JPH03260989A - magnetic bubble memory device - Google Patents

magnetic bubble memory device

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Publication number
JPH03260989A
JPH03260989A JP2057961A JP5796190A JPH03260989A JP H03260989 A JPH03260989 A JP H03260989A JP 2057961 A JP2057961 A JP 2057961A JP 5796190 A JP5796190 A JP 5796190A JP H03260989 A JPH03260989 A JP H03260989A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transfer path
memory device
axis direction
bubble memory
magnetic bubble
Prior art date
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Pending
Application number
JP2057961A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsutoshi Saito
斉藤 勝俊
Minoru Hiroshima
實 廣島
Masahiro Yanai
雅弘 箭内
Takashi Toyooka
孝資 豊岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2057961A priority Critical patent/JPH03260989A/en
Publication of JPH03260989A publication Critical patent/JPH03260989A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、イオン打ち込み転送路を備えた磁気バブルメ
モリデバイスに係り、特に磁気バブルを記録情報として
蓄積するマイナループ転送路のパタン形状に改良を加え
た磁気バブルメモリデバイスに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic bubble memory device equipped with an ion implantation transfer path, and in particular improves the pattern shape of a minor loop transfer path that stores magnetic bubbles as recorded information. The present invention relates to magnetic bubble memory devices.

[従来の技術] 磁気バブルメモリデバイスの基本構成要素である磁気バ
ブル転送路として、従来のパーマロイ転送路パタンに替
わり、イオン打ち込み方式転送路パタンを使用すること
が知られており、メモリデバイスの高集積化が実現でき
るものとして期待されている。イオン打ち込み方式転送
路は第4図に例示したような構造をしている。同図にお
いて1は、磁気バブルを発生し得る磁気バブルの媒体で
ある。これは、例えば、磁性ガーネット膜の如き磁性膜
であり、この中に磁気バブルBが存在する。
[Prior Art] It is known that an ion implantation type transfer path pattern is used instead of the conventional permalloy transfer path pattern as a magnetic bubble transfer path, which is a basic component of a magnetic bubble memory device, and this has improved the high performance of the memory device. It is expected that integration will be possible. The ion implantation transfer path has a structure as illustrated in FIG. In the figure, 1 is a magnetic bubble medium that can generate magnetic bubbles. This is, for example, a magnetic film such as a magnetic garnet film, in which magnetic bubbles B exist.

この磁性膜1の表面に、H21)He”、Ne+等のイ
オンを選択的に打ち込むことにより、バブル(以下、磁
気バブルを単にバブルと略す)転送路]0を形成する。
By selectively implanting ions such as H21) He", Ne+, etc. into the surface of the magnetic film 1, a bubble (hereinafter, magnetic bubble is simply referred to as bubble) transfer path]0 is formed.

1(lの外部領域■2がイオンの打ち込まれる領域であ
る。
1(l) external region 2 is the region into which ions are implanted.

外部から、この膜に垂直な方向にバイアス磁界HBを加
えることで、磁気バブルBを安定に存在させる。磁気バ
ブルの転送は、外部からこの膜の面内で回転する回転磁
界I(Rを加えることで行う。
By applying a bias magnetic field HB from the outside in a direction perpendicular to this film, the magnetic bubbles B are made to exist stably. Transfer of the magnetic bubble is performed by applying a rotating magnetic field I (R) that rotates within the plane of this film from the outside.

回転磁界I(Rによりイオンの打ち込み領域I2を磁化
し、バブル転送路10の境界にバブル吸引磁極を発生す
ることにより、バブルを転送路10の境界に沿って転送
する。回転磁界HRが反時剖回りに回転する場合、バブ
ルの転送方向は矢印P方向である。
The rotating magnetic field I (R magnetizes the ion implantation region I2 and generates a bubble attracting magnetic pole at the boundary of the bubble transfer path 10, thereby transferring bubbles along the boundary of the transfer path 10. When rotating circularly, the direction of bubble transfer is in the direction of arrow P.

第4図中のバブル転送路10は、磁気バブルメモリデバ
イスにおいては、多数個並列に並べて形成し、情報を記
憶するマイナループmとして利用する。実際のデバイス
では、第5図に転送路を模式的に示すように、このマイ
ナループmの他に、情報の入出力路を形成するメジャー
ラインMが、マイナループmに直交する方向に形成され
る。なお、同図のEは、マイナループmの外回りコーナ
部を示す。
In a magnetic bubble memory device, a large number of bubble transfer paths 10 in FIG. 4 are formed in parallel and used as a minor loop m for storing information. In an actual device, in addition to the minor loop m, a major line M forming an information input/output path is formed in a direction orthogonal to the minor loop m, as shown schematically in FIG. 5. Note that E in the figure indicates the outer corner of the minor loop m.

第4図において、さらにバブル磁性膜1は軸対称の結晶
軸方位を有しており、マイナループmのバブル転送方向
4i[11Aは、ストライプ容易軸方向の[112]に
一致させるように従来から行われてきた。
In FIG. 4, the bubble magnetic film 1 further has an axially symmetrical crystal axis orientation, and the bubble transfer direction 4i [11A of the minor loop m is conventionally made to match the stripe easy axis direction [112]. It has been.

ストライプ容易軸方向の[■■21は、磁性膜の結晶方
位[1121,[121コ、[211]を総称する記号
である。
[■■21] in the stripe easy axis direction is a symbol that collectively refers to the crystal orientations [1121, [121], and [211] of the magnetic film.

なお、この種のイオン打ち込み転送路は、例えばアイ・
イー・イー・イー・トランザアクション・オン・マグネ
チックス、エムエージ−〔IE3Trans、 Mag
n、、MAG−13,No、6 (1,977) P、
1744〜1.7641などで知られている。
Note that this type of ion implantation transfer path, for example,
EEE Transaction on Magnetics, MAGE [IE3Trans, Mag
n,, MAG-13, No, 6 (1,977) P,
It is known as 1744-1.7641.

[発明が解決しようとする問題点] このような磁気バブルメモリデバイスを実現するために
は、磁気バブルを安定に転送できるマイ3− ナループm及びメジャーラインMを実現することが基本
である。このために、従来からもイオン打ち込みのプロ
セス条件や転送路パタン形状を各種変えた検討がなされ
てきた。
[Problems to be Solved by the Invention] In order to realize such a magnetic bubble memory device, it is essential to realize a minor loop m and a major line M that can stably transfer magnetic bubbles. For this reason, various studies have been made in the past by changing the process conditions for ion implantation and the shape of the transfer path pattern.

この結果、第6図に示すようなストライプ困難軸方向[
112mから容易軸方向の[■■2]へ折り返す外回り
コーナにおいて、動作バイアス磁界マージンの下限側が
、第7図に示すように直線転送路に比べ狭く(25℃)
、また、低温側(−40’C〜0℃)で極端に悪くなり
実用化に必要十分な安定した転送特性が得られていない
状況である。なお、第6図は、第5図に示した外回りコ
ーナEの拡大図を、そして第7図は、その動作バイアス
磁界マージンの特性図をそれぞれ示したものである。
As a result, the stripe difficult axis direction [
At the outer corner that turns from 112 m to [■■2] in the easy axis direction, the lower limit side of the operating bias magnetic field margin is narrower (25°C) than the straight transfer path, as shown in Figure 7.
Furthermore, the transfer characteristics become extremely poor at low temperatures (-40'C to 0C), making it impossible to obtain stable transfer characteristics necessary for practical use. 6 is an enlarged view of the outer corner E shown in FIG. 5, and FIG. 7 is a characteristic diagram of the operating bias magnetic field margin.

本発明者等の検討によれば、この外回りコーナにおける
動作バイアス磁界マージンの低下は、イオン打込み方式
転送路特有の問題であり、第6図についてさらに具体的
に説明する。バブルの転送方向は矢印Pで示した通りあ
り、転送路の直線部分P3)P、においては、問題ない
が、角のコーナ4 部分P2)P3において著しく特性低下をきたし、バブ
ルの転送が止まったり、隣接する他のループに飛び移る
等の問題があった。
According to the studies of the present inventors, this reduction in the operating bias magnetic field margin at the outer corner is a problem specific to the ion implantation transfer path, and will be explained in more detail with reference to FIG. 6. The bubble transfer direction is as shown by the arrow P, and there is no problem in the straight section P3) of the transfer path, but at the corner section P2) P3, the characteristics deteriorate significantly and the bubble transfer stops. , there were problems such as jumping to other adjacent loops.

したがって、本発明の目的は、この従来のマイナループ
mの外回りコーナにおける動作バイアス磁界マージンが
狭くなる問題点を解消することにあり、広い温度範囲に
わたり安定した転送特性の得られる改良されたマイナル
ープmを備えた磁気バブルメモリデバイスを提供するこ
とにある。
Therefore, an object of the present invention is to solve the problem that the operating bias magnetic field margin at the outer corner of the conventional minor loop m is narrow, and to provide an improved minor loop m that can obtain stable transfer characteristics over a wide temperature range. An object of the present invention is to provide a magnetic bubble memory device with the following features.

[問題点を解決するための手段] 上記本発明の目的は、 (1)  イオン打ち込み転送路を備えた磁気バブルメ
モリデバイスにおいて、 ストライプ困難軸方向[11
2]から容易軸方向[2]へ折り返すマイナループの外
回り転送路コーナのパタン形状を、転送路の主たる直線
状転送路部分に対し傾斜角Oを設けて傾斜させて威る磁
気バブルメモリデバイスにより、そして、好ましくは、 (2)  イオン打ち込み転送路を備えた磁気バブルメ
モリデバイスにおいて、 ストライプ困難軸方向[11
2]から容易軸方向[■■2]へ折り返すマイナループ
の外回り転送路コーナのパタン形状を、転送路の主たる
直線状転送路部分に対し少なくとも3ビット分の転送路
を傾斜角0=10゜〜45°、さらに好ましくは15゜
〜30°に傾斜させて設けて成る磁気バブルメモリデバ
イスにより、また、(3)  イオン打ち込み転送路を
備えた磁気バブルメモリデバイスにおいて、 ストライ
プ困難軸方向[112]から容易軸方向[■■21へ折
り返すマイナループの外回り転送路コーナのパタン形状
を、■字形として成る磁気バブルメモリデバイスにより
、遠戚される。
[Means for Solving the Problems] The objects of the present invention are as follows: (1) In a magnetic bubble memory device equipped with an ion implantation transfer path, the stripe difficult axis direction [11
By using a magnetic bubble memory device, the pattern shape of the outer transfer path corner of the minor loop that is folded back from [2] to the easy axis direction [2] is tilted at an inclination angle O with respect to the main straight transfer path portion of the transfer path. And, preferably, (2) in the magnetic bubble memory device equipped with an ion implantation transfer path, the stripe difficulty axis direction [11
The pattern shape of the outer transfer path corner of the minor loop that folds back from 2] to the easy axis direction [■■2] is such that the transfer path for at least 3 bits is tilted at an inclination angle of 0 = 10° to the main straight transfer path portion of the transfer path. (3) in a magnetic bubble memory device provided with an ion implantation transfer path, from the stripe difficult axis direction [112]; The pattern shape of the outer transfer path corner of the minor loop which is folded back to the easy axis direction [■■21] is distantly related to the magnetic bubble memory device which is formed into a ■-shape.

[作用コ ストライプ困難軸方向[1,121から容易軸方向[1
12]へ折り返すマイナループmの外回りコーナにおい
て、バブルが直線転送路P□から入って来るP2側と、
P3から直線転送路P4に出て行く側の少なくとも一方
の3ビット以上を直線転送路P□、P4に対し傾け、そ
の傾き角0をO’ <O<90’ 、実用上好ましくは
10°≦O≦45°、さらに好ましくは15°≦0≦3
0°にする。これにより、隣接するマイナループの外回
りコーナ間における距離を徐々に遠ざけ、急激な磁化の
変化をやわらげることにより、動作バイアス磁界マージ
ンの下限でバブルが隣接ループ間に飛び移るエラーおよ
びトラップエラー等が防止される。
[Action costripe hard axis direction [1, 121 to easy axis direction [1
At the outer corner of the minor loop m that turns back to [12], the P2 side where the bubble enters from the straight transfer path P□,
At least 3 bits on the side going out from P3 to the linear transfer path P4 are tilted with respect to the linear transfer path P□, P4, and the inclination angle 0 is O'< O <90', preferably 10° ≦ for practical purposes. O≦45°, more preferably 15°≦0≦3
Set it to 0°. This gradually increases the distance between the outer corners of adjacent minor loops and softens sudden changes in magnetization, thereby preventing errors such as bubbles jumping between adjacent loops at the lower limit of the operating bias magnetic field margin and trap errors. Ru.

[実施例] 以下、本発明の一実施例を図面により説明する。[Example] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

実施例1゜ 第1図は、本発明による実施例の一例を示すマイナルー
プmの外回りコーナ部パタンの平面図であり、ストライ
プ困難軸方向[:1.12]から容易軸方向[112]
へ折り返す外回りコーナのバブルが直線転送路P□から
P2に入って来る側とコーナのP3から直線転送路P4
に出て行く側ともに直線転送路に対し、0(=10°、
15°、20°、30″′、40°)傾いたV字型の外
回りコーナである。従来の外回りコーナは、隣接するマ
イナループ間の距離が近いため、バブルが隣のループに
飛び移り易くマージンが狭くなる。しかし、本実施例の
V字型の外7− 回すコーナは、隣接ループとの距離が徐々に遠くなるた
め、隣のループへのバブルの飛び移りエラーを、また、
隣接ループからの影響が少なくなりトラップエラーを、
それぞれ防止することができる。
Embodiment 1 FIG. 1 is a plan view of an outer corner pattern of a minor loop m showing an example of an embodiment according to the present invention, in which the stripe direction is from the difficult axis direction [:1.12] to the easy axis direction [112].
The side where the bubble at the outer corner that turns back to P2 enters from the straight transfer path P□ and from the corner P3 to the straight transfer path P4
0 (=10°,
15°, 20°, 30″′, 40°) is an inclined V-shaped outer corner.In the conventional outer corner, the distance between adjacent minor loops is close, so bubbles tend to jump to the next loop and the margin However, since the distance between the V-shaped outer corner of this embodiment and the adjacent loop gradually increases, the bubble jump error to the adjacent loop can be reduced.
The influence from adjacent loops is reduced and trap errors are reduced.
Each can be prevented.

第2図に従来の外回りコーナ(0=90°)と、本発明
のV字型の外回リコーナ(P2)pa)の動作バイアス
磁界マージンを直線転送路部分( p t、P4)と比
較した結果を示す。本実施例の特に好ましいθ=20°
によれば、外回りコーナのHa下限が、直線転送路のそ
れと同等の特性を得ている。
Figure 2 compares the operating bias magnetic field margins of the conventional outer corner (0 = 90°) and the V-shaped outer corner of the present invention (P2) with the straight transfer path portion (p t, P4). Show the results. Particularly preferred θ=20° in this embodiment
According to , the lower limit of Ha at the outer corner has the same characteristics as that of the straight transfer path.

実施例2。Example 2.

第3図は、本発明による他の実施例の一例を示すマイナ
ループmの外回りコーナ部パタンの平面図であり、θ=
18°の傾斜を有する台形状の外回りコーナである。こ
の例では、コーナにおいて隣接するマイナループm間の
距離を徐々に遠くすると共にコーナ部がカットされてい
るので、第1図の実施例よりもチップ面積を小さくする
ことができる。この場合も実施例1の第2図に示したと
同様に、H.下限の直線転送路に対するマージンのロス
量を殆ど無くすことができた。
FIG. 3 is a plan view of an outer corner pattern of a minor loop m showing an example of another embodiment according to the present invention, where θ=
It is a trapezoidal outer corner with an inclination of 18 degrees. In this example, the distance between adjacent minor loops m at the corners is gradually increased, and the corner portions are cut, so that the chip area can be made smaller than in the embodiment shown in FIG. In this case as well, H. It was possible to almost eliminate the amount of loss in margin for the straight transfer path at the lower limit.

[効果コ 本発明によれば、ストライプ困難軸方向[112]から
容易軸方向[112:]へ折り返すマイナループの外回
りコーナのバブルが直線転送路から入って来る側と直線
転送路に出て行く側の少なくとも一方の転送路を、直線
転送路に対しθ角傾けることで、隣接ループとの距離が
徐々に遠くなり、飛び移りエラーとトラップエラーとを
防止する効果がある。
[Effects] According to the present invention, the bubble at the outer corner of the minor loop that folds back from the stripe difficult axis direction [112] to the easy axis direction [112:] is formed on the side where the bubble enters from the straight transfer path and the side where it exits to the straight transfer path. By tilting at least one of the transfer paths at an angle of θ with respect to the straight transfer path, the distance from the adjacent loop gradually increases, which has the effect of preventing jump errors and trap errors.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図及び第3図は、本発明のそれぞれ異なる実施例を
示すマイナループ外回りコーナ部のパタン平面図、第2
図は外回りコーナ部のバイアス磁界マージン特性につい
て、従来のパタンの特性と本発明のそれとを比較して示
したバイアス磁界マージン特性図、第4図はイオン打込
み方式の転送路構造を示す一部断面要部斜視図、従来の
外回りにおける転送特性を示す図、第5図及び第6図は
それぞれ従来の外回りコーナパタンとバブルの転送方向
を示す転送路模式図、そして第7図は従来のバイアス磁
界マージンを説明する特性図である。 く符号の説明〉 10・・・イオン打込み方式バブル転送路上2・・・イ
オン打込み領域 B ・・・磁気バブル P ・・・バブル転送方向 HR・・・回転磁界 HF3・・・バイアス磁界 O・・・傾斜角。
FIG. 1 and FIG. 3 are pattern plan views of the minor loop outer corner portion showing different embodiments of the present invention, and FIG.
The figure is a bias magnetic field margin characteristic diagram comparing the characteristics of a conventional pattern and that of the present invention regarding the bias magnetic field margin characteristics of the outer corner portion. Figure 4 is a partial cross section showing the transfer path structure of the ion implantation method. A perspective view of the main parts, a diagram showing the transfer characteristics in the conventional outer circumference, FIGS. 5 and 6 are schematic diagrams of the transfer path showing the conventional outer corner pattern and the bubble transfer direction, respectively, and FIG. 7 is the conventional bias magnetic field margin. FIG. Explanation of symbols> 10...Ion implantation method Bubble transfer path 2...Ion implantation region B...Magnetic bubble P...Bubble transfer direction HR...Rotating magnetic field HF3...Bias magnetic field O...・Inclination angle.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)イオン打ち込み転送路を備えた磁気バブルメモリデ
バイスにおいて、ストライプ困難軸方向[11■]から
容易軸方向[■■2]へ折り返すマイナループの外回り
転送路コーナのパタン形状を、転送路の主たる直線状転
送路部分に対し傾斜角θを設けて傾斜させて成る磁気バ
ブルメモリデバイス。 2)イオン打ち込み転送路を備えた磁気バブルメモリデ
バイスにおいて、ストライプ困難軸方向[11■]から
容易軸方向[■■2]へ折り返すマイナループの外回り
転送路コーナのパタン形状を、転送路の主たる直線状転
送路部分に対し少なくとも3ビット分の転送路を傾斜角
θ=10゜〜45゜に傾斜させて設けて成る磁気バブル
メモリデバイス。 3)イオン打ち、込み転送路を備えた磁気バブルメモリ
デバイスにおいて、ストライプ困難軸方向[11■]か
ら容易軸方向[■■2]へ折り返すマイナループの外回
り転送路コーナのパタン形状を、V字形として成る磁気
バブルメモリデバイス。
[Claims] 1) In a magnetic bubble memory device equipped with an ion implantation transfer path, the pattern shape of the outer transfer path corner of the minor loop that folds back from the stripe difficult axis direction [11■] to the easy axis direction [■■2] , a magnetic bubble memory device in which a main linear transfer path portion of a transfer path is inclined at an inclination angle θ. 2) In a magnetic bubble memory device equipped with an ion implantation transfer path, the pattern shape of the outer transfer path corner of the minor loop that folds back from the stripe difficult axis direction [11■] to the easy axis direction [■■2] is the main straight line of the transfer path. A magnetic bubble memory device comprising a transfer path for at least 3 bits inclined at an inclination angle θ=10° to 45° with respect to a shaped transfer path portion. 3) In a magnetic bubble memory device equipped with ion implantation and a transfer path, the pattern shape of the outer transfer path corner of the minor loop that folds back from the stripe difficult axis direction [11■] to the easy axis direction [■■2] is V-shaped. Consists of a magnetic bubble memory device.
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