JPH0325982A - 太陽電池セル - Google Patents

太陽電池セル

Info

Publication number
JPH0325982A
JPH0325982A JP1162341A JP16234189A JPH0325982A JP H0325982 A JPH0325982 A JP H0325982A JP 1162341 A JP1162341 A JP 1162341A JP 16234189 A JP16234189 A JP 16234189A JP H0325982 A JPH0325982 A JP H0325982A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
electrode
semiconductor layer
substrate
solar cells
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1162341A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Oda
織田 隆雄
Susumu Yoshida
進 吉田
Hideo Matsumoto
松本 秀雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP1162341A priority Critical patent/JPH0325982A/ja
Publication of JPH0325982A publication Critical patent/JPH0325982A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/544—Solar cells from Group III-V materials

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は複数個の太陽電池を接続する際に接続を容易
にし、且つ接続時に太陽電池セルの機械的強度の低い部
分に力が加わることがないようにした太陽電池セルに関
するものである。
(従来の技術〕 宇宙における太陽電池はシリコン(Si)太陽電池か主
流であるが、より高効率、長寿命の太陽電池としてガリ
ウム砒素(GaAs)太陽電池か注目されている。
GaAs太陽電池はSi太陽電池に比べて重く、また機
械的強度も小さい等の欠点がある。この様な欠点を解決
するために重量が軽く、機械的強度が大きいSi基板の
上にGaAs層を形成した太陽電池の開発が行われてき
た。
第2図は、81基板上にGaAs層を形成して構威され
た従来の太陽電池セルの−例を示す。同図で、第1の半
導体層を構成する例えばn形のSi基板(2)の表面上
には格子整合層として作用する第2の半導体層であるn
形のGaAs層(4)か形成されている。GaAs層(
4)上には動作層として作用する第3の半導体層である
p形のGaAs層(6)か形戒され、該GaAs層(6
)Lには一般に窓効果と称され、発生したキャリャのう
ち発電に寄与するキャリャの数を可及的に多く保つため
のp形のAUGaAs層(8)か形成されている。AU
GaAs層(8)上には絶縁膜からなる反射防止膜(1
0)が形成されている。反射防+h膜としては、例えば
窒化珪素(SiJ4) 、タンタルオキサイド(Ta2
0s)等が使用される。反射防止[(10)およびAU
GaAs層(8)の一部を例えば写真製版およびエッチ
ング作業によって除去してp形のGaAs層(6)の一
部を露出させ、この露出部に接触する電極(l2)か形
成されている。またSi基板(2)の裏面には該Si基
板(2)に接触する電極(14)が形成されている。
(発明か解決しようとする課題) 一般にSi基板(2)とその上に形成されたGaAs層
とは、格子定数、熱膨張係数等が互いに異なるた 〕め
、GaAs層にはストレスが存在しており、わずかなシ
ョックでクラック等が入り易い状態になっている。従っ
て、このようなエビタキシャル成長基板から製作される
太陽電池セルも同様にGaAs層にストレスが存在した
状態にある。このような太陽 )電池セルを複数個接続
する際に、電極(12)に力が加わり、この力が電極の
下のGaAs層に加わると、上記GaAs層かたちまち
破壊して、太陽電池セルの特性が劣化するか、あるいは
動作不能状態になる.従って、第2図に示すような従来
の太陽電池セルは,個々の太陽電池セルとしては使用可
能であるが、これを複数個接続して使用する際には、接
続時に特性が劣化あるいは動作不能になる太陽電池セル
が続出し、実際上使用することができない. この発明は、複数個の太陽電池セルを接続する際に,電
極に加えられた力がGaAs層に加わらないようにした
太陽電池セルを提供することを目的とする. 〔課題を解決するための手段〕 この発明は、Si基板上のGaAs層を形成した太陽電
池において、従来の太陽電池セルではSt基板の裏面に
形成された一方の電極をSi基板の表面に形成すると共
に、GaAs層上に形成される他方の電極の一部を上記
Si基坂上に形成された絶縁膜上にまで延長して形成す
ることにより、2個の電極をセルの同一面上に形或する
。
〔作用〕
この太陽電池セルでは、双方の電極か共にSi基板の表
面側に形成され,しかもGaAs層に接触する電極は、
Si基板の表面に形成された絶縁膜上にまで延長して形
成されて、この部分で機械的に支持されるので,複数個
の太陽電池セルを接続する際に電極に加えられた力がG
aAs層にかかることはない。
(実施例) 以下、第1図(a)乃至(f)を参照しつつこの発明の
太陽電池セルをその製造工程と共に説明する. 第1図(a)で、最初、表面にSin2層が形成された
第1の半導体層であるn形のSi基板(2)を準備し、
上記Si02層の一部を絶縁膜(16)として残し、他
の部分を除去してそこに格子整合層として作用する第2
の半導体層であるn形のGaAs層(22)を形或する
. 次に第1図(b)に示すようにGaAs層(22)上に
動作層として作用する第3の半導体層であるp形のGa
As層(24)を形成し、その上に可視光領域の波長の
光に対して透明で、且つ前述の窓効果をもったp形のA
々GaAs層(26)を形成する。
次に第1図(C)に示すように、写真製版、エッチング
作業によりp形のAJJGaAs層(26)、p形のG
aAs層(24)、n形のGaAs層(22)の一部を
除去し、Si基板(2)の電極形成部(28)を露出さ
せる.次に第1図(d)に示すように、絶縁膜(l6)
、A9GaAs層(26)、電極形成部(28)を覆っ
て絶縁膜としても作用する反射防止膜(30)を形或す
る。反射防止膜(30)としてはSj:+Nn . T
a20g等か使用される. 次に第1図(e)に示すように、写真製版,エッチング
作業により、Si基板(2)の電極形成部(28)上の
反射防止膜(30)を除去し、またP形のGaAs層(
24)に接触する電極が設けられる個所のL記反射防止
膜(30)およびAUGaAs層(26)を除去し、上
記電極形成部(28)および他の電極形成部(32)を
それぞれ露出させる。
最後に第1図(f)に示すように、電極形成部(28)
にオーミック材料を蒸着して一方の電極(34)を形成
し、同様にオーミック材料を蒸着して一端部が上記電極
形或部(32)に電気的に接触し、他端部かSin2層
(16)上の反射防止膜(30)まで伸びた他方の電極
(36)を形成する. 以上の工程により、第1図(f)に示すような構造をも
ったこの発明による太陽電池セルが得られこの発明の太
陽電池セルでは、第3の半導体層であるGaAsF(2
4)に接触する電極(36)の延長部は第lの半導体層
であるSi基板(2)上に形成されたSiO2層(l6
)上に形成され、この部分で支持されるから、複数の太
陽電池を接続する際に、上記電極(36)に力が加わっ
ても、この力は内部ストレスをもったGaAs層(24
)、(22)には直接加わらず,専らSi02層(l6
)よりSi基板(2)に加わるので、上記GaAs層(
24)あるいは(22)が破壊されることはない。また
、双方の電極は共にSi基板(2)の同一面側に形成さ
れているので、複数個の太陽電池セルの接続が簡単にな
る。
以上のように、この発明によれば、複数個の太陽電池セ
ルを接続しても内部ストレスをもったGaAs層に力が
加わることは殆どないので、GaAs層の破壊によって
特性が劣化したり動作不能状態になることはなく,また
接続が簡単な太陽電池セルが得られる.
【図面の簡単な説明】
第1図(a)乃至(f)はこの発明による太陽電池セル
の一実施例を製造する工程を概略的に示した断面図、第
2図は従来の太陽電池セルの一例を概略的に示した断面
図である。 2・・・・第1の半導体層、16・・・・絶縁膜、22
・・・・第2の半導体層、24・・・・第3の半導体層
、34・・・・一方の電極,36・・・・他力の電極。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1の導電形の第1の半導体層としてSi基板が
    使用され、該Si基板上に形成された第1の導電形の第
    2の半導体層、第2の導電形の第3の半導体層としてそ
    れぞれGaAs層が使用された太陽電池セルにおいて、
    上記第1の半導体層に電気的に接触する一方の電極は当
    該第1の半導体層の表面に形成され、上記第2の導電形
    の第3の半導体層に電気的に接触する他方の電極の一部
    は上記第1の半導体層の表面に形成された絶縁膜上にま
    で延長して形成され、それにより双方の電極が同一面上
    に形成されていることを特徴とする太陽電池セル。
JP1162341A 1989-06-22 1989-06-22 太陽電池セル Pending JPH0325982A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1162341A JPH0325982A (ja) 1989-06-22 1989-06-22 太陽電池セル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1162341A JPH0325982A (ja) 1989-06-22 1989-06-22 太陽電池セル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0325982A true JPH0325982A (ja) 1991-02-04

Family

ID=15752715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1162341A Pending JPH0325982A (ja) 1989-06-22 1989-06-22 太陽電池セル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0325982A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5458694A (en) Multispectral photovoltaic component comprising a stack of cells, and method of manufacture
US5716459A (en) Monolithically integrated solar cell microarray and fabrication method
US5811348A (en) Method for separating a device-forming layer from a base body
JP3661941B2 (ja) モノリシックバイパスダイオードおよび太陽電池ストリング装置
JP5512086B2 (ja) 背面側接触のためのviaを有する倒置変性ソーラーセル構造
US5322572A (en) Monolithic tandem solar cell
JPH0831617B2 (ja) 太陽電池及びその製造方法
JPH06511356A (ja) 多スペクトル光起電構成部品
JP2014195118A (ja) 多接合ソーラーセル及びその形成方法
JPH07131041A (ja) 光起電力素子
JP2009076921A (ja) 多接合ソーラーセル及びその製造方法
GB2109995A (en) Semiconductor structures and methods of forming such structures
JPH10163515A (ja) フォトディテクタおよびその製造方法
US5131956A (en) Photovoltaic semiconductor device
JP2878031B2 (ja) 薄形ソーラセルおよび製造法
US4918507A (en) Semiconductor device
US12464848B2 (en) Solar cell device and method for producing the same
JPH02260667A (ja) シリコン基板上化合物半導体太陽電池およびその作製方法
US5142331A (en) Photoelectric conversion semiconductor device
JPH11121774A (ja) GaAs太陽電池
EP3144977A2 (fr) Diode schottky haute tension à nitrure de gallium
CN114883469A (zh) 改善电流传导的发光二极管芯片及其制备方法
JPH0548134A (ja) 太陽電池とその製造方法
JP4003546B2 (ja) Soi基板の製造方法および半導体素子の製造方法
JPH03185768A (ja) 太陽電池セル