JPH03261032A - 金属膜転写シート及びその製造方法、並びにアノード形成シート、並びにアノード製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は　陰極線管に関し　特にメタルバック層を有し
たアノードを効率的に形成する為の金属膜転写シートと
その製造法並びにアノード形成シート、並びにアノード
製造方法に関する。

従来の技術 従来のカラーテレビの陰極線管アノード工程Ｃよ蛍光面
を槽底するガラス基板に適当な表面処理を施したのちＰ
ＶＡ−重クロム酸アンモニュウム感光液弘　パターン露
光・現像し　グラファイト等の黒色物質を流転し　リフ
トオフしてブラックマトリックス層を形成していた　蛍
光体パターンは、ＰＶＡ−重クロム酸アンモニュウム感
光液中に蛍光体顔料を分散したスラリーを塗布・乾燥・
露光・現像・乾燥という工程を３回繰り返しＲ（赤）、
Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各層を形成するという複雑なプロ
セスを用いていた さらに蛍光体層を形成した後、鏡面の金属膜いわゆるメ
タルバック層を得るためニトロセルロース等を含有する
有機高分子膜を形成した後、真空蒸着法やスパッタリン
グ法等により所望のメタルバック層を形成していた　そ
の後、内在する有機物を焼成分解して蛍光面を形成して
い九また　シャドウマスクカラー管でば　通常電子ビー
ムの１５〜２０％がシャドウマスクを通過し蛍光体を発
光させ残りの８０〜８５％の電子ビム（友　シャドウマ
スクに衝突してシャドウマスクを昇温させその結果シャ
ドウマスクが熱膨張してパネルフェース方向に凸状に熱
変形を起こす（この現象をドーミングという）。この現
象が発生ずるとマスク孔とフェースパネル上の位置関係
がずれ極端な場合色ずれが発生し？。

発明が解決しようとする課題 上記したアノードの形成プロセス（戴　工程が非常に長
くかつ複雑であり、大型の真空蒸着装置やスパッタリン
グ装置が必要となりコストアップの原因となっていた　
加えて、焼成工程においてメタルバック層の一部もしく
（ヨ　　全体に膨れを生じる。これζよ　有機物の分解
により発生ずるガスがメタルバック層に妨げられて外部
へスムースに抜けきらないた△　ガス圧でメタルバック
層が膨れるものと考えられる。

また特開昭６２−１８５８３３号公報には、　剥離性を
有するベースフィルム上にメタルバック１ｍを有した転
写材を用へ　陰極線管のフェースプレート上に転写して
メタルバック層を形成する方法が提案され九　これに記
載の方法では、　工程の簡素化は上記従来技術に比べて
改善されるものＱ上記の原因に基づくメタルバック層の
膨れについては依然として解決されていなし この様な原因で発生するメタルバック層の膨れた部分で
は蛍光体の反射効率が低下し　カラー受像管に於て局部
的な欠陥となって現れ　歩留まり低下の大きな原因であ
った またドーミング対策として、メタルバック層（通常はア
ルミ膜）背面にカーボン黒化膜を形成して出画時のマス
クからの輻射熱を吸収し易くしメタルバック層からの熱
反射を低減して、マスクの温度上昇を抑制することによ
りドーミングレベルを改善すると共に黒浮きレベルの改
善も図ることが行なわれる力丈　メタルバック層に上記
の膨れが発生すると、黒化膜（輻射熱吸収物質）の塗布
状態が不均一となって電子ビームの透過効率に大きな差
が生し　このため輝度ムラが発生する原因となっていた な抵　上記の黒化膜の形成は、　スプレー等でアクリル
エマルジョンをメタルバック層上に塗布してバリヤ層を
形成Ｌ　　その上からグラファイトスラリーをスプレー
で塗布してグラファイト膜を形成するのが一般的な方法
であるバ　スプレーによる作業であるために　均一な膜
厚形成あるいは膜厚の制御が困難であり、また空気中の
作業であるために　ゴミなどが混入しやすいと言う問題
があっ氾　蛍光面の焼成時に内在する有機物の排出をス
ムースに行うためには、　この黒化層の厚みは必要最小
限の値でかつ均一になす必要がある力丈　従来のスプレ
ー法では、　この要求に対応できないことは明かである
。

課題を解決するための手段 上記課題を解決するための手段（戴　以下の通りである
。

離型性が良好な基板シート上に　表面が適度に粗で且つ
メタルバック層としての金属膜に対して接着性の良い樹
脂材料で黒色樹脂層を形成し　この黒色樹脂層上に転写
すべき金属膜を形成し　金属膜転写シートを形成する。

この金属膜転写シート上の黒色樹脂層及び金属膜を蛍光
体層上に転写するようになすことである。

あるいは、　上記の金属膜転写シート上の金属膜上に更
に蛍光体層を形成し　これら黒色樹脂服金属焦　蛍光体
層を一括してフェースプレートに転写するようになすこ
とである。

また離型性支持体上に微細孔を有する黒色金属膜及び微
細孔を有する金属膜を形成した金属膜転写シートをガラ
ス基板上に形成した蛍光体層上に転写した後、内在する
有機物を焼成して蛍光面を形成する。あるいは離型性支
持体上に微細孔を有する黒色金属膜及び微細孔を有する
金属膜を形成した金属膜転写シート上に　更に蛍光体層
　ブラックマトリックス層を順次形成した後、ガラス基
板上に金属膜以下を一括転写した後、有機物を焼成して
蛍光面とするようにしている。

作用 上記手段の作用は、　次の様になる。

黒色樹脂層の表面ば　上記の通り適度に枇　すなわち表
面に適度な凹凸を有している。その表面上に蒸着等によ
り金属膜を形成すると頂部（凸部）に比べて、谷部（四
部）では金属膜の膜厚がかなりうすく形成されも　すな
わち、金属膜にば　厚さの薄い薄肉部が点状に多数形成
される。そしてこの金属膜転写シートの黒色樹脂層及び
金属膜を接着層を介してフェースプレート等のガラス基
板上の蛍光体層に押圧したのち基板シートを剥離すると
、離型性が良好な基板シートと黒色樹脂層との間で剥離
が生よ　黒色樹脂層及び金属膜力東　ガラス基板側へ転
写されるのである。

この転写された金属膜は、　上記のように点在する多数
の薄肉部を有する。この薄肉部は、　焼成工程における
有機物の焼成分解により発生する熱分解ガスのガス圧で
、　ピンホール状に簡単に破れてガスを逃がす。その結
果　メタルバック層の膨れあるいは膨れの破裂力ｔ　完
全に防止される。しかね　この薄肉部の破裂跡は、　ピ
ンホール状であり、メタルバック層としての機能は　全
く損なわれることが無い。

また　転写された金属膜主には　黒色樹脂層が形成され
ており、前記黒色樹脂層がシャドウマスクからの輻射熱
を吸収し　またメタルバック層からの熱反射も少なくな
るので、シャドウマスクの温度上昇が抑えられ　ドーミ
ング現象の発生を防止は　画像品質の向上が図れる。

さらに−度メタルバック層に反射された二次電子も黒色
層に吸収され　鮮明な画像が得られる。

必要な厚さの黒色樹脂層は、　メタルバック層上に均一
に塗布形成することにより、簡単に厚みむらなく形成で
きる。

また　離型性支持体に　順次微細孔を有する黒色金属膜
及び、微細孔を有する通常の金属光沢を有する金属膜を
形成した金属膜転写シートを用いＱ− ０− てＬ　上記の効果　すなわ水　焼成時には　予め設けら
れた微細孔の効果で、膨れの発生が無く、また黒色金属
膜により、　ドーミング現象が、　抑えられる。

また　前記の金属膜転写シート上に蛍光体パターンを形
成した蛍光面形成シートをフェースプレートに一括転写
して陰極線管のアノードを形成する事により大幅な工数
の低減が図れる。

また　上記の金属膜　黒色金属膜等は、　蒸着にまり形
成できるの玄　膜厚の（Ｉｔ　　あるいは膜厚の均−性
等の極めて優れた膜を形成できる。

実施例 以下、本発明の実施例につき、図面に基づぎ説明を行な
う。

（第１実施例） 本実施例について、まず概要を、その後に詳細を説明す
る。

第１図（ａ）１１　　本発明の金属膜転写シート５を断
面で示したものである。第１図（ａ）に於て、４は、　
機械的強度・耐溶剤性の優れた支持体であリポリエチレ
ンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹
脂フィルムが用いられ　このフィルムの厚さは３〜１０
０μへ　好ましくは５〜５０μｍの範囲が好適である。

３は、　離型層でありシリコーン、フッ棄　アクリル、
ワックス等の離型性が優れた材料を薄層にして用いられ
る。

２は、　支持体４上に離型層３を介して形成された黒色
樹脂層であり、グラファイト、カーボンを含有して表面
が粗面化されている。黒色樹脂層２のバインダーとして
は、　熱分解性の良好なアクリル樹脂層　好適である。

　１は、　黒色樹脂層２上に真空蒸着、スパッタリング
等の方法で形成された金属膜（以阪　メタルバック層と
も称す）である。

第１図（ｂ）ＬＬ、　　同図（ａ）に示す金属膜転写シ
ート５を、接着層６を介してブラックマトリックス層８
、蛍光体層７を有するガラス基板９に押圧した後、離型
層３を有する基板シート４を剥すようにして、金属膜転
写シートＳ上の黒色樹脂層２、金属膜ｌを蛍光体層７上
に転写している状態を示している。

１ ２− 黒色樹脂層２は、　詳細は後述する力丈　金属膜１に対
して接着性が良好てξ　且つ離型層３に対しては　接着
性が極端に弱いので黒色樹脂層２及び金属膜１は、　離
型層３より剥離して蛍光体層７上に転写される。かくし
て、蛍光体層７上に　目的とする黒色樹脂層２を有する
金属膜ｌが形成されるのである。

以下に本実施例を更に詳細に説明する。

シート状の支持体４の厚さは、　通常３〜１００μｍ程
度であればよい力＜、　５〜５０μｍの範囲が好適であ
り、本実施例で（表　２５μｍである。

黒色樹脂層２は、　母材のアクリル樹脂１００重量部に
対して、平均粒径■μｍのグラファイトを２０重量餓　
カーボンブラックを５重量餓　溶剤としてトルエンを１
０００重量部添加し　ホモミキサーにて２０分間混練し
て得られた塗料をワイヤーバーにて、支持体４上に２μ
ｍの厚さに塗布したものである。得られた塗布層（上　
グラファイトの板状結晶と微細なカーボンブラックの為
に表面には適度の凹凸が形成された黒色の粗面層となる
。その表面平滑度は、　ベック平滑度で２００秒であっ
起 次に　黒色樹脂層２上に真空蒸着により、アルミの金属
膜１を形成しｔも　　金属膜１の厚みは、　第１図（ａ
）に示す様に黒色樹脂層２の表面の凹凸の頂部（凸部）
で最も厚く、谷部（凹部）で最も薄く形成される。本実
施例では、　頂部での膜厚を約１０００オングストロー
ムとし氾　そのとき、谷部での厚みは、　約２００〜３
００オングストロームであっ丸　この様に　金属膜１の
厚さ（友　黒色樹脂層２の表面粗さの影響を受け、凹部
位置に薄肉部が多数形成される。

その後、蛍光体層７上に酢酸ビニル系の接着層６を塗布
し　第１図（ｂ）に示す様にして、離型層３上に形成さ
れた黒色樹脂層２及び金属膜ｌを圧着転写して、ガラス
基板９上に更に黒色樹脂層２と金属膜１を有するアノー
ド１０を形成した本実施例との比較のたべ　グラファイ
トとカーボンブラックを含有せず、従って表面が滑らか
な樹脂層上に形成されたアルミ蒸着膜を転写したア３− ４ ノード（以後、このアノードを比較例と呼ぶ）を、同様
にしてガラス基板上に形成した その後の焼成工程に於て、約２５０℃の昇温により、本
実施例のアノードの金属膜には、　５〜１０μｍの微細
孔が形成されていることが顕微鏡観察によって確認され
？、　　一方比較例の金属膜には、この様な微細孔は、
　形成されておらず多数の小さな膨れの発生が認められ
た　更に温度を」二げて、４５０℃で１時間の焼成を行
った後では　本実施例の場合には接着層６等に含まれる
有機物は　完全に焼失、熱分解されると共に　金属膜ｌ
であるアルミ膜には　膨れが全く発生しておら哄　極め
て良好な表面状態を保っており、黒色樹脂層もバインダ
ーがすべて熱分解しグラファイト等の黒色層が形成され
　良好なアノードが得られたそれに対し　比較例のアノ
ードでは、　アルミ膜全面にわたって大きな膨れが発生
しており、中には膨れが破裂に至ったものも認められる
状態であつ九 この様に　本実施例では、　金属膜に多数点在す５− る上記薄肉部力交　焼成工程に於て、金属膜下面の有機
物（例えば接着剤）から発生するガス圧により破れてピ
ンホール状の多数の微細孔を形成しこれがガス抜き穴と
して機能して金属膜の膨れを完全に防止しているのであ
る。それに対して、比較例の場合には、　金属膜にはこ
の様な微細孔が形成されないために金属膜下のガスが抜
けずミ　膨れや膨れの破裂といった損傷を受けるのであ
る。

本実施例で得られた金属膜は、　陰極線管のメタルバッ
ク層として充分な特性を有するものであり、更にグラフ
ァイト等の黒色層の効果で、　ドーミングを抑制し　又
２次電子も前記黒色層に吸収され画像としても極めて鮮
明なものが得られた本実施例では、　従来の技術すなわ
ち周知の技術でガラス基板上に蛍光面を形成した後、蛍
光体層の表面平滑化の為有機膜を形成し　ガラス基板ご
と蒸着装置内に導入してアルミ蒸着を行Ｌ＼　更に黒色
樹脂層をスプレー等でアルミ膜上に吹き付けて黒色層を
形成していた従来の工程に比べ　大幅な工数の短縮及び
コストの低減が可能となる。

６− また本実施例の黒色樹脂層の表面粗度ば　グラファイト
の含有率により決まり、　２〜５０ｗｔ％好ましくは、
　５〜ａ　ｏｗｔ％のグラファイト含有率の組成で、ベ
ック平滑度で４００秒以下のものであれば　焼成機の金
属膜に　５〜３０μｍ程度の良好な微細孔を得ることが
出来る。

また　金属膜をニッケルとしても良好なメタルバック層
を得ることが出来る。

な抵　離型層３を形成せず、支持体４と黒色樹脂層２と
の剥離を、黒色樹脂層２内で凝集破壊を生じせしめて行
ち＼　金属膜を転写するようになすことも可能である。

あるいは支持体４と黒色樹脂層２との離型性が極めて良
好な場合は、　特に離型層３を形成せずとＬ　金属膜層
と黒色樹脂層とが、　−括転写される。

（第２実施例〉 第２実施例を、第２図を用いて説明する。

第２実施例は　第２図（ａ）の様に　上記第１実施例で
示した構成の金属膜転写シート４の上に更に蛍光体層７
、　ブラックマトリックス層８を形成してアノード形成
シート１１となし　これを第２図（ｂ）のごとく接着層
６を介してガラス基板９に対向圧着させたのち支持体４
を剥ぐように取ると、アノード形成シートは離型層３と
黒色樹脂層２との間で剥離して、ガラス基板９上に黒色
樹脂層を有したアノード１０が形成されるのである。

以下、第２実施例を詳細に説明する。

厚さ１２μｍのＰＥＴフィルムの支持体４上にシリコン
膜を１μｍの厚さに塗布して離型層３を形成した　この
離型層３上に　第１表に記載の組成の黒色樹脂層２を３
μｍの厚さに塗布した黒色樹脂層の平滑度は、　ベック
平滑度で１００秒であった （以下、余白） ７− 第１表 第２表 この黒色樹脂層２上にアルミ膜を１０００オングストロ
ームの厚さに蒸着して、金属膜１を形成した　第１実施
例と同様に　アルミ膜の最も厚い部分は、　黒色樹脂層
２の表面の凹凸の頂部（凸部）に形成され　薄肉部は谷
部（凹部）に形成される。

（以下、余白） ９− さらに　第２表に記載の組成物をセラミック３本ロール
にて、　３回通して練肉し緑色蛍光体インクを作成した 同様にして、赤色蛍光体イン久　青色蛍光体インクを作
成し池 ガラス基板上に　金属膜１を有する支持体４を固定し　
グラビアオフセット方式により、金属膜加− １上に　緑色蛍光体パターンを印刷し九　以後、順次赤
色蛍光体　青色蛍光体を所定の位置に印刷ＬＲ，Ｇ、Ｂ
３色の蛍光体パターンを金属膜■上に形威しん　印刷さ
れたパターンは、　ストライプの均一性、精度　光学特
性共に満足するものであった さらに第３表の組成のブラックマトリックス４Ｊを用い
て、蛍光体パターン７と同様のグラビアオフセット方式
により金属膜転写シート５上に　ブラックマトリックス
層８を連続して印刷した上記のようにして、金属膜上に
　蛍光体層及びブラックマトリックス層を印刷して得ら
れたアノード形成シート１１の最上面に　接着層６とし
てアクリル粘着剤（イソデシルメタアクリレート）を３
ミクロンの厚さで一様に塗布した （以下、余白） 第３表 このアノード形成シート１１を、フェースプレートとな
るガラス基板９に接着層６を介して対向させて圧着し　
アノード形成シートの離型層３が塗布された支持体４を
剥離してガラス基板９上にブラックマトリックス層８、
蛍光体層７、メタルバック層ｌ及び黒色樹脂層２を転写
し形成し九そして、昇温条件１０℃／分、　４５０’Ｃ
１時間保持の条件で焼成した　その結果、良好なブラッ
ク１ −麓− マトリックス層８と蛍光体層７及び微細孔が形成された
メタルバック層としての金属膜１及び黒色層２が得られ
　良好なアノードが形成され九このアノードは、　カラ
ー陰極線管アノードとして充分に特性を満足するもので
あった 尚本実施例に於て、アクリル粘着剤（戴　フェスプレー
トとなるガラス基板９上あるいはブラックマトリックス
層８上の何れに塗布しておいても良いこと（凰　勿論で
ある。

（第３実施例） 第３図（ｂ）ｉ；Ｌ　　本発明の第３実施例の金属膜転
写シート１６の断面図である。

先ず第３図（ａ）に於て、　４は機械的強度、耐溶剤性
の優れた支持体であり、ポリエチレンテレフタレート（
ＰＥＴ）、ポリイミドミ　ポリアミド等の各種樹脂フィ
ルムが用いられる。３は、　支持体４上に密着して形成
された離型層であり、その材料としては、　シリコン、
テフロン、アクリ取ワックス家　離型性が良好な樹脂が
好適である。

１２は　黒色金属膜であり、低真空で蒸着を行−お− なうことにより、いわゆる金属光沢を全くもたない黒色
の金属膜を得ることが出来る。この黒色金属膜は、　ド
ーミング対策及び２次電子対策として極めて有効である
。　１３は、　金属光沢を有する通常の金属膜であり、
蛍光体で発した光を、金属膜の鏡面作用により反射させ
、輝度の向上を図るためのものである。

次に第３図（ｂ）に示す様に　同図（ａ）の金属膜転写
シートの２層の金属膜１２、１３に　微細孔１５を形成
する。この微細孔１５の大きさとしては、　輝度の低下
を防ぐ意味で出来るだけ小さい方が望ましく、　５０μ
ｍ以下、好ましく（ヨ５〜３０μｍの大きさの微細孔が
均一に分散されて形成されるならば　最終工程に於ける
４５０℃の焼成に於いて、金属膜表面に膨れ等の発生が
無く、良好なメタルバック層として使用可能である。

第３図（Ｃ）は、　同図（ｂ）の金属膜転写シー）１６
を接着層６を介してブラックマトリックス層８、蛍光体
層７を有するガラス基板９に押圧した後、基板シート４
を剥すようにして、金属膜転写シー 写シート１６上の微細孔１５を有する黒色金属膜１２及
び微細孔を有する金属膜１３を蛍光体層」二に　転写し
ている状態を示している。基板シートに形成された離型
層３の効果により、前記２層の金属膜１２、１３　ｆｔ
　　支持体４より離型し　蛍光体層７上に転写され目的
とするメタルバック層か蛍光体層７上に形威されるので
ある。

以下に　本実施例を更に詳細に説明する。

基板シー１−４ノ厚す（ヨ　　通常３−１００７．１ｍ
１１．１度であればよい力＜、　５〜５０Ａｔｍの範囲
が好適であり、本実施例で１１１２μｍである。離型層
３は　シリコン樹脂を２μｍの厚さに形成し？、　　前
記離型層３上に　比較的低真空度すなわち１ｏ−２から
１０−’Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気でアルミ蒸着を施し
　８００オングストロームの厚さの黒色金属膜１２を形
威し　さらに　前記雰囲気よりも高真空すなわち１０−
６から１０−’Ｔｏ　ｒ　ｒの高真空雰囲気下でアルミ
蒸着を施り、　　１０００オングストロームの金属光沢
を有する白色の金属膜１３を形成した 次に　前記金属膜転写シートに微細孔１５を形成する方
法を示す。

微細孔の形成法は第４図のごとく、第３図（ａ）に示し
た金属膜転写シート１４に　微細突起を設けた円筒状電
極１９を圧接して回転させつつ、　１０〜３０Ｖの電圧
で放電を行い金属膜面に微細孔を形成するものである。

次に微細孔の開口率及び大きさの影響を明らかにするた
めに　放電による微細孔形成工程を０回から６回と変え
て転写シートに形成される微細孔の数を変化させた金属
膜転写シート１６を作成し九　形成された微細孔の状態
を定量的に把握するため画像解析装置を用いて微細孔の
開口率及び大きさを測定し丸 この開口率及び大きさの異なる微細孔を有した６種の金
属膜転写シートを、第３図（ｃ）に示す様に　従来の周
知の技術でガラス基板９上に形成された蛍光体層７上に
アクリル粘着剤（イソデシルメタアクリレート）６を介
して圧接し　前記蛍光体層７上に微細孔を形成した黒色
金属膜１２及−ろ− ６− び微細孔を有する金属光沢を鳴した金属膜１３を転写さ
せた後、支持体４を剥離し　ガラス基板９上に　メタル
バック層を有するアノード１０ａを形成した さらに　このアノードを４５０℃で焼成して有機物を分
解焼成し　カラー陰極線管のアノードを形成し？、　　
この時、アルミ蒸着膜の微細孔の形成状態により第４表
の様に焼成後のメタルバック層の表面状態に大きな差異
が発生した この原因は、　予め形成された微細孔力＜、　４５０℃
焼成時にガス抜き穴として機能して、金属膜層の膨れを
完全に防ぐことが出来れば良好なメタルバック層の形成
が可能となる力曵　微細孔の開口率が充分で無い場合に
は、　金属膜面には、　無数の膨れとなって現れる。

第４表からも明かな様に　アルミ蒸着膜に全く微細孔を
開けない場合は　アルミ蒸着膜の全域に膨れが発生しｒ
＝　　放電により微細孔を設けたアルミ蒸着膜の場合（
友　放電回数１回では若干の膨れ（以下、余白） 一冑 第４表 が発生したが放電回数２回以上では、　良好なメター別 ルパック層が形成された　特に３回以上になればより安
定したメタルバック層が得られｔも　　微細孔の大きさ
は直径１５μｍ程度の大きさが平均値でありそれが５０
μｍ以上の孔になると輝度の低下につながる。

焼成条件は、　昇温速度１０℃／分で、　４５０℃１時
間保持である。

この結果より、微細孔の開口率は、　５％以上あれば焼
成した後、良好なメタルバック層が、　形成されること
が判る。

（第４実施例） 第３図（ａ）の金属膜転写シー）１４を、　２枚のサン
ドペーパー（：＃１０００）で挾へ　圧着ローラーを線
圧４　Ｋ　ｇ　／　ｃ　ｍに設定し　そのローラー間を
前記２枚のサンドペーパーで挟持された金属膜転写シー
トを５回通過させて開口率１０％平均孔径１０〜２０μ
ｍの微細孔を有する金属膜転写シートを得１．　　さら
に　第３実施例と同様にして、ガラス基板９上に形成さ
れた蛍光体層８上＋’ｙ　　前記金属膜転写シートを圧
着転写し　４５０℃１時間焼成したところ強固に接着し
た良好なメタルバック層を得ｔら （第５実施例） 第３図（ａ）の金属膜転写シート１４を、サンドブラス
ト法（ＣＯＭＣＯ社製）の装置を用い＃１５００パスの
カーボランダム（平均流径１μｍ）を中速で吹き付け、
開口率８９／、平均孔径５〜８μｍの微細孔を形成しｔ
あ 第４実施例と同様に蛍光体層面に圧着転写し４５０℃１
時間焼戒した焼成ろ強固に接着した良好なメタルバック
層を得た （第６実施例） 第３図（ａ）の金属膜転写シート１４に施した放電加工
により開口率１０％のアルミ転写シートを得ｔら さらに　第５表の組成物をセラミック３本ロールにて、
　３回通して練肉し蛍光体インクを作成した （以下、余白） 一四− −加一 第５表 パターンは、　ストライブの均−法　精度、光学特性共
に満足するものであった さらにブラックマトリックス層を第６表の組成で作成し
　蛍光体パターンと同様のグラビアオフセット方式によ
り１アルミ転写シート上に連続して印刷し氾 第６表 同様にして、赤色蛍光体イン久　青色蛍光体インクを作
成しｔも ガラス基板上に前記微細孔を形成した金属膜転写シート
固定限　グラビアオフセット方式により、緑色蛍光体パ
ターンを印刷し起　以後、順次赤色蛍光像　青色蛍光体
を所定の位置に印刷ＬＲ１Ｇ、８３色の蛍光体パターン
を得た　印刷された金属膜転写シートｌＢ上に　蛍光体
層及びブラックマトリックス層を印刷した後、ガラス基
板上３１ 一〇− にアクリル粘着剤（イソデシルメタアクリレート）を３
ミクロンの厚さで一様に塗布した面に圧着しさらに金属
膜転写シートの基板シートを剥離してガラス基板上にブ
ラックマトリックス層及び蛍光体層及び微細孔を有する
黒色金属膜１２及び、微細孔を有する金属膜１３を形成
して、アノードを得た　そして、昇温条件１０℃／分、
４５０℃１時間保持の条件で焼成したところ良好なアノ
ードが形成され池　このアノード（飄　カラー陰極線管
アノードとして充分な特性のものが得られ九発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明は、　黒色樹脂層
上に金属膜を形成した　金属膜転写シートを陰極線管フ
ェースプレート上の蛍光体層に転写して、基板シートを
剥離後、焼成してアノードを形成するたム　大型の設備
が不要となりまた大幅な工数の低減が図れ　大幅なコス
トの低減が可能となる。

また　金属膜上に形成された黒色樹脂層により、ドーミ
ング現象が抑制され　更に２次電子対策にも貢献するた
め、大幅な、画質の向上が図れる。

さらに、黒色樹脂層上に金属膜を形成した金属膜転写シ
ート上に、蛍光体層及びブラックマトリックス層を形成
し陰極線管フェースプレート上に一括転写し、基板シー
トを剥離後、焼成することにより更に簡単にカラー陰極
線管のアノードが形成される。

また、微細孔を有する黒色金属膜及び微細孔を有する金
属膜を積層して用いることにより上記と同様の効果が得
られる。

この様に、本発明は陰極線管やプラズマデイスプレィ等
の蛍光体製品に応用して大なる効果を発揮するものであ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）は、本発明の実施例の金属膜転写シートの
断面図、第１図（ｂ）は、第１図（ａ）の金属膜転写シ
ートを用いたアノードの形成工程図、第２図（ａ）は、
アノード形成シートの断面図、第２図（ｂ）は、第２図
（ａ）のアノード形成シートを用いたアノードの形成工
程図、第３図−羽− ４− （ａ）は、本発明の実施例の金属膜転写シートの断面図
、第３図（ｂ）は、同図（ａ）の金属膜転写シートに、
微細孔を形成した金属膜転写シートの断面図、第３図（
Ｃ）は、同図（ｂ）の金属１漠転写シートを用いたアノ
ードの形成工程図、第４図は、放電加工による微細孔の
形成工程図である。 １・・・金属膜、２・・・黒色樹脂層、３・・・離型層
、４・・・支持体、５・・◆金属膜転写シート、６・・
・接着層、７・・・蛍光体層、８・・・ブラックマトリ
ックス層、９・・・フェースプレート、１０・・・アノ
ード、　１１・・・アノード形成シート、１２・・・黒
色金属膜１３・・・金属膜、１４・・・金属膜転写シー
ト、１５・・◆微細孔、１６・・・微細孔を形成した金
属膜転写シート、１７・・・電源、１８◆◆・アース、
　１９・　・　・電極。

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. （１）シートと、前記シート上に形成された表面が粗な
   黒色樹脂層と、前記黒色樹脂層表面に形成された金属膜
   とを具備した金属膜転写シート。
2. （２）黒色樹脂層に少なくともグラファイトとカーボン
   が含有されていることを特徴とする請求項１記載の金属
   膜転写シート。
3. （３）黒色樹脂層に含有されるグラファイトとカーボン
   により樹脂層表面が粗面化されたことを特徴とする請求
   項２記載の金属膜転写シート。
4. （４）黒色樹脂層の表面平滑度が、ベック平滑度で、４
   ００秒以下であることを特徴とする請求項１、２または
   ３記載の金属膜転写シート。
5. （５）金属膜には、黒色樹脂層表面の凹凸の谷部に於て
   、頂部での膜厚よりも薄い薄肉部が形成されている事を
   特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の金
   属膜転写シート。
6. （６）シートと黒色樹脂層との間に離型層が介在する事
   を特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の
   金属膜転写シート。
7. （７）支持体上に微細孔を有する黒色金属膜及び微細孔
   を有する金属膜を形成したことを特徴とする金属膜転写
   シート。
8. （８）支持体の一面に離型層を形成していることを特徴
   とする請求項７記載の金属膜転写シート。
9. （９）金属膜の微細孔は、放電により形成することを特
   徴とする請求項７または８記載の金属膜転写シートの製
   造方法
10. （１０）金属膜の微細孔は、金属膜に突起物を圧接して
    形成することを特徴とする請求項７または８記載の金属
    膜転写シートの製造方法
11. （１１）金属膜の微細孔は、サンドブラスト法を用いて
    形成することを特徴とする請求項７または８記載の金属
    膜転写シートの製造方法
12. （１２）請求項１から８の何れかに記載の金属膜転写シ
    ートを用い、前記金属膜上に更に蛍光体層ブラックマト
    リックス層を形成したアノード形成シート。
13. （１３）請求項１から８の何れかに記載の金属膜転写シ
    ートを用い、前記金属膜転写シート上の金属膜を、ガラ
    ス基板上の蛍光体層に接着剤を介して押圧し、その後金
    属膜転写シートをシートと黒色樹脂層との間で剥離して
    黒色樹脂層及び金属膜を蛍光体層上に転写してアノード
    を形成することを特徴とするアノード製造方法。
14. （１４）請求項１２に記載のアノード形成シートを用い
    、前記アノード形成シートの最上面を接着層を介してガ
    ラス基板に押圧し、その後、前記アノード形成シートを
    、シートと黒色樹脂層との間で剥離して、前記アノード
    形成シート上の黒色樹脂層から上層部を前記ガラス基板
    に転写することにより、前記ガラス基板上にアノードを
    形成し、焼成することを特徴とするアノード製造方法。
15. （１５）アノードの焼成工程に於て、メタルバック層に
    微細孔が形成されることを特徴とする請求項１３または
    １４に記載のアノード製造方法。