JPH0325405Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、半導体、セラミツク、ガラス等の
薄板状基板（以下、「ウエハ」という）を複数枚
収納容器（以下、「カセツト」という）に収容し
て、カセツトに収容したままの状態でウエハに対
し各種の表面処理を施すウエハの表面処理装置に
おいて、搬送専用カセツトに収容された表面処理
前のウエハを処理専用カセツトに移し替え、また
処理専用カセツトに収容された表面処理済みのウ
エハを搬送専用カセツトに移し替えるためのウエ
ハの移し替え装置に関するものである。

〔従来の技術〕

例えば、半導体素子は、半導体ウエハに対し金
属蒸着、フオトレジスト塗布、パターン焼付け、
現像、エツチング、洗浄、剥膜、不純物拡散等と
いつた多数の表面処理を施して製造される。そし
て、処理工程の種類により、ウエハを１枚ずつ処
理する場合と、多数枚のウエハをカセツトに収容
したままの状態で同時に処理する場合とがある。

多数枚のウエハをカセツトに収容したままの状
態でウエハの表面処理を行なう場合においては、
処理工程によつて、処理に先立ちウエハを搬送専
用カセツトから処理専用カセツトに移し替え、ま
た処理終了後に処理済みのウエハを処理専用カセ
ツトから搬送専用カセツトに移し替える必要のあ
る場合がある。例えば、処理専用カセツトとして
熱処理装置では石英製カセツトを、また薬液内浸
漬処理装置ではフツ素樹脂製カセツトをそれぞれ
使用し、それらの処理専用カセツトと搬送専用の
ポリプロピレン製カセツトとの間でウエハの移し
替えが行なわれる。

これらの技術に関して、従来、例えば雑誌
「Semiconductor World」，1985年11月号の75ペ
ージには、拡散システムにおけるウエハの出入口
とストツカーとを連結し、搬送用カセツトと石英
ボード間でのウエハの移し替えを行ない、ウエハ
を支持した石英ボードを拡散炉へ搬出入するフロ
ーが開示されている。

また、ウエハの移し替え装置として、例えば特
公昭56−44566号公報（発明の名称「物体整列装
置」）には、第１及び第２カセツトを載置し、各
所定位置にそれぞれ貫通孔が形成されたテーブル
と、カセツト内に収容されていたウエハを保持し
た状態で前記貫通孔を通して垂直方向に上下動す
る上下移動手段と、この上下移動手段によつてカ
セツトの上方に移動させられたウエハを一括して
挟持し整列させる整列手段と、この整列手段と前
記テーブルとを相対移動させる駆動手段とから構
成れた装置が開示されている。

さらにまた、特公昭61−45381号公報（発明の
名称「半導体ウエーハの移替え装置」）には、第
１及び第２カセツトの各載置位置にカセツト内の
ウエハを一括保持して上昇する上下動手段をそれ
ぞれ設け、一方の上下動手段によつてその一方の
カセツトの上方に移動させられたウエハを一括し
て挟持する挟持手段、及びこの挟持手段を他方の
カセツトの上方へ180゜回動させてウエハを他方の
上下動手段に移す回動手段を設けた装置が開示さ
れている。

〔考案が解決しようとする問題点〕

上記したように、半導体装置の製造工程は各種
の表面処理工程よりなり、そのうち、多数枚のウ
エハをカセツトに収容したままの状態でウエハの
表面処理を行なう場合に、処理工程によつては、
カセツトの耐食性や防塵等の問題から、処理工程
ごとに専用のカセツトを使用している。そして、
各表面処理装置においては、上記したような移し
替え装置を用いて搬送専用のカセツトと処理専用
のカセツトとの間でウエハの移し替えが行なわれ
ている。

ところが、従来は、各表面処理装置に移し替え
機構が１つ設けられているだけであつた。このた
め、例えばウエハの洗浄工程においては、洗浄を
終えたウエハを処理専用カセツトから搬送専用カ
セツトに移し替える際に、先に搬送専用カセツト
から処理専用カセツトに移し替えた際に未洗浄の
ウエハと接触した部分に洗浄済みのウエハが触れ
ることになる。この結果、未洗浄のウエハに付着
していた塵埃が前記移し替え時に装置の一部に転
移して付着していたりすると、折角洗浄されて清
浄にされたウエハにその塵埃が再付着することに
なり、洗浄処理の効果を低下させるという問題点
があつた。

この考案は、上記問題点を解決するためになさ
れたものであつて、複数枚のウエハをカセツトに
収容したままの状態でウエハに対し各種の表面処
理を施す表面処理装置において、搬送専用カセツ
トと処理専用カセツトとの間におけるウエハの移
し替え時に、処理前のウエハが接触した部分に処
理済みのウエハが触れたりすることのないウエハ
の移し替え装置を提供することを技術的課題とす
る。

〔課題を解決するための手段〕

この考案は、上記課を達成するための手段とし
て、ウエハの移し替え装置を以下のように構成し
た。すなわち、この考案に係るウエハの移し替え
装置は、下底部が開口しかつ内側面に複数枚のウ
エハを整列させて収容するための収容溝が所定ピ
ツチで形成された搬送専用カセツトを載置する載
置部を有し、その載置部に貫通穴が形成された少
なくとも１台の搬送専用カセツト用テーブルと、
同じく下底部が開口しかつ内側面に複数枚のウエ
ハを整列させて収容するための収容溝が前記搬送
専用カセツトの収容溝と同一ピツチで形成された
処理専用カセツトを載置する載置部を有し、その
載置部に貫通穴が形成された少なくとも１台の処
理専用カセツト用テーブルと、前記各テーブルに
形成された貫通穴より小さい外形を有しかつ上面
に、ウエハの端部が挿入されそのウエハを保持す
るための保持溝が前記各カセツトに形成された収
容溝と同一ピツチで形成された昇降板と、この昇
降板を前記各テーブルの貫通穴及び前記各カセツ
トの下底部開口を貫通して昇降させる昇降手段
と、前記昇降板の直上位置に平行に配設され、対
向側面の少なくとも一方に前記各カセツトに形成
された収容溝と同一ピツチのウエハ挾持溝が形成
されて、拡狭自在に支持され、前記昇降手段によ
つて前記昇降板を上昇させることにより前記各カ
セツト内から昇降板の上面に移載された複数枚の
ウエハを挾持する一対の挾持腕と、これら一対の
挾持腕の対向側面の間隔を変化させる拡狭手段
と、前記各テーブルと前記昇降板及び挾持腕とを
水平方向に相対移動させる水平移動手段とを備え
てなり、ウエハの表面処理装置に併設されるウエ
ハの移し替え装置において、前記処理専用カセツ
ト用テーブルを前記ウエハ表面処理装置に連接
し、前記昇降板及び挾持腕を、表面処理前のウエ
ハ専用（以下、「処理前専用」という）及び表面
処理済みのウエハ専用（以下、「処理済み専用」
という）にそれぞれ一対併設するとともに、前記
搬送専用カセツト用テーブルを表面処理済みのウ
エハ専用の昇降板及び挾持腕に対しその直上及び
直下位置まで水平方向に相対移動可能とし、かつ
前記処理専用カセツト用テーブルを表面処理前の
ウエハ専用の昇降板及び挾持腕に対しその直上及
び直下位置まで水平方向に相対移動可能としたこ
とを特徴として構成されている。

また、上記構成のウエハの移し替え装置におい
て、搬送専用カセツト用テーブルと処理専用カセ
ツト用テーブルとをそれぞれ別体として設ける代
わりに、搬送専用カセツトを載置する少なくとも
１つの搬送専用カセツト用載置部と、処理専用カ
セツトを載置する少なくとも１つの処理専用カセ
ツト用載置部とを有し、その各載置部にそれぞれ
貫通穴が形成されたテーブルを１台だけ設ける構
成とすることができる。

〔作用〕

上記構成のウエハの移し替え装置においては、
表面処理前のウエハを収容した搬送専用カセツト
がテーブルの載置部に載置されると、水平移動手
段によつてテーブルと処理前専用の昇降板及び挾
持腕とを水平方向に相対移動させることにより、
処理前専用昇降板の直上位置に搬送専用カセツト
を配置した後、昇降手段により処理前専用の昇降
板が、テーブル下方の待機位置からテーブルの貫
通穴及び搬送専用カセツトの下底部開口を貫通し
て一対の挾持腕の配設位置まで上昇する。この際
に、複数枚のウエハは、搬送専用カセツト内から
処理前専用昇降板の上面に移載される。次に、拡
狭手段によつて処理前専用の一対の挾持腕の対向
側面の間隔が狭められることにより、昇降板の上
面に移載されたウエハがそれら一対の挾持腕によ
つて挾持される。昇降板を元のテーブル下方位置
へ下降させた後、水平移動手段によつてテーブル
と処理前専用の昇降板及び挾持腕とを水平方向に
相対移動させることにより、処理前専用挾持腕の
直下位置に、テーブルの載置部に載置された空の
処理専用カセツトが配置される。続いて、処理前
専用昇降板が再びテーブル下方の待機位置からテ
ーブルの貫通穴及び処理専用カセツトの下底部開
口を貫通して上昇し、昇降板の上面の保持溝にウ
エハの下端部が挿入されると、処理前専用挾持腕
が拡がつて、昇降板上にウエハが保持される。そ
して、昇降板が下降し、元のテーブル下方位置へ
戻る過程で、昇降板の上面から処理専用カセツト
内へウエハが移載されて、搬送専用カセツトから
処理専用カセツトへの処理前のウエハの移し替え
が終了する。

一方、表面処理装置において、処理専用カセツ
ト内に収容された状態でウエハに所要の表面処理
が施された後、表面処理済みのウエハを収容した
処理専用カセツトがテーブルの載置部に載置され
ると、上記したのと同様の工程で、処理済み専用
の昇降板と処理済み専用の挾持腕とが用いられる
ことにより、処理専用カセツトから搬送専用カセ
ツトへの処理済みのウエハの移し替えが行なわれ
る。

そして、上述したように、このウエハの移し替
え装置においては、搬送専用カセツトから処理専
用カセツトへの処理前のウエハの移し替えと、処
理専用カセツトから搬送専用カセツトへの処理済
みのウエハの移し替えとは、各々別の専用の昇降
板及び挾持腕を使用してそれぞれ行なわれるの
で、搬送専用カセツトと処理専用カセツトとの間
におけるウエハの移し替え時に、処理前のウエハ
が接触した部分に処理済みのウエハが触れたりす
るようなことは全くなく、処理前のウエハに付着
していた塵埃が処理済みのウエハに付着するよう
な機会は皆無になる。

〔実施例〕

以下、この考案の好適な実施例について図面を
参照しながら説明する。

第１−１図〜第１−４図は、この考案の１実施
例に係るウエハの移し替え装置によりウエハの移
し替え作業を行なつている様子を各工程ごとに示
す模式正面図である。

まず、このウエハの移し替え装置の構成につい
て説明する。この装置には、搬送専用カセツト１
０を載置する載置部を有し、平面形状が矩形状の
搬送専用カセツト用テーブル１４、及び処理専用
カセツト１２を載置する載置部を有し、同じく平
面形状が矩形状の処理専用カセツト用テーブル１
６が設けられている。搬送専用カセツト１０は、
その下底部に開口１８が形成され、長手側（紙面
に直交する方向）の内側面に複数枚のウエハＷを
整列させて収容するための収容溝２０が所定ピツ
チで形成されている。また、処理専用カセツト１
２も、その下底部に開口２２が形成されており、
長手側内側面に、搬送専用カセツト１０の収容溝
２０と同一ピツチの収容溝２４が形成されてい
る。そして、搬送専用カセツト用テーブル１４及
び処理専用カセツト用テーブル１６には、カセツ
ト１０，１２を載置する各載置部に矩形状の貫通
穴２６，２８がそれぞれ形成されている。

また、この装置の所定位置には、平面形状が矩
形状で、テーブル１４，１６に形成された貫通穴
２６，２８より小さい外形を有する処理前専用昇
降板３０及び処理済み専用昇降板３２がそれぞれ
昇降自在に配設されており、さらにその各昇降板
３０，３２を昇降させる昇降手段（図示せず）が
それぞれ設けられている。昇降板３０，３２の上
面には、ウエハの下端部が挿入されそのウエハを
保持するための保持溝３４，３６が、上記した各
カセツト１０，１２に形成された収容溝２０，２
４と同一ピツチで形成されている。これら昇降板
３０，３２は、各昇降手段を駆動させることによ
り、各テーブル１４，１６の貫通穴２６，２８及
び各カセツト１０，１２の下底部開口１８，２２
を貫通して昇降することができるようになつてい
る。

さらに、各昇降板３０，３２の直上位置には、
処理前専用の一対の挾持腕３８，３８及び処理済
み専用の一対の挾持腕４０，４０がそれぞれ同一
水平面内において平行に配設されている。各挾持
腕３８，３８，４０，４０には、互いに対向する
側面に各カセツト１０，１２に形成された収容溝
２０，２４と同一ピツチのウエハ挾持溝４２，４
２，４４，４４がそれぞれ形成されている。尚、
ウエハ挾持溝は、対向する一対の挾持腕のいずれ
か一方の側面だけに形成するようにしてもよい。
これら各一対の挾持腕３８，３８，４０，４０
は、各支持部（図示せず）にそれぞれ拡狭自在に
支持されている。そして、各支持部に設けられた
拡狭手段を駆動させることにより、各一対の挾持
腕３８，３８，４０，４０の各対向側面の間隔を
変化させることができ、その間隔を狭めることに
より、昇降手段によつて上昇させられた昇降板３
０，３２の上面に保持されたウエハを挾持して、
昇降板３０，３２からウエハを受け取ることがで
きるようになつている。尚、昇降板３０，３２の
昇降動作、及び挾持腕３８，４０の拡狭動作は、
いずれも同時に行なわせることもできる。

そして、搬送専用カセツト用テーブル１４は、
搬送専用カセツト１０の搬出入位置と処理前専用
の昇降板３０及び挾持腕３８，３８の配設位置と
の間を、また処理専用カセツト用テーブル１６
は、処理専用カセツト１２の搬出入位置と処理済
み専用の昇降板３２及び挾持腕４０，４０の配設
位置との間を、それぞれ水平方向に往復移動自在
にされており、その各水平移動手段（図示せず）
がそれぞれ設けられている。

次に、上記構成のウエハの移し替え装置による
ウエハの移し替え作業について説明する。

前段の処理装置からカセツト搬送手段により、
第１−１図Ａに示すように、ウエハＷを収容した
搬送専用カセツト１０が搬入され、搬送専用カセ
ツト用テーブル１４の載置部に置かれると、搬送
専用カセツト１０を載置した状態のテーブル１４
が水平移動手段によつて水平方向に移動させられ
る。この際、処理専用カセツト用テーブル１６上
には、空の処理専用カセツト１２が載置されてい
る。そして、同図Ｂに示すように、テーブル１４
が処理前専用の昇降板３０の直上でかつ挾持腕３
８，３８の直下位置に停止すると、昇降手段によ
つて処理前専用昇降板３０が上昇させられ、テー
ブル１４の貫通穴２６及びカセツト１０の下底部
開口１８を貫通し、カセツト１０の内方を通過す
る間にカセツト１０内に収容されていた複数枚の
ウエハＷをカセツト１０の収容溝２０から浮かせ
て昇降板３０の保持溝３４に保持し、同図Ｃに示
すように、ウエハＷを保持した昇降板３０は、処
理前専用挾持腕３８，３８の高さ位置において停
止する。昇降板３０が停止すると、拡狭手段を駆
動させて、一対の挾持腕３８，３８の対向側面の
間隔を狭めることにより、第１−２図Ｄに示すよ
うに、昇降板３０の上面に保持されているウエハ
Ｗを挾持腕３８，３８のウエハ挾持溝４２，４２
によつて挾持する。ウエハＷが挾持腕３８，３８
によつて確実に挾持されると、それまでウエハＷ
を保持していた昇降板３０が下降し、同図Ｅに示
すように、昇降板３０が元の待機位置に復帰する
と、空の搬送専用カセツト１０を載置したテーブ
ル１４が元の搬出入位置の方向へ移動する。

搬送専用カセツト用テーブル１４の移動ととも
に、空の処理専用カセツト１２を載置した処理専
用カセツト用テーブル１６も水平移動手段によつ
て水平方向に移動させられ、同図Ｆに示すよう
に、搬送専用カセツト用テーブル１４と入れ替わ
つて処理専用カセツト用テーブル１６が処理前専
用の昇降板３０の直上位置に配置される。処理専
用カセツト用テーブル１６が昇降板３０の直上位
置に停止すると、昇降手段によつて昇降板３０が
再び上昇させられ、テーブル１６の貫通穴２８及
びカセツト１２の下底部開口２２を貫通して、第
１−３図Ｇに示すように、挾持腕３８，３８によ
つて挾持されているウエハＷの下端部を保持溝３
４内に挿入させて昇降板３０の上面でウエハＷを
保持する。ウエハＷが昇降板３０によつて確実に
保持されると、一対の保持腕３８，３８の間隔が
拡がり、同図Ｈに示すように、ウエハＷは挾持腕
３８，３８による挾持状態を解かれ、続いて、ウ
エハＷを保持した昇降板３０が下降する。そし
て、昇降板３０が処理専用カセツト１２の内方を
通過する間に、同図Ｉに示すように、昇降板３０
から処理専用カセツト１２の収容溝２４へウエハ
Ｗが移し替えられ、昇降板３０は、カセツト１２
の下底部開口２２及びテーブル１６の貫通穴２８
を貫通して、元の待機位置へ移動する。昇降板３
０がテーブル１６下方の元の待機位置に戻ると、
複数枚のウエハＷを収容した処理専用カセツト１
２を載置したテーブル１６は、処理専用カセツト
１２の搬出入位置の方へ移動して、第１−４図Ｊ
に示すように、ウエハＷを収容した処理専用カセ
ツト１２が搬出入位置に置かれる。そして、ウエ
ハＷを収容した処理専用カセツト１２は、図示し
ないカセツト移送手段によつて表面処理装置へ送
られ、処理専用カセツト１２に収容されたままの
状態でウエハＷに所要の表面処理が施される。

次に、第２−１図〜第２−４図は、表面処理装
置によつて所要の表面処理が施され、処理専用カ
セツト１２に収容された表面処理済みのウエハ
W′を、処理専用カセツト１２から搬送専用カセ
ツト１０に移し替えるための作業工程を示す模式
正面図である。

この移し替え作業も、第１−１図〜第１−４図
について説明したのと同様の各工程を経ることに
よつて行なわれるが、搬送専用カセツト１０から
処理専用カセツト１２への移し替えが、上記した
ように処理前専用昇降板３０及び処理前専用挾持
腕３８，３８だけを用いて行なわれたのに対し、
この処理専用カセツト１２から搬送専用カセツト
１０への移し替えは、処理済み専用昇降板３２及
び処理済み専用挾持腕４０，４０だけを用いて行
なわれる。従つて、処理専用カセツト１２から搬
送専用カセツト１０へのウエハの移し替え時に、
処理済みのウエハW′が、処理前のウエハＷが接
触した部分に触れるようなことはない。

第３図に示したウエハの移し替え装置は、第１
図及び第２図に示すように搬送専用カセツト用テ
ーブル１４と処理専用カセツト用テーブル１６と
をそれぞれ別体として設ける構成に代えて、１台
の共通のテーブル４６を往復移動自在に配設し、
そのテーブル４６に、搬送専用カセツト１０を載
置する搬送専用カセツト用載置部と、処理専用カ
セツト１２を載置する処理専用カセツト用載置部
とを設け、その各載置部にそれぞれ貫通穴４８，
５０を形成したものである。それ以外の構成は、
第１−１図〜第１−４図に示した上記装置と変わ
らない。

第４図は、この考案に係るウエハの移し替え装
置を浸漬型の表面処理装置に装着した具体例を示
す全体斜視図である。同図において、第１−１図
〜第１−４図と同一の符号を付したものは、同一
の作用をなす同一部材を示す。尚、この実施例に
示すウエハの移し替え装置５２は、２台の搬送専
用カセツト用テーブル５４，５６と、２台の処理
専用カセツト用テーブル５８，６０とを備えてい
る。同図において、６２は、ウエハの移し替え装
置５２の上方に設けられたカセツト収納棚であ
り、このカセツト収納棚６２は、その内部が複数
区画に分けられており、１側面が開口してカセツ
ト１０，１２の出入口となつている。このカセツ
ト収納棚６２には、処理の進行状況等に応じて搬
送専用カセツト１０又は処理専用カセツト１２が
一時保管され、ウエハ移し替え装置５２との間で
カセツトの授受が行なわれる。６４は、一端部に
おいてウエハ移し替え装置５２に連接し、複数の
表面処理槽６６を備えた浸漬型表面処理部であ
る。この表面処理部６４の一側に沿つて、表面処
理部６４の他端部とウエハ移し替え装置５２との
間を連絡するカセツト搬送装置６８が設けられて
いる。また、７０は、カセツト移し替え装置５２
とカセツト収納棚６２とにおいてカセツト１０，
１２を移送するカセツト移送装置、７２は、表面
処理部６４においてローダ７４から各処理槽６６
を経てアンローダ７６まで処理専用カセツト１２
を移送するカセツト移送装置、７８は、カセツト
搬送装置６８の端部位置から表面処理部６４のロ
ーダ７４へ処理専用カセツト１２を移送するカセ
ツト移送装置である。

この考案に係るウエハの移し替え装置は上記し
たような構成を有しているが、この考案の範囲
は、上記説明並びに図面の内容によつて限定され
るものではなく、要旨を逸脱しない範囲で種々の
変形例を包含し得る。例えば、上記実施例では、
カセツトを載置するテーブルを水平方向に移動さ
せるようにしているが、テーブルを固定し、昇降
板及び挾持腕を一緒に水平方向に移動させるよう
にしてもよい。また、第３図に示した実施例にお
いて、カセツトを載置する載置部をテーブルに、
例えば４個所設けて貫通穴を４個形成するように
してもよい。さらに、このウエハの移し替え装置
は、浸漬型表面処理装置に限らず、熱処理等、各
種のウエハの表面処理装置に適用することができ
るのは言うまでもない。

〔考案の効果〕

この考案は以上説明したように構成されかつ作
用するので、複数枚のウエハをカセツトに収容し
たままの状態でウエハに対し各種の表面処理を施
す表面処理装置において、この考案に係る装置を
使用してウエハの移し替えを行なうときは、搬送
専用カセツトと処理専用カセツトとの間における
ウエハの移し替え時に、処理前のウエハが接触し
た部分に処理済みのウエハが触れる機会は全く無
いため、処理前のウエハに付着していた塵埃が装
置の一部を媒介として処理済みのウエハに再付着
するということがなくなり、また、人手を全く介
さずにウエハの移し替え作業が行なわれるため、
人が当該作業に関与することに伴う発塵による処
理済みウエハへのパーテイクル付着等といつた問
題が起こらず、表面処理済みのウエハの品質低下
を防ぐことができ、半導体デバイス等の品質向上
に大いに寄与し得る。さらに、この考案の装置
は、ウエハの移し替え機構を単に２台連設したと
いつた構成のものではないので、装置全体が小型
化され、クリーンルーム内等での設置スペースを
小さくすることができるとともに、ウエハの移し
替え作業を効率良く行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１−１図〜第１−４図及び第２−１図〜第２
−４図はそれぞれ、この考案の第１の構成に係る
ウエハの移し替え装置によりウエハの移し替え作
業を行なつている様子を各工程ごとに示す模式正
面図、第３図は、この考案の別の構成例を示すウ
エハの移し替え装置の模式正面図、第４図は、こ
の考案に係るウエハの移し替え装置を浸漬型の表
面処理装置に装着した具体例を示す全体斜視図で
ある。 １０……搬送専用カセツト、１２……処理専用
カセツト、１４……搬送専用カセツト用テーブ
ル、１６……処理専用カセツト用テーブル、１
８，２２……下底部開口、２０，２４……収容
溝、２６，２８……貫通穴、３０……処理前専用
昇降板、３２……処理済み専用昇降板、３４，３
６……保持溝、３８……処理前専用保持腕、４０
……処理済み専用保持腕、４２，４４……ウエハ
挾持溝、４６……共通テーブル、４８，５０……
貫通穴、５２……ウエハの移し替え装置、５４，
５６……搬送専用カセツト用テーブル、５８，６
０……処理専用カセツト用テーブル、Ｗ……表面
処理前のウエハ、W′……表面処理済みのウエハ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 下底部が開口しかつ内側面に複数枚のウエハ
   を整列させて収容するための収容溝が所定ピツ
   チで形成された搬送専用カセツトを載置する載
   置部を有し、その載置部に貫通穴が形成された
   少なくとも１台の搬送専用カセツト用テーブル
   と、同じく下底部が開口しかつ内側面に複数枚
   のウエハを整列させて収容するための収容溝が
   前記搬送専用カセツトの収容溝と同一ピツチで
   形成された処理専用カセツトを載置する載置部
   を有し、その載置部に貫通穴が形成された少な
   くとも１台の処理専用カセツト用テーブルと、
   前記各テーブルに形成された貫通穴より小さい
   外形を有しかつ上面に、ウエハの下端部が挿入
   されそのウエハを保持するための保持溝が前記
   各カセツトに形成された収容溝と同一ピツチで
   形成された昇降板と、この昇降板を前記各テー
   ブルの貫通穴及び前記各カセツトの下底部開口
   を貫通して昇降させる昇降手段と、前記昇降板
   の直上位置に平行に配設され、対向側面の少な
   くとも一方に前記各カセツトに形成された収容
   溝と同一ピツチのウエハ挾持溝が形成されて、
   拡狭自在に支持され、前記昇降手段によつて前
   記昇降板を上昇させることにより前記各カセツ
   ト内から昇降板の上面に移載された複数枚のウ
   エハを挾持する一対の挾持腕と、これら一対の
   挾持腕の対向側面の間隔を変化させる拡狭手段
   と、前記各テーブルと前記昇降板及び挾持腕と
   を水平方向に相対移動させる水平移動手段とを
   備えてなり、ウエハの表面処理装置に併設され
   るウエハの移し替え装置において、前記処理専
   用カセツト用テーブルを前記ウエハ表面処理装
   置に連接し、前記昇降板及び挾持腕を、表面処
   理前のウエハ専用及び表面処理済みのウエハ専
   用にそれぞれ一対併設するとともに、前記搬送
   専用カセツト用テーブルを表面処理済みのウエ
   ハ専用の昇降板及び挾持腕に対しその直上及び
   直下位置まで水平方向に相対移動可能とし、か
   つ前記処理専用カセツト用テーブルを表面処理
   前のウエハ専用の昇降板及び挾持腕に対しその
   直上及び直下位置まで水平方向に相対移動可能
   としたことを特徴とするウエハの移し替え装
   置。 ２ 下底部が開口しかつ内側面に複数枚のウエハ
   を整列させて収容するための収容溝が所定ピツ
   チで形成された搬送専用カセツトを載置する少
   なくとも１つの搬送専用カセツト用載置部、及
   び同じく下底部が開口しかつ内側面に複数枚の
   ウエハを整列させて収容するための収容溝が前
   記搬送専用カセツトの収容溝と同一ピツチで形
   成された処理専用カセツトを載置する少なくと
   も１つの処理専用カセツト用載置部を有し、そ
   の各載置部にそれぞれ貫通穴が形成されたテー
   ブルと、前記テーブルに形成された各貫通穴よ
   り小さい外形を有しかつ上面に、ウエハの下端
   部が挿入されそのウエハを保持するための保持
   溝が前記各カセツトに形成された収容溝と同一
   ピツチで形成された昇降板と、この昇降板を前
   記テーブルの各貫通穴及び前記各カセツトの下
   底部開口を貫通して昇降させる昇降手段と、前
   記昇降板の直上位置に平行に配設され、対向側
   面の少なくとも一方に前記各カセツトに形成さ
   れた収容溝と同一ピツチのウエハ挾持溝が形成
   されて、拡狭自在に支持され、前記昇降手段に
   よつて前記昇降板を上昇させることにより前記
   各カセツト内から昇降板の上面に移載された複
   数枚のウエハを挾持する一対の挾持腕と、これ
   ら一対の挾持腕の対向側面の間隔を変化させる
   拡狭手段と、前記テーブルと前記昇降板及び挾
   持腕とを水平方向に相対移動させる水平移動手
   段とを備えてなり、ウエハの表面処理装置に併
   設されるウエハの移し替え装置において、前記
   テーブルを前記ウエハ表面処理装置に連接し、
   前記昇降板及び挾持腕を、表面処理前のウエハ
   専用及び表面処理済みのウエハ専用にそれぞれ
   一対併設するとともに、前記テーブルを前記昇
   降板及び挾持腕に対し、テーブルの前記搬送専
   用カセツト用載置部が表面処理済みのウエハ専
   用の昇降板及び挾持腕の直上及び直下位置ま
   で、テーブルの前記処理専用カセツト用載置部
   が表面処理前のウエハ専用の昇降板及び挾持腕
   の直上及び直下位置まで、水平方向に相対移動
   可能としたことを特徴とするウエハの移し替え
   装置。