JPH03263446A - 耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物及び耐放射線成形物の製造方法 - Google Patents

耐放射線ポリプロピレン樹脂組成物及び耐放射線成形物の製造方法

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JPH03263446A
JPH03263446A JP2295227A JP29522790A JPH03263446A JP H03263446 A JPH03263446 A JP H03263446A JP 2295227 A JP2295227 A JP 2295227A JP 29522790 A JP29522790 A JP 29522790A JP H03263446 A JPH03263446 A JP H03263446A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明は実質的にシンジオタクチック構造を有するポリ
プロピレンからなる樹脂組成物に関するものであり、さ
らに詳しくは放射線の照射による物性の劣化が起りにく
いポリプロピレン樹脂組成物に関する。 [従来技術] ポリプロピレンは、安価でしかも諸物性のバランスが比
較的良好なため食品用および医療用の容器、包装用資材
などに用いられている。これらの目的に用いるためには
、容器、包装用資材などの殺菌が必要であり、そのため
に放射線の照射が行われる。放射線による滅菌は簡便で
はあるが、ポフマー分子量の低下とそれによる物性の低
下とを伴う。 レンジ2ククヂツクボリブ1」じ1ノンは、山くからぞ
のイ♀在が知らオ・1ている。1 しかしながら、パー
ツ゛シウム化合物どヱー フル及びイj1機アルミゴー
ラム合物とからなる従来の触媒を用い−C低潟にJjい
てIn合する方2去により(−)られたノンジ]ククヂ
ックボリブUlピレンはシンジオタフ1イクブイ−が悪
く、エラストマー画情性をイtするどI:われでいたが
、そ−、t′1が本末的にレンジ1タクヂ=ツクボリゾ
ロビ1ノンとし2υの特徴を自−4るどは云い難かった
41、J、A、I・Wellらは、J]対称な配位子を
イ]する遷移金属(II f及びZr)化合物と、メー
1ルアルミノA−ザンとからなるΦ金触媒を用いてブV
−7ビ1/ンをΦ゛合することにより、’″CNMli
 1mよるシンシオタクーfツタペンタッド分十が0.
′lを越λるタフ−j−4シテイの良ム1′なボリブD
ピlノ二ノがt)られる、−どを、はl、。 め−〔す5出した(、j、Δnver、chem、so
c、、 1,988.110゜fi255−6) 、。 1゛、記のJ、 A、 Ewet+らの方法は遷移金属
当りの活性が良b’(”Cあh”C−1得C)れたシン
ンAタクヂ・ンクボリノ゛髪二7ビL/ンのノンジイタ
クjイミ/j−イーも高く、し、2かも、ぞ−の物・[
jlもかなり優れたで)の−(あり、従来のアイソタク
ヂックボリブnilじ1.ノンの用途(J充分利用p]
能なレベルにある4゜[発明が解決しようとする課題1 滅菌を必要とするポリプロピlノンの用途は、iL:L
年延びでき−C’ !5す、放射線滅1λこ1の際に物
性の低I・が牛しにくく、か)、物・]件のバランスに
優れたボップロピレンの開発が望まれでいる。 本発明の目的は放射線のi11′fi IJ・1に対し
で安定であり、かつ物性のバー)ンスの優れたポリゾし
lビ1ノンからなる樹脂組成物を提供すること64=あ
る。。 本発明のその仙0月」的は以トのrt桟から明〔らかて
あイ〕う。 1課題を解決4−るための手段1 本発明の耐敢躬線ボリブtコ1ピ1./ン樹脂組成物は
1.2.4−−トリクロロベンゼン溶液で測定した13
C−NMIIの吸収スベク1−ルにおいCj−トラメチ
ルシソンを基準として約20.2ppm i、m観測さ
れるピクの強度かブ[111ビ1ノン単位のメf=ルI
f;Z帰属されるピークの強度の総和の()、5以4−
である実質的にシンジオタフ・デック横路をAIするボ
リブVlビ1ノンからなるものである。 本発明において実Tt的にシンジオタクチック構造を有
するポリプロピ1ノ、ノとはト1尼のl″f’;−NM
R吸収スペクトル特性をイ1→る実質的1jrシンジオ
タクヂツク構造を有するプロピレンの4−・千ポリマー
およびプロピレンと炭素数2−25のその他のオレフィ
ンどの実質的にシンジオタクチック構造をイ]するコポ
リマーを包含1−る。上記のプロピレン以外の第1ノフ
ィ、ノの例はエチレン及び炭素数4−20の 数式C1
12−4;II R(式中、Rは炭素数2−18、好ま
しくは2−+2の分枝しCもよい)′ル・〜ル」、Lで
ある。)で表わされるもの、」1体的にはゾテン1、ペ
ンテン−1、ヘギセン−1、ヘゾデン1、オクテン−1
、ノネン−1、デセン−1、ウンデセン−1、ド戸゛セ
ン−1、トリデセン−1、ペンタデセン−1、ヘキサデ
セン−1、ヘプタデセン〜1、オクタデセン−1などの
直鎖オレフィンのイ也に3−メヂ刀ノブγン−1,4メ
チールベンラ゛ン−1,,4,4−ジメチルベンブン−
1?;の分岐オL/フィンである。これらの4川ノ−ノ
rンの置は、通常、約20小社%以t゛、好ましくは1
5重量%以1・Cあることが剛性の点からム仁tしい。 実質的G1”ノンシオタクーfツク構造を(1′するポ
リプロピlノンの製造方法とじてはATi記J、 A、
 Ewpnらの方法を側車することができる。用いられ
る触媒がE w tr nらのものと異な−)−Cいて
もブ[1ピレンを中独υ屯合してノンジオタクチックペ
ンタッド分lが07を越えるシンジオタフ−f−・ンク
ブロビシン・トモポリ!−を製造することができるよう
な触媒Cあ才1ば、と゛のようなものCも使用可能であ
る4、−1・=1!触媒を用いるh2去は、ボリプ覧」
ピIノンとその他のすレフインの一1ポリマーの製造に
適用することがCきる7、 比較的良好なタクフィシjイーのレノンジ士タクヂック
ボリブロビシンをりλ、るのは、非対称な配位子を右す
る遷移金属化合物とアルミツギ→)−ンとからなる重合
触媒を用いる方法であイ)。非対称な酉1位エイイー+
4−る遷移金属化合物の例は、J、 A、 Ewenら
の開示しているイソプロピル(シクロペンタジェニル−
1−フルオレニル)ハフニウムジクロリド、イソプロピ
ル(シクロペンタジェニル−1−フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロリド、これらの塩素の1もしくは2をその
他のハロゲンもしくは炭素数1−5のアルキル基で置換
したものである。 アルミノキザンとしては、 (式中、Rは炭素数1−3の炭化水素残基である。)で
表わされる化合物が例示され、特にRがメチル基でnが
5以上、特に好ましくは10−1.00のものが好まし
く用いられる。 上記遷移金属化合物に対するアルミノキザンの使用割合
は、10−1..000.000モル倍、好ましくは5
0−5,000モル倍である。 重合条件には特に制限はな(、公知の不活性溶媒を用い
る溶媒重合法、実質的に不活性溶媒の存在しない重合系
での塊状重合法、又は気相重合法が用いられる。通常、
重合温度は一100°〜200°C1重合圧力は常圧〜
100 kg/cm2−Gである。 −100℃〜100°C1常圧〜50 kg/cm2−
Gにおける重合が特に好ましい。 このようにして得られるポリプロピレンのシンジオタク
シティーをさらに向上させるためには、得られたポリプ
ロピレンを炭素数3−20の炭化水素溶剤で洗浄するこ
とが有効である。これらの炭化水素溶剤としては、プロ
ピレンそのもの或いはプロパン、ブタン、ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、ノナンなどの飽和炭化水
素化合物の伯に、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼンなどの芳香族炭化水素化合物あるいはそれら
の水素の一部または全部が弗素、塩素、臭素、沃素で置
換したものも利用できる。その他の溶剤としては炭素数
1−20のアルコール類、炭素数2−20のエーテル、
エステル類など低分子量のアタクチック成分を溶解又は
分散させ得るものが使用可能である。洗浄方法には特に
制限はなく、通常0’ −100℃の温度で行なわれる
。 このようにすることにより、n−ヘキサン可溶分が少な
く、かつ成形したとき表面がべたつくなどの問題のない
、物性が良好なシンジオタクチックポリプロピレンが得
られる。 上記の方法により得られるプロピレンホモポリマーでは
、タクシティーとしてシンジオタクヂックベンタッド分
率(1,2,4−トリクロロベンゼン溶液で測定した”
(、−NMRでテトラメチルシランを基準として20.
2ppmに観測される。以下、同じ。)は0.7以上、
好ましくは0.8以上である6シンジオタクチツクペン
タツド分率が0.7より小さいと、結晶性のポリプロピ
レンとしての特性が不充分であり、物性が不良なので好
ましくない。 また、このポリプロピレンホモポリマーは20℃のヘキ
サン可溶部分が10 wt、%以下であることが必要で
ある。この可溶部分は粉末状のポリマ10gを20℃の
100mβのヘキサンに分散し5時間撹拌し抽出された
部分を秤量し抽出前のポリマーの量で除して算出される
。この可溶部分が10 wt、%を越えると成形物の表
面がべたつくなどの問題があり好ましくない。可溶部分
の量は、より好ましくは5 wt、%以下である。 また、前記のプロピレンと他のα−オレフィンとのコポ
リマーは、1..2.4−1−リクロロベンゼン溶液で
測定した” C−NMRの吸収スベク1−ルにおいて、
テトラメチルシランを基準として約20.2ppmに観
測されるピークの強度がプロピレン単位のメチル基に帰
属されるピークの強度の総和の0.5以上である高度に
シンジオタクチック構造のものである。 本発明の樹脂組成物を構成する実質的にシンジオタクチ
ック構造を有するポリプロピレンの分子量は135℃の
テトラリン溶液で測定した極限粘度として0.1〜lO
であることが好ましい。また、ゲルパーミェーションク
ロマトグラフィーで測定したポリプロピレンの分子量分
布は比較的狭い方が、放射線の照射に対してより安定(
分解を受けにくい)である。本発明においては、ポリプ
ロピレンの重量平均分子量と数平均分子量の比0 (Mw/MnlがI 、 5−= 5、特!、m1−5
〜4であることが好ましい。このM w / M nの
測定は例スば1;31直〕の1.2.4−ト・リクトノ
l’:’11ベン(fンを)8謀と1−2て山1仮のカ
ラムを用いで測定される5、 本発明におい“(′は、上記の条件を満)J!させるシ
ンジオタフブック構′Jろをイ〕するボリブOt、−、
: 1.、/ント、゛Jン系土た(:1アミン糸酸化防
市剤を添加−4イ)1了とが好ま[−2い、1−れC〕
の酸化防11−′剤の添力旧、二より成形時の物性劣化
または放射線滅菌の際の物性の劣化をまり自効に゛避け
ることができる。 酸化防11゛剤と1−、 ’7−は、ずCに多くのもの
が知ら才1(−いるが、本発明で用いられる酸化防止剤
の例番J次のとおりCある。 フン系酸化防11−剤  1−リアルキルホスファ−イ
ト(アルキルはイソデシル、トリデシル客)、フJ−ニ
ルジアルギルホスフ?イト(アルキルはイソデシル、−
(ソ”」クヂル等)、シフ1.ニールアルキルボスファ
イト(アJl、−ヤルC:1イソデシル、イソ]クー1
−ル、−イソデシル’IG)、)−リノエニルホスノア
(1−1置換トリフ]−ニルホスファ−イト、ホスファ
1 ラスアソド(1,1−ピノ:r、 、ニー6ル〜4,4
’−5ンイル)ビスデI・・うA−ス(2,4−ヒ、ス
(1,ビージメづ′ル1丁8fル)フ、工、二′0ル)
丁7スデル、:)、5 ジーt−゛ブチルー4−ビl”
 rJ A−ンベンシルポスノエイト−ジー[チル−丁
スンール、!1 、 I O−ジヒ3o−9−4−9−
10ホスフィベリ−ント1ノンー10−オN−シト、ソ
ジウムビス(4t−ブヂルフyニル)ホスソ、1.イト
、ソンウム〜2,2“ メヂレノ ビス(4,6ジt−
ブヂルフェ、−ル)小スソエイト、1.3−ヒ゛ス(ジ
フェノ六シホスソイ、−゛−ルオキシ)ベン」−2ン。 アミン系の酸化防11剤の例: アルキル置換シフ丁、
ニルアミン、ノアリル−1)〜フ、I−二lノ、ノジア
ミンあるいはその置換体などのp−フエ二、レンジアミ
ンのN置換体、6−ニトキシー2,2゛−イートリメチ
ル−1,2−ジヒトロギノリンなどの置換キノリン、 
2.2”、6.ti’−デト]ノ)′ルギルビベリジノ
なとの置換ピペリジン。 これらの酸化防1)剤の添加Iitは樹脂組成物の0.
01〜IW11%、特に0.05〜0.5wt、%であ
る4二ど」 2 が(lftbい1、 また、本発明に」SいrLj萌記条イシ1をi’i’J
2足するSノンソオタクーfツク構造を有するボリブ(
IJビ1./ンに造核剤を添加することができる。 1m 1’6剤どしではよく知られたものを用いイ百−
どがて゛き、その例ば安息香酸、トルーイル酸、I) 
−t e r +ブヂル安息香酸等の芳lff族士ノカ
ルボン酸の金属塩類、l、3・2,4−ジ(ベンジリデ
ン)ソルビトル、■、:3・2,4−ン(+−+−メー
1)しベンジリデン)ソルビトールール、l、;1・2
.4−シ(l1l) −1ヂルベンシノデン)ソルビト
ール等のンベノシリデンソルビ1−− ルり自、リン酸
ビス(4−L(・rl−〕〕゛−f−fルノ1.ニール
リウム、メチ1/ンビス(2,4−ジー1、ertブJ
ルーフエノール)リン酸すトリウム等の芳香り次リン酸
化合物の金属塩類、ポリビニルシフ[7へキリ〕ノ、ボ
リーコ3−メーJルブjン、結晶性ポリス!用ノン、ポ
リトリメ−f−ルビニルシ3)ン!rどの融点の高い高
分子化合物類、2,3−キナクリドン、ジヒドc:+ 
AンVづクリl’ 〕/′、アセーfル化ご\ナクリド
ンなどのギナクリドン憩が好ましく使用でき、:4:1
;3 た、タルク、カオリン、マイカ等の無機化合物を包含づ
る。これらの造核剤は2種以りを用いるJともできる。 造核剤の添加量は樹脂組成物の0()旧〜]、wt%、
特に0.1〜0.5wt、%−CあることがlIrまし
い。 本発明のポリブ冒ビ1ノン樹脂組成物は、+i’i+ 
3a条件な渦足するシンジオタクチツウ構造を有するポ
ツプ冒ビ1ノンをベースとし、で”、所望C4:よりア
イツタクーブーツク構造を有するポリプロピ12/ン、
プロピ1ノンと工、−J1./ンまたは炭素数4以1:
::: (D Q −t lシフィンとのコポリマーま
たはぞのイ1セのポリ第1ノフインを5Dwt、、%未
沼j、特63二40 wt29%未渦のはであって、耐
放射線安定性を損なわない範囲の獣を含イ1することが
できる。これらのアイソタクチック構造を有−4るボリ
ブし1じ1ノンなどの13に−罪Rで測定したアイソタ
クチックペンタッド分率は0.9以lゾ(あることが好
ましい、 本発明の樹脂組成物は、使用1−1的(に反しない範囲
で消削、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、熱安定剤、帯電
防止剤、有機も!、<は照機顔料などの名4 種安定剤を単独または組合せて用いることができる。こ
れらの各種添加剤の例としてはポリオレフィンに通常添
加されるものを挙げることができる。 本発明の樹脂組成物は、その製造方法については特に制
限はなく、前記条件を満足させるシンジオタクチック構
造を有するポリプロピレンにその他の構成成分を混合す
ることにより製造される。 混合は、通常ヘンシエルミキザーなどの混合機中でポリ
プロピレンの融点以下で行われる。得られる混合物は押
出機などにより溶融混合し、ペレットとするのが一般的
である。 本発明の樹脂組成物は放射線で滅菌して用いる物品の成
形に好ましく利用される。具体的には、医療用の各種容
器、食品包装用の各種容器などに用いられる。これらの
容器は公知の射出成形、押出成形、ブロー成形などの方
法により成形される。 これらの容器は、成形後γ線、電子線などの放射線を照
射することにより滅菌される。滅菌は敢 5 射線を通常、10Mrad以下、好ましくは]〜5 M
radの線量照射することで行われる。γ線を用いる場
合は放射線の透過力が強いので、特に照射方法について
の制限はないが、照射線量を大きくして照射時間を短か
くするのが、被滅菌成形物の物性劣化を最小限に止める
上で好ましい。一方、電子線を用いる場合は、その透過
力が弱いので、数mmu下の比較的薄い成形物を電子線
に対して垂直に置いて照射する必要がある。照射時の温
度には特に制限はなく、常温における照射が好ましく行
われる。 本発明の樹脂組成物は成形時の熱安定性に優れ、かつそ
れから得られる成形物は、耐放射線安定性に優れ、しか
も物性間のバランスにも優れており、放射線による殺菌
を要する食品、医療の分野において極めて有用である。 〔実施例] 以下に本発明を実施例により具体的に説明する。 実施例1 】 6 常法にしたがって合成したイソプロピルシクロペンタジ
ェニル−1−フルオレンをリヂウム化し、四塩化ジルコ
ニウムと反応し再結晶することで得たイソプロピル(シ
クロペンタジェニル−1フルオレニル)ジルコニウムジ
クロリド0.2gと東曹アクゾ■製メチルアルミノキサ
ン(重合度1.6.1) 30gとを触媒として用い、
内容積200℃のオートクレーブ中で、トルエン1圓β
の存在下、プロピレンを装入して重合圧力3 kg/c
m2−Gとして20℃で2時間重合した。 重合終了後、未反応のプロピレンをパージし、得られた
ポリマーをメタノール25βと酢酸メチル0.2512
で洗滌してアククチツクポリプロピレンおよび灰分を除
去し、ついでINの塩酸水溶液で洗浄し、濾過して5.
6kgのシンジオタクチックポリプロピレンを得た。 このポリプロピレンはシンジオククチックベンクッド分
率が0.935であり、 135℃のテトラリン溶液で
測定した極限粘度(以下nと略記。)は1.45、1,
2.4−トリクロロベンゼンで測定した7 Mw/Mnは2.2であった。 このポリプロピレン]Ogを100mILの20℃のn
−ヘキサンに分散させて5時間攪拌したところ可溶部分
は2 wt、%であった。 このポリプロピレンに30℃でγ線を2 Mrad/h
rで3 Mrad照射したところηは1.26になった
。 このポリプロピレンにトリス(2,4−ジ−t−ブチル
フェニル)フォスファイトを0.1wt、%およびコハ
ク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒ
ドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルビベリジン重
縮合物を0.01wt、%加えて造粒し、厚さ2mmの
シートとし同様にγ線を3 Mrad照射し前後の以下
の物性を測定した。測定は下記の方法によった。 曲げ剛性度:   kg/cm2ASTMD−747(
23℃)引張降伏強さ:  kg/cm2ASTM D
−638(23℃)破断時伸び:   %  ASTM
 D−638(23℃)アイゾツト(ノツチ付)衝撃強
度:  kg−cm/cmASTM D−638(23
℃、−10℃)照射前の曲げ剛性度、引張降伏強さ、破
断時伸 8 び、1:5よびノ2イソッ[・衝撃強度(23’l’;
、−]0’C)はそれぞれ6200.2に0.550、
j、5よび45.3.6cあり、照射後はそれで:れ6
100.265.390、および:(8,3,4であ−
)た。 比較例1 エヂLノン含h1が4.2wt29%、目CNMRiw
 Jニル7 イソタクヂックベンタツド分率が[1,9
28であり、77が1.50、Mw7Q10が58であ
る市場で人手したアイソタクヂックブ「Jビlノンー−
T、 f−シン共重合体を用いた伯は実施例1と同様に
しl、−0実施例1番4°おける安定剤を1lJlil
 、Mなか一うた時の照射後のηは1.18であり、物
性は、照q・f’ 1iiiで、曲げ剛性度、引張降伏
強さ、破断時伸びお、上びアイゾツト衝撃強度(23°
C5−10°0)は、ぞれぞれ5800.250.5’
7O,J3ヨび3.5.1.5テあり、照It後はそれ
ぞれ5700.240.1 ]、、 (1、および2.
8.1.0CありlJ。 比較例ン アイソタクヂックベンタッド分率が0.945 、  
nが1.62、Mw/Mnが62である山場で入手した
アイソタクチックブ11ピh、−ンボ千ポリマーに実施
例19 1’−、、、、i::Xけると同様の安定剤のN−を添
加j、で5113粒し、厚さ2mmのシートを製造;ま
た。このシー1・(に実施例1と同様:こ“r線を即*
f L 、そ−の前後の物・FiFを測定[、また。 !1@射前の曲げ剛・11度、引張降伏強さ、破断時伸
とIf5よびアイゾツト衝撃強度(23℃、−IO”C
)は、そわぞれl 3 fl 110.341O1[i
oo 、 、8よび2、l以−1・であり、照射後の、
それら(」子れぞれ8500.31 [1,85、およ
び1以F、1以トCあ−)l、−0実施例〉 ヘギセンーIをlOp共在きり“た以外は実施例1と同
様O6二しCプ1111Lノンの手合を11った。11
1合混合物から未反応のプロピ1ノンをパージし、つい
にの重合混合物を500℃の1−1−クレープに移し、
メタノ、−ル200pを添加しCポリマーを析出させた
。得られたポリマーはヘキセン−1単位の含量が!i、
6wt、%、’ 3C−NM)tによる20.2ppm
のビク強度がブ
【]ピレン申位のメーf−ル基に帰属さ
れるピーク強度の総和の069.7i力月24、Mw/
Mnが242Cあるブロビシンーヘギセン〜lの共重合
体 0 で゛あった。 実施例1におけると同様にしてγ線照1=I前後の物性
を測定したところ、照射前の曲げ剛性度、弓張降伏強さ
、破断時伸び、J3よびアイゾツト衝撃強度(23°G
、−11)’C)はそれぞわ、 5200.221】、
480、および13゜5、;15であり、照射後のそれ
らはぞれぞれ!i 2 If [1,2■、3811、
および12,8.3.11であった。またηは照射前り
月、24であっl;−のに対して照射後が1.20とほ
とんど低下が認められなかった。 実施例3 重合に際しC−1−チlノンを200g/h+−で連続
的に装人する以外は実施例1と同様に操作して工=ヂシ
ン申1位含量2.5wt、%、” C−NMRによる2
0.2ppmのピー り強度がブ〔1ピレン単位のメブ
ル基に帰属されるピーク強財)総和(7)0.83、η
が1.38、Mw/IAnが2.1であるノロピレン−
ニーfLノン共重合体を得た。 実施例1に−1,51r−jると同様にし−(]γ線!
!fl Q−1前後の物性を測定したところ、pIIN
、1前で、曲げ剛性度、1 引張降伏強さ、破断時伸び、!54、びアイゾッh f
fi撃強迫(23°C1−10’C)はそれぞれ560
0.24([,680、右よび14.5.2.9であり
、照射後のそれらはそれぞれ5700.250.670
、Jうよび146.2,8であった。またηは照射前り
月138であ−)たのに対して照射後が1.32とほと
んど低]・′が認められなか−った。 実施例4 実施例1のシンジコタクヂ・ンクボリブロビLノンと比
較例1の1イソタクfツクブしノビシンエヂレン共重合
体を7・3で混合しし用いた他は実施例1と同様にした
ところ”(>NMRによれば20.2ppmのピーク強
度がプロピ1ノン甲〜位のメチル基に帰属されるピーク
強度の総和の0.65Cあっ);・。 叩射前の曲げ剛性度、引張降伏強さ、破断時伸び、およ
びア、イジツト衝撃強度(23℃、−、−1[]℃〕l
:J了れぞれ60DO1260,680、および12,
2.2.8でア’11、照射後ハソ、tL ソれ610
 (1,255,490、J、Sよび142.26であ
ツタ。また!1rI・1’mj(D n ハ1.46F
アリ、!Iへ前後のそれは13;1とほとんど劣化は認
めら2 れなかった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、1,2,4−トリクロロベンゼン溶液で測定した^
    1^3C−NMRの吸収スペクトルにおいてテトラメチ
    ルシランを基準として約20.2ppmに観測されるピ
    ークの強度がプロピレン単位のメチル基に帰属されるピ
    ークの強度の総和の0.5以上である実質的にシンジオ
    タクチック構造を有するポリプロピレンからなる耐放射
    線ポリプロピレン樹脂組成物。 2、前記ポリプロピレンが、0.8以上のシンジオタク
    チックペンタッド分率を有し、かつ20℃のn−ヘキサ
    ン可溶部分の含量が10wt.%以下のプロピレンホモ
    ポリマーである請求項1に記載の樹脂組成物。 3、リン系の酸化防止剤あるいはアミン系酸化防止剤を
    含有する請求項1記載のポリプロピレン樹脂組成物。 4、造核剤を含有する請求項1記載のポリプロピレン樹
    脂組成物。 5、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定し
    た重量平均分子量と数平均分子量の比が1〜4である請
    求項1記載のポリプロピレン樹脂組成物。
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