JPH03256868A - 真空用二重容器 - Google Patents
真空用二重容器Info
- Publication number
- JPH03256868A JPH03256868A JP5273390A JP5273390A JPH03256868A JP H03256868 A JPH03256868 A JP H03256868A JP 5273390 A JP5273390 A JP 5273390A JP 5273390 A JP5273390 A JP 5273390A JP H03256868 A JPH03256868 A JP H03256868A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- high vacuum
- thickness
- valve
- internal container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000007872 degassing Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012611 container material Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Rigid Containers With Two Or More Constituent Elements (AREA)
- Packages (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、最近特に脚光を浴びている超高真空や極高真
空の分野で、低い圧力の達成を目的として、容器からの
放出ガスを押さえ、短時間で超高真空や極高真空を得る
為の手段を提供するものである。
空の分野で、低い圧力の達成を目的として、容器からの
放出ガスを押さえ、短時間で超高真空や極高真空を得る
為の手段を提供するものである。
従来、超高真空や極高真空を得る方法として、なるべく
放出ガスの少ない材料を使う、表面処理を行う、電解研
磨を行う、又材料表面に皮膜を作る等の対策が行われて
来た。装置はこのような材料を使ったり、処理を行った
りしたのち、組立後、真空容器を高真空に排気しながら
容器を300℃〜500℃に加熱して脱ガスし、材料に
付着しているガスを強制的に追い出す方法が取られて居
る。
放出ガスの少ない材料を使う、表面処理を行う、電解研
磨を行う、又材料表面に皮膜を作る等の対策が行われて
来た。装置はこのような材料を使ったり、処理を行った
りしたのち、組立後、真空容器を高真空に排気しながら
容器を300℃〜500℃に加熱して脱ガスし、材料に
付着しているガスを強制的に追い出す方法が取られて居
る。
この脱ガス処理により、材料表面より放出されるガス量
が少なくなり、やがては高真空が得られるが、問題はこ
の処理時間で、少な(とも脱ガス処理に10時間から2
4時間を必要とし、短時間で高真空を達成する事は出来
ない。本発明はこのような問題となっている処理時間を
大幅に短縮する手段を提供するものである。
が少なくなり、やがては高真空が得られるが、問題はこ
の処理時間で、少な(とも脱ガス処理に10時間から2
4時間を必要とし、短時間で高真空を達成する事は出来
ない。本発明はこのような問題となっている処理時間を
大幅に短縮する手段を提供するものである。
真空内における材料表面からのガス放出現象には、物理
吸着と化学吸着があり、前者は比較的簡単に放出される
が、後者のガス放出には時間を必要とする。これは化学
吸着の場合は、表面に吸着されたガスが材料中の元素等
と結び付いて化合物を作る為と、材料である板の厚み方
向で、ガスが少しずつ拡散して来る為で、板の厚みが厚
い程放出されるガスの総量は多くなる。この板の厚みと
ガス放出の時間の関係を式で表すと、金材料の片面を真
空とし、片面を大気にした場合に、真空面に放出される
ガス量が始めの値の5%迄に減少する時間をtとすると
、時間tは1式のようになる。
吸着と化学吸着があり、前者は比較的簡単に放出される
が、後者のガス放出には時間を必要とする。これは化学
吸着の場合は、表面に吸着されたガスが材料中の元素等
と結び付いて化合物を作る為と、材料である板の厚み方
向で、ガスが少しずつ拡散して来る為で、板の厚みが厚
い程放出されるガスの総量は多くなる。この板の厚みと
ガス放出の時間の関係を式で表すと、金材料の片面を真
空とし、片面を大気にした場合に、真空面に放出される
ガス量が始めの値の5%迄に減少する時間をtとすると
、時間tは1式のようになる。
t=o、337L、 /D、、・・・・・・・工但し
、D、:Do exp (−Q/RT)L、:板材
の厚み Q :活性化エネルギー R二気体定数 Do :振動数環 T :絶対温度 このように材料表面の片側を真空内に曝した場合、表面
より放出されるガス量が始めの5%になる迄の時間は、
板の厚みの2乗に比例するので、この板の厚みを可能な
限り薄くすれば板の表面より放出される°ガスは少なく
なり、短時間で高真空が得られる。しかしこの容器を構
成する板の厚みをあまり薄くすると、容器の内部を真空
にした時に容器が破壊してしまうので、本発明はこれを
防ぐ為に容器を二重構造とし、内側容器の板の厚みを薄
(している。
、D、:Do exp (−Q/RT)L、:板材
の厚み Q :活性化エネルギー R二気体定数 Do :振動数環 T :絶対温度 このように材料表面の片側を真空内に曝した場合、表面
より放出されるガス量が始めの5%になる迄の時間は、
板の厚みの2乗に比例するので、この板の厚みを可能な
限り薄くすれば板の表面より放出される°ガスは少なく
なり、短時間で高真空が得られる。しかしこの容器を構
成する板の厚みをあまり薄くすると、容器の内部を真空
にした時に容器が破壊してしまうので、本発明はこれを
防ぐ為に容器を二重構造とし、内側容器の板の厚みを薄
(している。
第1図で本発明の真空用二重容器について説明すると、
真空用二重容器は内側容器l、外側容器2、この2つの
容器の間の空間3、粗引きバルブ6と7、ベントバルブ
5と12、低真空ポンプ8、)11と必要が有れば試料
13と外部よりの試料操作機構4で構成する。ここで内
側容器1を構成する板の厚みは、出来るだけ薄(、試料
操作機構4等を溶接する事が可能な範囲とし、外側容器
を構成する材料の厚みは大気圧に耐えられることが可能
な厚みとする。又、ここで内側容器1内の圧力と外側容
器2内の圧力差で、内側容器1が破壊しない範囲に入る
ようにバルブ系を構成し、動作させる。
真空用二重容器は内側容器l、外側容器2、この2つの
容器の間の空間3、粗引きバルブ6と7、ベントバルブ
5と12、低真空ポンプ8、)11と必要が有れば試料
13と外部よりの試料操作機構4で構成する。ここで内
側容器1を構成する板の厚みは、出来るだけ薄(、試料
操作機構4等を溶接する事が可能な範囲とし、外側容器
を構成する材料の厚みは大気圧に耐えられることが可能
な厚みとする。又、ここで内側容器1内の圧力と外側容
器2内の圧力差で、内側容器1が破壊しない範囲に入る
ようにバルブ系を構成し、動作させる。
以上の構成下での使用方法を第1図を使って説明すると
、内側容器l内の圧力と外側容器2内の圧力差によって
内側容器1が破壊しないようにする為に、内側容器1内
を排気する時は、ベントバルブ5と12を閉め、粗引き
バルブ6と7を同時に開いて内側容器1内と外側容器2
内を同時に排気する。粗引きが終わったら次にベントバ
ルブ7のみを閉め、ベントバルブ6は開いて居る状態で
高真空バルブ11を開き内側容器1内を高真空に排気す
る。このような状態では2つの容器1と2内の圧力差は
数pa以内となる。一方、内側容器1内を大気にする場
合は、高真空バルブ11と粗引きバルブ6を閉め、ペン
ドバルブ5と12を同時に開いて内側容器1内と外側容
器2内を大気圧にする。これらの操作はミスを防ぐため
にも自動で行われる事が望ましい。このように内側容器
1内の圧力と、外側容器2内即ち空間3の圧力差を内側
容器の壁を構成する材料が破壊しない範囲でる事が可能
上なる。
、内側容器l内の圧力と外側容器2内の圧力差によって
内側容器1が破壊しないようにする為に、内側容器1内
を排気する時は、ベントバルブ5と12を閉め、粗引き
バルブ6と7を同時に開いて内側容器1内と外側容器2
内を同時に排気する。粗引きが終わったら次にベントバ
ルブ7のみを閉め、ベントバルブ6は開いて居る状態で
高真空バルブ11を開き内側容器1内を高真空に排気す
る。このような状態では2つの容器1と2内の圧力差は
数pa以内となる。一方、内側容器1内を大気にする場
合は、高真空バルブ11と粗引きバルブ6を閉め、ペン
ドバルブ5と12を同時に開いて内側容器1内と外側容
器2内を大気圧にする。これらの操作はミスを防ぐため
にも自動で行われる事が望ましい。このように内側容器
1内の圧力と、外側容器2内即ち空間3の圧力差を内側
容器の壁を構成する材料が破壊しない範囲でる事が可能
上なる。
本発明を使用することにより、内側容器1を比較的薄い
材料で製作出来る為、内側容器1の厚み方向から拡散し
て来るガス量が少なくなり、高真空を得る為の長時間の
脱ガスが不必要になるばかりでなく、到達出来る真空度
も良くなり、極高真空も得ることも可能となる。又、プ
ラズマ装置等の容器材料として通常使われるステンレス
スチール材料の場合で、プラズマによってステンレスス
チール表面がスパッターされ、処理される試料の表面に
重金属が付着し問題となるが、容器を構成する材料とし
て内側容器にアルミニューム等を使い、外側容器にステ
ンレススチールを使う事が可能となる。これによって内
側容器を薄いアルミニューム材料で作り、外側容器をス
テンレススチールで作る事も可能となり、アルミニュー
ム材料だけでは機械的に弱いという問題点もなくなり、
その経済的効果は計り知れない。
材料で製作出来る為、内側容器1の厚み方向から拡散し
て来るガス量が少なくなり、高真空を得る為の長時間の
脱ガスが不必要になるばかりでなく、到達出来る真空度
も良くなり、極高真空も得ることも可能となる。又、プ
ラズマ装置等の容器材料として通常使われるステンレス
スチール材料の場合で、プラズマによってステンレスス
チール表面がスパッターされ、処理される試料の表面に
重金属が付着し問題となるが、容器を構成する材料とし
て内側容器にアルミニューム等を使い、外側容器にステ
ンレススチールを使う事が可能となる。これによって内
側容器を薄いアルミニューム材料で作り、外側容器をス
テンレススチールで作る事も可能となり、アルミニュー
ム材料だけでは機械的に弱いという問題点もなくなり、
その経済的効果は計り知れない。
動作させる事により、内側容器lの材料を薄くす
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (イ)真空容器を内側と外側容器の二重とし、内側容器
を構成する壁材料の厚みを薄く、外側容器を構成する壁
材料の厚みを厚くして大気圧に耐えられるようにした上
で、この内側容器にある空間を置いて大気側に外側容器
を置き、 (ロ)内側容器内の圧力と外側容器内の圧力の差で、内
側容器が破壊しないように排気系を構成し、動作させる
真空用二重容器
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273390A JPH03256868A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 真空用二重容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273390A JPH03256868A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 真空用二重容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03256868A true JPH03256868A (ja) | 1991-11-15 |
Family
ID=12923133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5273390A Pending JPH03256868A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 真空用二重容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03256868A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102295107A (zh) * | 2011-05-11 | 2011-12-28 | 宁波泰尔斯电子实业有限公司 | 恒压真空保鲜盒 |
-
1990
- 1990-03-06 JP JP5273390A patent/JPH03256868A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102295107A (zh) * | 2011-05-11 | 2011-12-28 | 宁波泰尔斯电子实业有限公司 | 恒压真空保鲜盒 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0159007B2 (ja) | ||
| JPH0613361A (ja) | 処理装置 | |
| JPS61231166A (ja) | 複合超高真空装置 | |
| JPH03256868A (ja) | 真空用二重容器 | |
| JPH1081952A (ja) | 反応性物理蒸着装置および反応性物理蒸着方法 | |
| JP3407750B2 (ja) | 電子ビーム蒸着装置 | |
| JPS58117372A (ja) | クライオポンプとバルグゲッタポンプを組合わせた超高真空ポンプ | |
| US3361864A (en) | Furnace for treatment of wax-bonded sinterable preforms | |
| GB2085032A (en) | Isostatic Pressing of Chromium Sputtering Targets | |
| JPH0377274B2 (ja) | ||
| JPH0631154A (ja) | 真空装置 | |
| JPH07138739A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH05106042A (ja) | 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 | |
| JPS6037871B2 (ja) | スパッタリング装置の作動方法 | |
| RU2240377C2 (ru) | Способ увеличения производительности процессов осаждения тонких пленок на подложку | |
| JPH1199326A (ja) | 真空ゲートバルブ及びこれを用いた真空処理装置 | |
| JPH03100383A (ja) | クライオポンプおよび真空排気装置 | |
| JPS6237327Y2 (ja) | ||
| JPH06139984A (ja) | 電子顕微鏡の真空リーク機構 | |
| JPH0532186Y2 (ja) | ||
| JPS63221833A (ja) | 真空装置 | |
| JPS6210270A (ja) | スパツタ装置 | |
| JPS63270457A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH08195430A (ja) | ウェーハ収納箱及び収納方法 | |
| JP2002118067A (ja) | 真空処理方法及び真空処理装置 |