。それ故、この場合にも汚物粒が
薄板表面に達するのを避けることが出来ない。そ
の上、空気クツシヨンは常に薄板の側面からの機
械的な案内を必要とする。その結果、転換器に対
する衝突の場合はもとより、側方案内に対する衝
突の場合にもラツカの飛散の発生が可能であり、
これが発生する空気乱流のため汚損危険を更に高
める。またノズル軌道に薄板が時折打当ること
も、薄板の代替不能な損傷につながる。それ故、
出来るだけ早期に欠陥を識別することによる疵物
量の減少があるどころか検査ステーシヨンへの運
搬により追加的な欠陥が導入される危険が存在す
る。
上記の二つの運搬メカニズムに共通な問題は、
薄板を収容出来る様にこれらのメカニズムを直接
カセツトの下に取り込まなければならないという
ことにある。薄板を順次放出位置或いは装荷位置
に持ち込むためにカセツトを段階的に高さ調整可
能なテーブルは、それ故にそれに相応した余裕を
持たなければならない。その場合に、薄板の除去
後はベルト駆動は更に下降されなければならな
い。
今一つの共通の問題は、薄板が除去の際及び運
搬中に不定の回転を行ない、その結果、例えば顕
微鏡下での検査については、常に追加的な調整プ
ロセスが必要であることである。それ故、薄板を
まず位置調整ユニツトに差し向ける装置も公知で
ある。これは丸い薄板円板を真直に切つた部分
(平担部)との関連で整理する。検査テーブルへ
薄板を位置をあやまたずに移行するために、この
部分がまず調整ユニツトとの関連で一定の位置に
持ち込まれるのである。その後、薄板はその上側
で吸着され且つ線状に移動可能か或いは回転軸の
周囲を旋回可能なアームによつて検査テーブルへ
送られる。検査テーブルからの薄板の放出は、再
びテーブルに組込まれたベルト駆動装置によるか
或いは空気クツシヨンガイドによつて行なわれる
ので、その結果、テーブルの搬出側の運搬路は特
に一直線上に並んでいなければならない。薄板を
供給する運搬システムはもとより薄板を搬出する
運搬システムにも検査テーブルを配列する必要性
が原因となつて、これまであらゆる機能ユニツト
が一つの全体的装置にまとめられて来た。
それ故、本発明はカセツトから円板状の物体を
取出す始めから、検査後の堆積に至るまで、公知
の装置の運搬から生ずる汚損の危険を回避し、且
つそれぞれ、独自別個のユニツトに整列させられ
なければならない様な機能単位のモジユール式構
成を許容する装置を提示することを課題とするも
のである。
この課題は冒頭に述べた種類の装置の場合、本
発明に従つて放出カセツトと位置調整部との間に
線状に往復移動可能な、円板状物体を偏心した位
置で把握する搬送アームが、そして位置調整部と
検査テーブルとの間に、円板状物体を同じく偏心
した位置で把握する旋回レバーが、そして更に旋
回レバーの作動範囲内に回転皿上で放射方向に往
復移動可能な、円板状物体11を同時に偏心した
位置で把握する往復台が、それぞれ設けられ、且
つ堆積カセツトが回転皿の周囲にそれぞれの開口
部が来る様に配されていることにより解決され
る。この場合、有利な実施形態で、放出カセツ
ト、位置調整部及び検査テーブルが物体の供給の
際に互いに一直線上に位置する様、及び旋回レバ
ーの旋回軸が同一直線上に位置しさらに搬送アー
ムのガイドは放出カセツトと位置調整部との間の
中心連結線に平行に位置する様、配置がなされ
る。
それ故、本発明によれば、例えば薄板円板は搬
送アームでカセツトから持ち上げられ、且つこの
搬送アーム上で静止しつつ位置調整部へ運ばれ
る。カセツトの内部空間は開口部へ向つて広がつ
ているので、薄板円板の縁部は運搬の開始後直ち
に空間内で完全に解放される。搬送アームは極め
て薄く形成することができるので、カセツトとカ
セツトを支持するテーブル面の間にそのアームが
伸びる。それ故、この場合、テーブルの構造は運
搬システムの機械的要素とは無関係である。
位置調整部においては、薄板円板は公知の方法
で吸着テーブルに堆積され、且つ調整後は旋回レ
バーにより引取られ且つ公知の方法で検査テーブ
ルの吸着ブロツク上に堆積される。同じ旋回レバ
ーは薄板円板を検査後に往復台へはこび、この往
復台が放射状の往復運動により、あらかじめ用意
された堆積カセツトの方向に廻わされる回転皿上
で薄板を再び1つのカセツト内に導入し、従つ
て、薄板は自動運搬の終りまで空間内に保持され
る。その際、とりわけあらかじめ選定されたカセ
ツト内に薄板を直接堆積することは極めて重要な
ことである。なぜなら、この場合何ら追加的な後
退も生じないからである。前記円板の分配のため
の中心的要素としては、三つの収容或いは放出位
置を持つた旋回レバーが使用される。それ故、本
装置の三つの機能領域、すなわち薄板放出/位置
調整、検査及び堆積の各々は、それ自体、旋回レ
バーのそれぞれの位置に整列させられることがで
きる。
運搬により生ずる汚損の危険を減ずるための本
質的な貢献は、すべてのつかみ機構が円板状物体
の下側に向けられていることによつて行なわれて
いる。このことは、公知の装置とは反対に、とり
わけ円板の位置正しい供給の段階にも適用され
る。
つかみ機構としては吸着ノズルが有利に設けら
れる。その場合、搬送アームに効果的に複数の吸
着ノズルが堆移方向に前後して配置される旋回レ
バーの場合には、その外端に旋回円の方向に前後
に配置される。旋回レバーの場合には、吸着ノズ
ルはその外端においてその旋回円の方向に相隣接
して配置されるべきであろう。スライダの場合に
は吸着ノズルはその一端に摺動方向に対して垂直
に相隣接して設けられよう。この処理により、円
板はもつぱら周縁の片側の下側で把握されること
になる。円板下側の中央領域はノズル配置の場合
は位置調整部内及び検査テーブル上に堆積するた
めに解放され、従つて一つの支持機構から他の支
持機構への円板の引渡しは、相互に障害なしに可
能となる。
旋回レバーが少くとも二つの同一長さのアーム
を備えることにより、作業経過の促進が可能であ
り、その結果、例えば同時に一枚の円板を位置調
整部からも検査テーブルからも放出することが出
来る。旋回レバーアームの両末端に配された吸着
ノズルの開閉装置を別々に操作可能にするとアー
ムによつて受容される円板の時間的に異なる送り
が可能になる。
搬送アームでの円板の吸着後にカセツトが更に
わずかに下げられると、カセツトからの取出しの
際の円板の縁部におけるラツカ飛散の危険を更に
減少させることが出来、その結果、円板とカセツ
トの仕切との間の接触はもはや何も存在しなくな
る。この目的は、カセツトの段階的高さ調整のた
めに二段階の操作機構に比較的大きな行程と今一
つこれに連つた極めて小さな行程とを備えること
によつて達成される。この二つの行程の比はおよ
そ10:1である。この方法は堆積カセツトへの円
板の導入の場合にも、効果的に相応に使用され
る。
カセツトの高さ調整のためには操作装置と駆動
装置とが必要であることは明らかである。これら
の装置によつて搬送アームは取り出すべき円板の
下に挿入されそして円板を吸着することができ
る。吸着が行なわれる前に円板は放出カセツトの
仕切りと接触している。円板が搬送アームに吸着
されると、この接触はなお強くなる。何故ならば
搬送アームが挿入される際には円板の下面と搬送
アームの上面との間に僅かな空間が残つている事
が必要だからである。従つて吸着が行なわれると
円板は下方に引つ張られ、そのことによつてカセ
ツトの仕切りの壁に強く押し付けられる。
この様な状態で円板がカセツトから引き出され
ると、円板の縁の部分がカセツトの仕切り壁と摩
擦を引き起こし、そのことによりラツカーが飛散
し、この飛散粉末はその円板の下に位置する円板
を汚染する。この様な危険は、円板が吸着された
後で、又はそれと同時に、この過程と同時に操作
装置が駆動装置に第2の信号を送り、カセツトを
さらに僅かな量だけ下げることによつて除外され
る。上記の欠点を除くため、カセツトは比較的大
きな行程と今一つこれに連なつた極めて小さな行
程とを有する操作機構によつて操作される。円板
を収容するための堆積カセツトに円板を挿入する
場合にも上記の過程が必要になることは明らかで
ある。
自動的に経過する運搬過程を操作するために
は、搬送アームが例えば薄板円板をカセツトから
取出したかどうか、又は空の仕切中で把握したか
どうかを識別することが必要である。このために
は、光軸が搬送アームの搬送路の外にある様な光
学的検出装置が、放出カセツトと位置調整部との
間の円板状物体の搬送路内に配置される。この様
にして、負荷を受けた搬送アームだけが光学的検
出装置の信号を解放することが確保される。
上述の、本配置の容易な調節の可能性により、
まず検査テーブルを供えた別個の検査ユニツトを
設けることができるようになる。それは、例えば
独立した顕微鏡であろう。
本願の装置は上記した検査ユニツトの様に数個
の機能単位に分割したそれぞれのユニツトを1つ
の共通な基礎板上に配置することによつて構成可
能である。即ち添付図に示されている実施例では
第一のユニツトは放出カセツトのための高さ調整
可能な収容台、円板の位置調整部、搬送アーム及
び旋回レバーが包括され、第二のユニツトは往復
台と堆積カセツトの高さ調整可能な収容台を伴う
回転皿が包括され、第三のユニツトは検査テーブ
ルを伴う検査装置が包括されている。これらのユ
ニツトをそれぞれ1つの構成単位(モジユール)
として形成することが可能である。
本発明による配置の実施例は図面に図式的に記
載されており、且つ以下に説明する通りである。
第1図では、放出カセツト10は任意の方向を
向いた直線部12を有する薄板円板11を包含し
ている。上側に吸着ノズル14が配置された搬送
アーム13は、放出カセツトと位置調整部16と
の間の中心連結線に平行なガイド15に線状に摺
動可能に配置されている。
位置調整部16は上方に向いた吸込ノズル18
を伴なう吸着テーブル17を有する。詳細は第2
図の説明で述べる通りである。位置調整部16に
は、公知の方法で直線部12の位置識別に使用さ
れる二つの光学的検出装置19,20が配されて
いる。この光学的検出装置19は、更に搬送アー
ム13上に位置する平円板を識別するのにも使用
される。旋回レバー21は二つのアーム22,2
2を有しており、その外方端には旋回方向に互い
に隣接して上方を向いた複数の吸着ノズル24,
25が配置されている。旋回レバー21は高さ調
整可能な軸26の周囲を回転可能である。検査テ
ーブル27としては、二つの座標内を移動可能な
顕微鏡29の十字動載物台28が設けられてい
る。更に十字動載物台28上には同じく上方に向
いた吸着ノズル31を伴なう吸着ブロツク30が
配置されている。顕微鏡29と十字動載物台28
には相互に対置されたアングルストツプ32,3
3が設けられていて、これが移動物置台28の薄
板引渡し位置を規定する。
放出カセツト10、位置調整部16及び検査テ
ーブル27は、薄板引渡し位置において相互に同
一直線上に位置する様に配置されている。旋回軸
26はこの直線上に位置する。検査過程において
不良となつた円板を良品と区分けするため、又は
収容された円板が1つのカセツトに充満した時、
作業を停止してカセツトを交換するのを避けるた
め、種々の堆積カセツト34,35,36が設け
られており、様々の堆積カセツト34,35,3
6中に薄板11を導入するには、往復台37が使
用されるが、これはその一端に再び上方を向いた
吸着ノズル38を有し、且つ更に回転皿39中で
放射方向に溝40内を縦移動可能である。この場
合、薄板引渡し位置では往復台37の移動方向
と、旋回レバー21の縦軸が同一直線上に位置す
る。薄板の収容後往復台37はまず回転皿39へ
戻るが、その結果、薄板11はもはや回転皿の縁
部から外へはみ出さない。次いで、薄板が導入さ
れる堆積カセツトを溝40が指示するまで、回転
皿39がその軸41の周を回転する。次いで往復
台はその(案内)軸40内を前方へ移動する。詳
細説明は第3図の説明で行なう通りである。
第2図は第1図の線−に沿つた断面を示
す。放出カセツト10は、例えばカム操作を介し
て高さ調整可能なテーブル42上に在る。テーブ
ル42の段階的な低下によつて、仕切43内に存
在する薄板11が相次いで放出位置へ運搬され
る。仕切壁は第4図から明らかな様に、やや円錐
状を呈している。テーブル42の静止位置は、薄
板の下側がわずかに搬送アーム13の上側上に位
置し、その結果アームが薄板11に接触すること
なしにカセツト10内に入ることが出来る様に調
整されている。次いでテーブル42は再びわずか
に沈下し、一方で搬送アーム13が薄板円板を吸
着する。それ故、薄板円板は、上部の仕切壁に突
当ることなしに、仕切壁内のその収容台から持上
げられている(第4図参照)。
搬送アーム13が薄板円板を吸着テーブル17
へ運搬する間に、放出カセツトは今一段階下げら
れる。吸着テーブル17は高さ調整可能であり、
且つその縦軸の周囲を回転可能である。吸着テー
ブルは、まず搬送アーム13が薄板円板を引渡し
位置に持込むまで沈下せしめられる。次いで吸着
テーブル17はそれが薄板円板に接しこれを吸着
するまで再び上昇させられる。同時に、搬送アー
ム13の吸着も解放される。薄板の移行後、吸着
テーブル17はわずかに更に持ち上げられ、且つ
搬送アーム13はカセツトの放出位置へ戻され
る。
もし、搬送アーム13の最初の移動過程で光学
的検出装置19が何らの信号も発しなかつたとき
は、薄板円板が収容位置へ送り込まれたと光学的
検出装置19が信号を発するまで、放出過程が直
ちに反復される。
送り込み後は、薄板11はそれの中心位置の座
標及び角度位置が吸着テーブル17上に一定して
配置されていない。
上記の位置調整のためには吸着テーブル17が
下げられるが、その場合、それの吸着は解除され
る。その際に、薄板円板は解放されて、上部44
が漏斗状の円筒45内を同時に下降可能リング4
9上に引渡される。円筒45の内径は薄板円板の
直径に相当し、その結果薄板は下降の降自動的に
心出しが行なわれる。その後、吸着テーブル17
はその最高位置へもち上げられ、その際薄板円板
に接近しながら再びこれを吸着する。
薄板円板の一定の角度位置を規定し検査の結果
を正確に保存するためには、薄板に付された直線
部12の向きが使用される。光学的検出装置1
9,20は吸着テーブル17が回転する際に直線
部12を識別することが出来る様に配置されてい
る。この位置で吸着テーブル17は吸着された薄
板と共に固定される。今一つ別の位置を選択的に
認識することが出来る様に、更に90゜位置をずら
せた遮光体を設けることも、当然のことながら可
能である。
位置調整過程中は、旋回レバー21は第1図に
点線で記載した待機位置にある。調整終了後は該
レバーは一直線上に並べられた薄板円板の下に旋
回して入り、その際薄板の損傷が排除される様に
その高さ位置が調整される。薄板の下で始めて旋
回アーム21は、薄板を吸着することが出来る様
に持ち上げられ、その際吸着テーブル17の吸着
が解放される。薄板を吸着テーブルから持ち上げ
るために旋回レバーが更に持ち上げられるとき
は、薄板の位置調整は保持されたままである。当
然のことながら、このためにも吸着テーブルを下
降させることが出来る。
十字動載物台28は止め具32,33によつて
規定される位置にあり、且つ吸着ブロツク30の
表面が旋回レバー21の旋回面下にある様な高さ
に存在する。十字動載物台28に薄板を供給する
ために旋回レバー21は軸26の周囲を180度旋
回する。薄板の供給は再び相互の相対的な吸着の
切替と高さ調整を通じて行なわれる。その後は、
薄板円板は規定された吸着ブロツク30上の方位
に存在し、その結果十字動載物台28を顕微鏡2
9の対物レンズ46の焦点へ持つて来ることが出
来、且つ旋回アーム21をその待機位置へ持つて
来ることが出来るのである。
検査すべき薄板円板上の構造物を規定された検
査経過との関連で更に調整するために、十字動載
物台28上に図面に記載されていないモータ駆動
部を吸着ブロツク30の微細調整用に設けること
が出来る。検査経過は、十字動載物台の手動操作
式リンク装置によつてすべての薄板円板について
再現可能にすることが出来る。しかし、検査経過
はまたプログラム化して操作されるステツプモー
ターによつても行なうことが出来る。自動焦点装
置は薄板を自動的に検査用具の焦点内に保つ。観
察された構造体を評価するには、視覚的な測光式
又は映像分析的方法を用いることが出来る。検査
結果はその先の移送プロセス用の操作信号として
プロセス制御装置に投入され、且つ薄板円板用の
堆積カセツトを指定する。
最終の移送過程は第3図に更に示す通りであ
る。十字動載物台が再び止め具32,33に向つ
て移行させられた後、旋回レバー21は吸着ブロ
ツク30から薄板円板11を受容する。往復台3
7への旋回レバー21の引渡位置は、記載の実施
例においては既述の待機位置と一致する。
回転皿39の回転軸41は高さ調整可能でない
ので、往復台37への薄板の引渡しは旋回レバー
21を下降させ且つ次いでこれを上昇させること
によつて行なわれる。往復台37は例えば溝40
内のカム47を介して案内される。回転皿39の
直径と往復台37の放射方向運動軌道は、提供さ
れる最大の薄板円板も完全に回転皿上に引き上げ
ることが出来る様な寸法とされている。
堆積カセツト34,35,36は放出カセツト
と同様にテーブル48に配置されている。このテ
ーブルは、往復台37を通じて押し込まれた薄板
円板が、仕切壁と接しない様に、その高さ位置に
調整されている。その後で薄板円板が完全に押し
込まれた後で始めてカセツトテーブル48はわず
かに仕切壁上に円板が支えられるまで持ち上げら
れるが、その場合において往復台37での吸着は
解放され、且つ回転皿39へ戻る。テーブル48
は更に次の収容高さへ移行し、運搬サイクルが終
了する。
注意すべきことは、旋回レバー21の二腕形成
によつて検査テーブルから検査済の薄板の取出し
及び新しい薄板の供給が吸着テーブル17の働き
により同時に行なうことが出来ることである。検
査済の薄板円板は、旋回レバー21が往復台37
への供給位置内に存在する間固定保持される。か
くて、新しい薄板円板の試験中に今一つの薄板円
板の位置調整を行ない、且つ試験済のものを堆積
カセツトへ供給することが出来る。
今一つの別の作動方法では、薄板円板は吸着テ
ーブル17から直接往復台37へ持つて行くこと
が出来る。これは抽出試験の場合に有利である。
本装置の機能方法は半導体技術の実施例に記載
された通りである。しかし、当然のことながら、
連続的に検査されることを必要とするが表面の接
触は望ましくない様な、他の円板状の物体も使用
することが出来る。それは、例えば、手動運搬の
際に感染の危険のある載せガラス上の生物学用又
はその他のプレパラートであつても良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本装置の平面図を示し、第2図は放出
カセツトから検査テーブルまでの運搬軌道−
を含む断面を示し、第3図は旋回レバーから堆積
カセツトまでの運搬軌道−を含む断面を示
し、第4図は放出過程の際の放出カセツトの詳細
図を示す。 符号説明、10……放出カセツト、11……円
板状物体、薄板、12……直線部、13……搬送
アーム、14……吸着ノズル、15……ガイド、
16……位置調整部、17……吸着台、18……
吸着ノズル、19……光学的検出装置、20……
光学的検出装置、21……旋回レバー、22……
アーム、23……アーム、24……吸着ノズル、
25……吸着ノズル、26……旋回軸、27……
検査テーブル、28……十字動載物台、29……
顕微鏡、30……吸着ブロツク、31……吸着ノ
ズル、32……アングルストツプ、33……アン
グルストツプ、34……堆積カセツト、35……
堆積カセツト、36……堆積カセツト、37……
往復台、38……吸着ノズル、39……回転皿、
40……放射方向溝、41……回転軸、42……
収容台、43……仕切、44……上部、45……
円筒、46……対物レンズ、47……カム、48
……収容台、49……リング。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 段階的に高さを調整可能な放出カセツトか
    ら、円板状物体の中心位置及び一定の角度位置を
    調整するための位置調整部を経て検査テーブル及
    び更に同様に段階的に高さを調整可能な種々の堆
    積カセツトへ円板状物体を自動的に搬送し、その
    際位置調整部、検査テーブル及び堆積カセツトの
    前方に配置された円板状の物体を堆積させるため
    の装置の間における引き渡しのために複数の腕を
    有する旋回レバーが設けられており、この旋回レ
    バーは円板状物体を引き渡す際にいつも円板状物
    体を偏心した位置でそれの下側から吸着ノズルで
    把握する。円板状物体を自動的に搬送するための
    装置において、放出カセツト10から円板状物体
    を取り出すため線状に往復運動可能な搬送アーム
    13が設けられており、このアームの放出カセツ
    ト10の中に差し込まれる部分は非常に平らに形
    成されており、斯くしてこの部分はカセツト10
    とカセツトを支持するテーブル面の間に挿入可能
    になつており、その際このアームの部分には上方
    に向かつて開かれている吸着ノズル14が設けら
    れておりそしてこのアームの部分の延長並びに搬
    送アーム13のガイド15は、放出カセツト10
    と位置調整部16との間の中心連結線−に平
    行に配置されておりそして搬送アーム13は位置
    調整部16に向けられた端の反対側の端が放出カ
    セツト10に挿入可能であり、そして堆積装置と
    しては回転皿39上の半径方向に往復堆移可能に
    配置され、旋回レバー21によつて引き渡される
    円板状の物体11をこの場合も偏心した位置で把
    握する往復台37が設けられておりそして堆積カ
    セツト34,35,36の開口部は回転皿39の
    周囲に配置されていることを特徴とする円板状物
    体の自動搬送装置。 2 放出カセツト10、位置調整部16及び検査
    テーブル27は円板状物体11を引き渡す際に互
    いに一直線上に位置すること及び旋回レバー21
    の旋回軸26はこの直線上に位置することを特徴
    とする、特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 搬送アーム13に設けられた複数の吸着ノズ
    ル14はアームの推移方向に相前後して位置して
    いることを特徴とする、特許請求の範囲第1項記
    載の装置。 4 旋回レバー21の外端に、旋回円周の方向に
    相並んで位置する複数の吸着ノズル24,25が
    配置されていることを特徴とする、特許請求の範
    囲第1項記載の装置。 5 往復台37の一端にそれの移動方向に対して
    垂直方向に相並んで位置する複数の吸着ノズル3
    8が配置されていることを特徴とする、特許請求
    の範囲第1項記載の装置。 6 旋回アーム21の末端に配置された吸着ノズ
    ル24,25はそれぞれ別個に操作可能であるこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第5項記載の装
    置。 7 カセツト10,34,35,36の段階的高
    さ調整のために、大きな行程とこれに続く極めて
    小さな行程とを有する二段階の操作機構が備えら
    れていることを特徴とする、特許請求の範囲第1
    項から第6項までのうちのいずれか1つに記載の
    装置。 8 双方の行程が互いに約10:1の比になつてい
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第7項記載
    の装置。 9 円板状物体11の運搬軌道内の放出カセツト
    10と位置調整部16との間に少なくとも1つの
    光学的検出装置19,20が配置され、その光軸
    が搬送アームの移動軌道外にあることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第1項から第8項までのうち
    のいずれか1つに記載の装置。 10 検査テーブル27がこれとは別の検査装置
    29の一部になつていることを特徴とする、特許
    請求の範囲第1項から第9項までのうちのいずれ
    か1つに記載の装置。 11 第一のモジユールには放出カセツト10の
    ための高さ調整可能な収容台42、位置調整部1
    6、搬送アーム13及び旋回レバー21が包括さ
    れ、第二のモジユールには堆積カセツト34,3
    5,36の高さ調整可能な収容台48及び往復台
    37を伴う回転皿39が包括されそして第三のモ
    ジユールは検査テーブル27を伴う検査装置29
    が包括されているモジユール構造を特徴とする、
    特許請求の範囲第1項から第10項までのうちの
    いずれか1つに記載の装置。 12 互いに調整済みの配列状態にモジユールを
    収容するために共通の基礎板が設けられているこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第11項記載の
    装置。
JP58090153A 1982-05-25 1983-05-24 円板状物体の自動搬送装置 Granted JPS58216835A (ja)

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