JPH03261796A - グリコシド誘導体及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はシアル酸または３−デオキシ−Ｄ−マンノーオ
クツロン酸（以下ＫＤＯと略す）誘導体を含む新規なグ
リコシド、及びその製造方法に関するものである。

［従来の技術］ ダラム陰性菌の細胞壁由来のリポ多糖（Ｌ　Ｐ　Ｓ）は
種々の免疫賦活作用を有し癌に対す有効性も報告されて
いる（千原呉部、　蛋白質　核酸　酵素３３．１５０−
１５６　　（１９８８））。最近、ＬＰＳ中のＫＤＯ部
分が、マクロファージとの結合部位として重要であると
報告されている（Ｎ。

Ｈａｅｆｆｎｅｒ−Ｃａｖａｉｌｌｏｎ、　　　Ｊ。

Ｍ、Ｃａｖａｉｌｌｏｎ、　　Ｍ、Ｅｔｉｅｖａｎｔ、
ｓ、Ｌｅｂｂａｒ、　　　ａｎｄ　　Ｌ、５ｚａｂｏ、
Ｃｅｌ　１．Ｉｍｍｕｎｏｌ、９１　（１９８５）１１
９）。またＫＤＯと類似の構造を有するシアル酸（ノイ
ラミン酸）は、癌化や細胞の分化段階において重要な役
割を演じている事が判明しつつある。従って、これら生
理作用の詳細な検討あるいは、医薬品の開発のためには
、ＫＤＯやシアル酸を含む糖鎖の合成とりわけ有効なケ
トシトの合成法が必須である。

現在までに報告されているケトシト化法としてはＫＤＯ
やシアル酸のアノメリック位を、活性化し、適当な重金
属塩を用いて他の糖とカップリングする方法が一般的で
ある。ＫＤＯのケトシト化については阿知波らによる（
公開特許公報　昭６３−２１８６８９）水銀塩を用いる
方法がある。

しかしながら、医薬品の製造において水銀塩を多量に使
用することは実用性に乏しい。シアル酸のケトシト化に
おいては効率、実用性が共に低いのが現状である。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の目的は、３−デオキシケトシトをグリコシド化
し、ＫＤＯならびにシアル酸のグリコシドを立体選択的
に収率良く与え、またこれを製造する方法を提供するこ
とである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは上記課題について鋭意検討した結果、本発
明に到達した。即ち本発明は、一般式（１）で表される
ことを特徴とする化合物である。

（式中、 Ｒが−ＣＨＯＲのときＲ２は−ＹＲ。

１　　　２　７ Ｒが−ＹＲのときＲは−ＣＨ２０Ｒ７、２ Ｒが水素原子のときＲ４は−ＯＲ８、 ＲがＯＲｓのときＲ４は水素原子、 Ｒが水素原子のときＲ６は −ＣＨＯＲＣＨＯＲＣＭ　　　ＯＲ ９１０２１１ゝ Ｒが−ＣＨＯＲＣＨＯＲのとき、 ５　　　　　　　　　　　１２　　　　２　　　　１３
Ｒ６は水素原子、 ＸはＮＨＡｃまたはＯＲ１４、 ＹはＯまたはＳｌ ７°　　８°　　９’　　　１０゛Ｒ１１゛Ｒ１２’Ｒ
ＲＲ Ｒ工３、Ｒ□４は水素原子または保護基であり、Ｒは低
級アルキル、アリール、または水酸基がフリーもしくは
適当に保護した単糖もしくはオリゴ糖 を表す。） 特に一般式（２）で表される化合物 （式中、ＲＲ，Ｙは前記と同様を示す。また７ゝ はＲ７は水素原子、ＴＢＤＰＳ、またはＡｃ。

−ＹＲはＯＢ　ｎ　ｓ　Ｓ　Ｅ　ｔ　ｓ及び０Ｒ１５Ｒ
は ５ （式中、 Ｒは水素原子、低級アルキル、またはアリ−８ ル、 ＲはＯＢ　ｎ　１Ｓ　Ｅ　ｔ　ｓまたはＯＲ１５５ Ｒは ５ ＲはＡｃまたはＣＢｚ ６ ＲはＡｌｌまたは水素原子をしめず） ７ の場合、保護基のついたＫＤＯのグリコシド化合物とな
る。

また本発明は一般式（３）で表されることを特徴とする
化合物である。

ＲはＡｃまたはＣＢｚ ６ Ｒ１７はＡｌｌまたは水素原子 を表す。） また本発明は一般式（４） で表わされる化合物 （式中、 Ｒが−ＣＨＯＲ７のとき １９　　　　　　２ Ｒは−０Ｒ２１、 ０ Ｒが−ＯＲのとき １９　　　２１ Ｒは−ＣＨ２０Ｒ７、 ０ Ｒが水素原子のときＲ４は一０Ｒ８、 ＲＩＪ＜ＯＲのときＲ４は水素原子、 ３　　　　８ Ｒ５が水素原子のとき ６　　　　　　　　　　　　ＣＨＯＲ Ｒは−ＣＨ０Ｒ９ＣＨＯＲ１ｏ　　２　１１、Ｒが−Ｃ
ＨＯＲＣＨＯＲのとき、 ５　　　　　　　　　１２　　　２　　　１３Ｒ６は水
素原子、 ＸはＮＨＡｃないしはＯＲであり、 　４ Ｒ７”８”９’　Ｒ１０ゝＲ１１ゝＲ１２゛Ｒ１３、Ｒ
１４、Ｒ２１は水素原子ないしは保護基である）を、適
当な溶媒ないしは無溶媒で、酸ないしは強酸と弱塩基の
塩の存在下−数式（５）％式％（５） （式中Ｒは、低級アルキル、アリール、ないしは水酸基
がフリーあるいは適当に保護した単糖あるいはオリゴ糖
を表す）で表される化合物と反応して得られる一般式（
１）で表される化合物の製造法である。

特に次式（６） （式中、 Ｒ７は水素原子、ＴＢＤＰＳＳＡｃである）で表わされ
る化合物を用いる場合、保護基のついたＫＤｏのグリコ
シド化合物の製造法となる。

さらに本発明は一般式（１）で表される化合物のＲ７を
水素原子とし、ついで酸化して得られる一般式（７）で
表されるシアル酸あるいは３−デオキシオクツロン酸を
含むグリコシド誘導体とし、必要に応じて他の部位の脱
保護を行なうことを特徴とするグリコシドの製造方法で
ある。

Ｒ１ニ ド４ （式中、 Ｒが−Ｃｏ　　ＲのときＲは−ＹＲ。

２３　　　　２　１８　　　　２４ Ｒが−ＹＲのときＲは−ＣＯ２Ｒ１８，２３２４ Ｒが水素原子のときＲは−０Ｒ８， ３４ ＲがＯＲのときＲ４は水素原子、 ３　　　　　８ Ｒ５が水素原子のとき ６　　　　　　　　　　　　　ＣＨＯＲＲは−ＣＨＯＲ
９ＣＨＯＲ１０２１１，５ＣＨＯＲのとき、 Ｒが−ＣＯ２Ｒ１８２１３ Ｒ６は水素原子であり、 ＸはＮＨＡｃまたはＯＲ１４、 ＹはＯまたは５１ Ｒ７は低級アルキル、アリール、 ８’　　　９’　　１０’　　１１゛Ｒ１２゛Ｒ１３’
ＲＲＲＲ Ｒは水素原子または保護基、 　４ Ｒは低級アルキル、アリール、または、水酸基がフリー
もしくは適当に保護した単糖もしくはオリゴ糖 を表す。） 特にＲ７の水素原子をピリジニウムクロロメート又はジ
メチルスルホキシドで酸化し、次いで臭素酸化すると副
生成物が少なく、反応がきれいに進行する。

本発明を以下詳細に説明する。

（１）反応性の高いアルコールとの反応の場合ケトシル
供与体１当量と反応性が高いアルコールまたはチオール
（例えば：ベンジルアルコール、アリルアルコール、エ
タンチオール）１当量から大過剰範囲で適当な中性の有
機溶媒（ただし反応性のある溶媒、例えばチオール、ア
ルコール、アミン、カルボン酸等は除く）または、反応
させるアルコール、チオールを溶媒として、酸触媒（０
゜０００１〜１．５当量、望ましくはピリジニウムｐ−
トルエンスルホナート。　以下ＰＰＴＳと省略する０、
０１当量）を加え反応させる。副生する水は共沸させ反
応層外で脱水剤（望ましくは、分子篩）により除去し、
乾燥した溶媒を反応層に還流した。但し、低沸点のアル
コールの場合および、溶媒と共沸するアルコ−、ルの場
合には、脱水剤（望ましくは、分子篩）を反応層にいれ
、加熱還流することが望ましい。その際、反応温度は、
Ｏ度〜沸点の範囲が使用可能であり、４０度付近が適当
である。中和、濃縮のあと、シリカゲルカラム精製し、
目的とするα−ケトシトを立体選択的に得た。

得られたケトシトは１位を酸化して誘導体を得ることが
できる。酸化の方法には特に限定はないが、ジクロロメ
タン中、塩化オキザリル（約２当量）およびジメチルス
ルホキシド（約４当量）にて１位をアルデヒド基とした
後、メチルアルコール／水の混合溶媒（望ましくは９：
１）中、重曹（約２０当量）共存下、臭素（３〜５当量
）と反応させる事により、反応をきれいに行なうことが
できる。

（２）反応性の低いアルコールとの反応１位を保護した
ケトシル供与体１当量とアルコール（反応性が低いアル
コール：例えば二級アルコールや糖誘導体）を、酸触媒
（０，００１〜過剰量、望ましくはＰＰＴＳを１当量）
を加え、上記と同様に反応させ、目的とするα−ケトシ
トを得た。１位の保護基を脱保護し、例えばＴＢＤＰＳ
基をテトラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒド
ロフラン溶媒を用いて、脱保護の後、上記と同様の酸化
を行なって誘導体へと変換することができる。

［発明の効果コ 本発明により、３−デオキシケトシトがα選択的にグリ
コシド化でき、ＫＤＯならびにシアル酸のグリコシドを
立体選択的に収率良く製造することができる。本発明の
グリコシドは、ＫＤＯ又はシアル酸を含むため、免疫の
際、ハブテンとして利用でき、また、その生理活性も期
待される。

［記号略号の説明］ 本明細書中で用いられる略号及び記号の意味はそれぞれ
次の通りである。

ｃ ＢＤＰＳ ｌｌ ｎ ニアセチル基 ：ｔ−ブチルジフェニルシリル基 ：アリル基 ：ベンジル基 ＣＢｚ　　　：ベンジルオキシカルボニル基Ｅｔ　　　
：エチル基 Ｍｅ　　　：メチル基 （実施例） 以下本発明を実施例でさらに詳しく説明する。

しかし、本発明はこれら実施例のみに限定されるもので
はない。

実施例１ 反応フラスコにケトシル供与体（９）　８２．７Ｂと、
ケトシル受容体（１１）　５５．７＋ａｇと乾燥塩化メ
チレン６ｍｌをいれ、予備乾燥のため１．５時間還流す
る。

ついで、Ｐ　Ｐ　Ｔ　Ｓ　３６１１ｇを加え、２．５時
間還流する。

放冷の後トリエチルアミンで中和し、クロロホルムで希
釈する。有機層を飽和重曹、水および飽和食塩水で、洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮する。得られ
たシラツブをシリカゲルカラム（ｎ−へキサン：アセト
ン−（４：　１）精製し、目的とするαケトシト誘導体
（１６） ８１．７１１１ｇを得た。

（１６）のＩＨ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（５００Ｍ　Ｈｚ　）ＣＤ
ＣＩ　　　　　δ　ｐｐｍ ７、　７−７、　３　　（ｍ、　　ＩＯＨ，Ｐｈ）。

５．５３　（ｄ、ＩＨ，Ｊｌ、２−５．１Ｈｚ。

Ｈ−１）。

４．５８　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ２．３−２．４Ｈｚ。

Ｊ　３．　４−７．９Ｈｚ、Ｈ−３）。

４、　４６　　（ｄｔ、　　ＩＨ，Ｊ　　　・　　　　
−一６．７５ Ｈｚ、Ｈ−４−）。

４、　２９　　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｈ−２）。

４、　２３　　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｊ　　　・　　　　
−−１，８５，６ Ｈｚ、Ｊ　　　−−＝７．０Ｈｚ、Ｈ−５−）。

　　　　５ ４、　２０　　（ｍ、　　ＩＨ，Ｈ−７）。

４、　１４　　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｊ　　　　　　　−
７，９Ｈｚ。

３、４ Ｊ４，５＜ＩＨｚ、Ｈ−４）。

４．０５　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊｃ、６ａ−２，１Ｈｚ。

Ｊ６ａ、６ｂ＝８．５Ｈｚ、Ｈ−６ａ）。

４．０２　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊｃ、６ｂ−３，４Ｈｚ。

Ｈ−６ｂ）。

３、　８８　　（ｍ、　　ＩＨ，Ｈ−５）。

３．７９　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊｔ３−、　６−−１．８Ｈ
ｚ、Ｊ　　　−−−８，２Ｈｚ、Ｈ−６）。

　　　　７ ３．７４　（ｄ、ＩＨ，Ｊｌ−、□　。

１　０、　７Ｈｚ、　　Ｈ−１”　　ａ）。

３、　６９　　（ｄ、　　ＩＨ，Ｈ−１−ｂ）。

３．６５　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ７−　　Ｂ　　ａ７．６Ｈ
ｚ、Ｊ８−ａ、５−ｂ−９，２Ｈｚ。

Ｈ−８＝ａ）。

３．５０　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｊ７−　８−５−４．６
Ｈｚ、　　Ｈ−８−ｂ）。

２．４０　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｊ３−ｅ、　４−４．９
Ｈ”　＋　　Ｊ　３−　ｅ　ｑ　、　３−　ａ　ｘ−１
５−Ｏａ　ｚ　。

Ｈ−３−ｅｑ）。

１．７７　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ３−ａ、　４−４．３Ｈｚ
、　　Ｈ−３−ａｘ）。

１、　５５．　１．　４１．　１．　３８．　１．　３
４゜１、　３２．　１．　３１．　　（ｅａｃｈ、　　
ｓ、　　３Ｈ。

Ｍｅ）。

１、　２９　　（ｓ、　　６Ｈ，Ｍｅｘ２）。

１、　０７　　（ｓ、　　９Ｈ，ｔ−Ｂｕ）２０−ｓ　
、　　６・ ［αコ　。

（ｃ−０，８９，Ａｃ０Ｅｔ） 実施例２ 反応フラスコにケトシル供与体（９）　５４．３ｍｇと
、ケトシル受容体（１２）　５２．９Ｂと乾燥塩化メチ
レン１．５ｍｌをいれ、予備乾燥のため１．５時間還流
する。ついで、Ｐ　Ｐ　Ｔ　Ｓ　３０ｍｇを加え、５．
５時間還流する。放冷の後トリエチルアミンで中和し、
クロロホルムで希釈する。有機層を飽和重曹、水および
飽和食塩水で、洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
濃縮する。得られたシラツブをシリカゲルカラム（ｎ−
へキサン：アセトン−（４：１）精製し、目的とするａ
ケトシト誘導体（１８）６４．２ｍｇを得た。

（１８）のＩＨ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（５００Ｍ　Ｈｚ　）ＣＤ
ＣＩ　　　δｐｐｍ ７．８−７．３　（ｍ、１５Ｈ，Ｐｈ）。

６．１−５．６　（ｍ、ＩＨ，−ＣＨ−）。

５．５９　（ｄ、ＩＨ，Ｊ２．　　ＮＨ−９，７Ｈｚ。

ＮＨ）。

５．４　５．０　　（ｍ、２Ｈ，＝ＣＨ２）　。

４、　９３　　（ｄ、　　ＩＨ，Ｊ　　　　　　−３，
６Ｈｚ。

１．２ Ｈ−１）。

４、　８−３．　３　　（ｍ、　　１８Ｈ，ｏｔｈｅｒ
ｓ）。

２．６８　（ｄｄ、Ｊ３−ｅ、、４−＝３．２Ｈｚ。

Ｊ３−ｅ、、３−、ｘ−１５，９Ｈｚ。

Ｈ−３ｅｑ）。

１、　９６　　（ｓ、　　３Ｈ，ＮＡｃ）。

１．６６　（ｄｄ、Ｊ３−ａｘ、　４−■３．２Ｈｚ。

Ｈ−３−ａｘ）。

１、　３９．　１．　３４．　１．　２９．　１．　２
６（ｅａｃｈ、　　ｓ、　　３Ｈ，Ｃ−Ｍｅ）。

１、　１０　　（ｓ、　　９Ｈ，ｔ−Ｂｕ）実施例３ 塩化オキザリル　７８μｌジクロロメタン０．６５ｍ１
溶液中、ジメチルスルホキシド１３２μｍのジクロロメ
タン０．２ｍｌ溶液を一６０度で２分間かけて滴下した
。５分後（２０）の１１５．２Ｂのジクロロメタン０．
４■１溶液を加え、１５分間滴下した。トリエチルアミ
ン２７５μｍを加え中和し、クロロホルム４０ｆｆ１１
で希釈後、有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた。濃縮後、メタノール／
水（９：１）溶液０．７８ｎｌ中に溶かし、重曹６２４
＋ａｇを懸濁させ、臭素２４４．４ｍｇを加えた。４時
間後、チオ硫酸ナトリウムを加え過剰の臭素を除去し、
得られたシラツブをシリカゲルカラム（ｎ−へキサン：
酢酸エチル−（６：１）にて精製し、目的とする（２２
）のシラツブ１１４、ｉｏ＋ｇを得た。

実施例４ 実施例１及び２に準じて、化合物の合成例を以下の表１
に示す 表１ 供与体 ○Ｈ （Ｉｔ）　　Ｒ７−Ｉｔ （９）Ｒ７−ＴＢＤＰＳ （１０）Ｉ２７−ＡＣ 受容体 表１に示された化合物の構造は次に示す通りである。

（１１） （１２）ＲｌＢ−Ａｃ、Ｒ１７−Ａ１１（１３）Ｒ１Ｂ
＝ＣＢｚ、Ｒ１７−Ｈ （１４）ＢｎＯＨ （１５）ＥＬＳＩＩ 生成物 （１６）Ｒ７−ＴＢＤＰＳ （１７）Ｒ７−Ａｃ （２０）Ｒ２５＝ＯＢｎ （１８）Ｒ１［１−Ａｃ、Ｒ１７−Ａ１１（１９）Ｒｌ
Ｂ−ＣＢｚ、Ｒ１７−Ｈ （２２）Ｒ２５＝ＯＢｎ （１７）のＩＨ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（５００Ｍ　Ｈｚ　）ＣＤ
ＣＩ　　　　　δ　ｐｐｍ ５．５６　（ｄ、ＩＨ，Ｊｌ、　　２−４．９Ｈｚ。

Ｈ−１）。

４．５９　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｊ２．　３−　２．３Ｈ
ｚ。

Ｊ　３．４−７．９Ｈｚ、Ｈ−３）。

４、　５３　　（ｄｔ、　　ＩＨ，Ｈ−４−）。

４、　４８−３−５５　　（ｍ、　　Ｉ　　ＩＨ，ｏｔ
ｈｅｒｓ）３．４８　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ５・、６・−２
，９Ｈｚ、　　　Ｊ　　　−−〜８．４Ｈｚ、Ｈ−６−
）７ ２．４１　　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ３−ｅ、　　４−−４−
　　ｏ　Ｈｚ　、Ｊ　３−ｅ　ｑ　、　　３−　ａ　ｘ
　〜１５−　５Ｈｚ　、　　Ｈ３−ｅ　　Ｑ　）　　＋
２、　０９　　（ｓ、　　３Ｈ，Ａｃ）。

１．７４　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｊ３−ａ、　　４−−３
、　６Ｈｚ、　　Ｈ−３−ａｘ）。

１、　５４　　（ｓ、　　３Ｈ，Ｍｅ）。

１、　４５　　（ｓ、　　６Ｈ，Ｍｅｘ２）。

１、　４１　　（ｓ、　　３Ｈ，Ｍｅ）。

１、　３８　　（ｓ、　　３Ｈ，Ｍｅ）。

１、　３４　　（ｓ、　　３Ｈ，Ｍｅ）。

１．　３２　　（ｓ、　　６Ｈ，Ｍｅｘ２）。

　０ ［α　コ　　　　　　　　　　−−１９，１。

（ｃ＝１．　０７．　　Ａｃ０Ｅ　　ｔ）実施例５ 化合物（１６）　７２．５Ｂ′に（ＩＭ）のｎ−プチル
アンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液１４
０μｍを加え、室温で２４時間攪拌した。反応液を２０
ｍ１のクロロホルムで希釈し、重曹水、食塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。

この化合物を減圧下溶媒を留去し、減圧下デシケーター
中で五酸化リンで乾燥した。塩化オキザリル１７μｌ　
ジクロロメタン２００μｌ溶液中、ジメチルスルホキシ
ド２８μｍのジクロロメタン４３ｍ１溶液を一６０度で
２分間かけて滴下した。５分後デシケーター中で乾燥し
ていた化合物３４ｍｇのジクロロメタン４００μｍ溶液
を加え、１５分間滴下した。

トリエチルアミン５９μｌを加え中和し、クロロホルム
３０■１で希釈後、有機層を水および飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。

濃縮後、メタノール／水（９：　１）溶液０．１６ｍ１
中に溶かし、重曹１３７ｍｇを懸濁させ、臭素５２．１
１１１ｇを加えた。４時間後、チオ硫酸ナトリウムを加
え過剰の臭素を除去し、得られたシラツブをシリカゲル
カラム（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル−（６：１）にて精
製し、目的とする（２３）のシラ・ノブ２９．２ＩＩ１
ｇを得た。

（２３）のＩＨ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ）ＣＤＣＩ　　
　δｐｐｍ ５．５４　（ｄ、ＩＨ，Ｊｌ、２−５．１Ｈｚ。

Ｈ−１）。

４．５８　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ２，３−　２．６Ｈｚ。

Ｊ３，４−７．９Ｈｚ、Ｈ−３）。

４．５０　（ｄｔ、ＩＨ，Ｊ４−　５−−７．４Ｈｚ、
Ｈ−４−）。

４．３８　（ｄｄｄ、ＩＨ，Ｊ６−、　７−−８．６Ｈ
ｚ、Ｊ　７−　　Ｂ　−ａ−４，６Ｈｚ。

Ｊ　７−　　ｓ　−ｂ−６，１Ｈｚ、　Ｈ７−）　。

４．３０　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ５−、　６−−１．９Ｈｚ
、　　Ｈ−５）。

４、　２９　　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｈ−２）。

４．１９　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ８−、　８　ｂ８　、　９
　’ｋｌ　　ｚ　、　　Ｈ−８−ａ　）　　＊４．１５
　（ｄ　ｄ、ＩＨ２Ｊ、４．５”１．８Ｈ’ｚ。

Ｈ−４）。

４、　１３　　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｈ−８＝ｂ）。

３．８９　（ｄｄｄ、ＩＨ，Ｊ５．　６ａ−７，９Ｈｚ
、Ｊ　５．６ｂ−３，７Ｈｚ、Ｈ−５）。

３．８２　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ６．　６．−１０．１Ｈｚ
、Ｈ−６ａ）。

３、　７８　　（ｓ、　　３Ｈ，ＣＯＯＭｅ）。

３、　７２　　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｈ−６１。

３、　４３　　（ｄｄ、　　ＩＨ，Ｈ−６ｂ）。

２．７３　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ３−ｅ、　　４−−４　、
　３　ＨＺ　、Ｊ　３−ｅ　ｑ　、　３−ａ　ｘ−１５
，３Ｈｚ、　　Ｈ−３−ｅ　ｑ）。

１．９５　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ　３−　ａｘ、４−−３、
　４Ｈｚ、　　Ｈ−３−ａｘ）。

１、　５３　　（ｓ、　　３Ｈ，Ｃ−Ｍｅ）。

１、　４２　　（ｓ、　　９Ｈ，Ｃ−ＭｅＸ３）。

１、　３７　　（ｓ、　　３Ｈ，Ｃ−Ｍｅ）。

１、　３２　　（ｓ、　　６Ｈ，Ｃ−Ｍｅｘ２）。

１、　３１　　（ｓ、　　３Ｈ，Ｃ−Ｍｅ）２０−−１
６．３゜ ［αコ　Ｄ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）一般式（１）で表されることを特徴とする化合物
   。 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （式中、 Ｒ＿１が−ＣＨ＿２ＯＲ＿７のときＲ＿２は−ＹＲ、Ｒ
   ＿１が−ＹＲのときＲ＿２は−ＣＨ＿２ＯＲ＿７、Ｒ＿
   ３が水素原子のときＲ＿４は−Ｏ＿Ｒ８、Ｒ＿３がＯＲ
   ＿８のときＲ＿４は水素原子、Ｒ＿５が水素原子のとき
   Ｒ＿６は −ＣＨＯＲ＿９ＣＨＯＲ＿１＿０ＣＨ＿２ＯＲ＿１＿１
   、Ｒ＿５が−ＣＨＯＲ＿１＿２ＣＨ＿２ＯＲ＿１＿３の
   とき、Ｒ＿６は水素原子、 ＸはＮＨＡｃまたはＯＲ＿１＿４、 ＹはＯまたはＳ、 Ｒ＿７、Ｒ＿８、Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１＿１、Ｒ
   ＿１＿２、Ｒ＿１＿３、Ｒ＿１＿４は水素原子または保
   護基であり、Ｒは低級アルキル、アリール、または水酸
   基がフリーもしくは適当に保護した単糖もしくはオリゴ
   糖 を表す。） （２）請求項（１）項記載の化合物において、一般式（
   ２）で表されることを特徴とする化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（２） （式中、Ｒ＿７、Ｒ、Ｙは前記と同様を示す。）（３）
   請求項（２）項記載の化合物において、Ｒ＿７は水素原
   子、ＴＢＤＰＳ、またはＡｃ、−ＹＲはＯＢｎ、ＳＥｔ
   、またはＯＲ＿１＿５Ｒ＿１＿５は ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ Ｒ＿１＿６はＡｃまたはＣＢｚ Ｒ＿１＿７はＡｌｌまたは水素原子 である化合物。 （４）一般式（３）で表されることを特徴とする化合物
   。 ▲数式、化学式、表等があります▼（３） （式中、 Ｒ＿１＿８は水素原子、低級アルキル、またはアリール
   、 Ｒ＿２＿５はＯＢｎ、ＳＥｔ、またはＯＲ＿１＿５Ｒ＿
   １＿５は ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ Ｒ＿１＿６はＡＣまたはＣＢｚ Ｒ＿１＿７はＡｌｌまたは水素原子 を表す。） （５）一般式（４） ▲数式、化学式、表等があります▼（４） で表わされる化合物 （式中、 Ｒ＿１＿９が−ＣＨ＿２ＯＲ＿７のとき Ｒ＿２＿０は−ＯＲ＿２＿１、 Ｒ＿１＿９が−ＯＲ＿２＿１のとき Ｒ＿２＿０は−ＣＨ＿２ＯＲ＿７、 Ｒ＿３が水素原子のときＲ＿４は−ＯＲ＿８、Ｒ＿３が
   ＯＲ＿８のときＲ＿４は水素原子、Ｒ＿５が水素原子の
   とき Ｒ＿６は−ＣＨＯＲ＿９ＣＨＯＲ＿１＿０ＣＨ＿２ＯＲ
   ＿１＿１、Ｒ＿５が−ＣＨＯＲ＿１＿２ＣＨ＿２ＯＲ＿
   １＿３のとき、Ｒ＿６は水素原子、 ＸはＮＨＡｃないしはＯＲ＿１＿４であり、Ｒ＿７、Ｒ
   ＿８、Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１＿１、Ｒ＿１＿２、
   Ｒ＿１＿３、Ｒ＿１＿４、Ｒ＿２＿１は水素原子ないし
   は保護基である） を、適当な溶媒ないしは無溶媒で、酸ないしは強酸と弱
   塩基の塩の存在下一般式（５） ＲＯＨ（５）（式中Ｒは、 低級アルキル、アリール、ないしは水酸基がフリーある
   いは適当に保護した単糖あるいはオリゴ糖を表す） で表される化合物と反応して得られる一般式（１）で表
   される化合物の製造法。 （６）請求項（５）において、次式（６） ▲数式、化学式、表等があります▼（６） （式中、 Ｒ＿７は水素原子、ＴＢＤＰＳ、Ａｃである）で表わさ
   れる化合物とアルコール、チオール、あるいは糖の一部
   を保護した糖と適当な溶媒ないしは無溶媒で、酸ないし
   は強酸と弱塩基の塩の存在下反応することを特徴とする
   一般式（２）で表される化合物の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼（２） （式中、 Ｒ＿７は前記と同様、 −ＹＲはＯＢｎ、ＳＥｔ、ＯＲ＿１＿５ を表す） （７）一般式（１）で表される化合物のＲ＿７を水素原
   子とし、ついで酸化して得られる一般式（７）で表され
   るシアル酸あるいは３−デオキシオクツロン酸を含むグ
   リコシド誘導体とし、必要に応じて他の部位の脱保護を
   行なうことを特徴とするグリコシドの製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （式中、 Ｒ＿１が−ＣＨ＿２ＯＲ＿７のときＲ＿２は−ＹＲ、Ｒ
   ＿１が−ＹＲのときＲ＿２は−ＣＨ＿２ＯＲ＿７、Ｒ＿
   ３が水素原子のときＲ＿４は−ＯＲ＿８、Ｒ＿３がＯＲ
   ＿８のときＲ＿４は水素原子、Ｒ＿５が水素原子のとき
   Ｒ＿６は −ＣＨＯＲ＿９ＣＨＯＲ＿１＿０ＣＨ＿２ＯＲ＿１＿１
   、Ｒ＿５が−ＣＨＯＲ＿１＿２ＣＨ＿２ＯＲ＿１＿３の
   とき、Ｒ＿６は水素原子、 ＸはＮＨＡｃまたはＯＲ＿１＿４、 ＹはＯまたはＳ、 Ｒ＿７、Ｒ＿８、Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１＿１、Ｒ
   ＿１＿２、Ｒ＿１＿３、Ｒ＿１＿４は水素原子または保
   護基であり、Ｒは低級アルキル、アリール、または水酸
   基がフリーもしくは適当に保護した単糖もしくはオリゴ
   糖 を表す。） ▲数式、化学式、表等があります▼（７） （式中、 Ｒ＿２＿３が−ＣＯ＿２Ｒ＿１＿８のときＲ＿２＿４は
   −ＹＲ、Ｒ＿２＿３が−ＹＲのときＲ＿２＿４は−ＣＯ
   ＿２Ｒ＿１＿８、Ｒ＿３が水素原子のときＲ＿４は−Ｏ
   Ｒ＿８、Ｒ＿３が−ＯＲ＿８のときＲ＿４は水素原子、
   Ｒ＿１＿８は低級アルキル、アリール、 Ｒ＿３〜Ｒ＿６、Ｒ＿８〜Ｒ＿１＿４、Ｒ、Ｘ、Ｙは前
   記と同様 を表す。） （８）請求項７に記載の製法において、一般式（２）で
   表わされる化合物のＲ＿７を水素原子とし、ピリジニウ
   ムクロロクロメート、あるいは、ジメチルスルホキシド
   酸化、次いで臭素酸化することを特徴とする一般式（４
   ）で表される化合物の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼（２） （式中、Ｒ＿７、Ｒ、Ｙは前記と同様を示す。）▲数式
   、化学式、表等があります▼（２４） （式中、Ｒ１８、Ｙ、Ｒは前記と同様を示す）