JPH03263824A - ウエハ処理ボート - Google Patents

ウエハ処理ボート

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Publication number
JPH03263824A
JPH03263824A JP6310690A JP6310690A JPH03263824A JP H03263824 A JPH03263824 A JP H03263824A JP 6310690 A JP6310690 A JP 6310690A JP 6310690 A JP6310690 A JP 6310690A JP H03263824 A JPH03263824 A JP H03263824A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
gas
gas introduction
wafers
wafer processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6310690A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirobumi Kitano
北野 博文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP6310690A priority Critical patent/JPH03263824A/ja
Publication of JPH03263824A publication Critical patent/JPH03263824A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体ウェハの製造プロセスで使用して好適
なウェハ処理ボートに関するものである。
〔従来の技術〕
従来、この種のウェハ処理ボートは第4図に示すように
構成されている。これを同図に基づいて説明すると、同
図において、符号1で示すものは一例に開口するガス導
入口2を有する石英管、3はこの石英管1内に設けられ
所定の間隔をもって並列する多数のウェハ4を保持する
保持体、5はこの保持体3が載置される脚体である。な
お、図中符号Aはウェハ処理用のガスが流れる方向を示
す。また、前記石英管1は、ボート挿抜時にカバー(図
示せず)によって開閉される。
このように構成されたウェハ処理ボートによるウェハ処
理は、予めウェハ4が保持された保持体3を石英管1内
に挿入した後、この石英管1内にウェハ処理用のガスを
ガス導入口2から導入することにより行う。
一方、ウェハ処理用のガスは、第4図に示すように石英
管1内を螺旋状に流れる。
ところで、この種のウェハ処理ボートにおいては、多数
のウェハ4を保持体3上に保持する場合にウェハ並列間
隔をできるだけ小さい寸法に設定する必要ある。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかるに、この種のウェハ処理ボートにおいては、ウェ
ハ処理用のガスを遮断するようにウエハ4を保持体3上
に保持する構造であるため、ウェハ4の並列間隔を小さ
い寸法に設定すると、相互に隣接する2つのウェハ4間
のガス流れが悪くなり、ウェハ処理時の拡散にばらつき
が発生していた。この結果、各ウェハの全面にガスによ
る処理が均一に施されず、ウェハ処理上の信頼性が低下
するという問題があった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、各ウ
ェハの全面に均一な処理を施すことができ、もってウェ
ハ処理上の信頼性を向上させることができるウェハ処理
ボートを提供するものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係るウェハ処理ボートは、所定の間隔をもって
並列する多数のウェハを保持する保持体を、ウェハの並
列方向に延在しかつ各々が互いに平行する2つのガス導
入管によって形威し、これら両ガス導入管にウェハの径
方向にガスが流出する流出口を設けたものである。
〔作 用] 本発明においては、ガス導入管内に導入されるウェハ処
理用のガスをウェハ面に沿って流出口から流出させるこ
とができる。
〔実施例〕
以下、本発明の構成等を図に示す実施例によって詳細に
説明する。
第1図および第2図は本発明に係るウェハ処理ボートを
示す斜視図、第3図は同じく本発明におけるウェハ処理
ボートの使用状態を示す断面図で、同図において第4図
と同一の部材については同一の符号を付し、詳細な説明
は省略する。同図において、符号11で示すものは所定
の間隔をもって水平方向に並列するウェハ4を保持する
保持体で、一方の開口部から他方の開口部に向かって漸
次波がる寸法をもつ第1の管体aと、この第1の管体a
に連設されガス注入管12の先端部がその内部に臨むラ
ッパ状の第2の管体すとからなるガス導入管13.14
によって形威されている。これら両ガス導入管13.1
4はウェハ並列方向に延在させかつ各々が互いに平行さ
せて前記石英管1内に前記脚体5を介して設けられてお
り、管壁にはウェハ4の径方向にガスが流出する流出口
1516が設けられている。なお、図中符号Bはウェハ
処理用のガスの流れを示す。
このように構成されたウェハ処理ボートにおいては、ウ
ェハ4の並列間隔を小さい寸法に設定しても、ガス導入
管13.14内に導入されるウェハ処理用のガスをウェ
ハ面に沿って流出口1516から流出させることができ
る。このとき、ガスは、第3図に示すように流れてウェ
ハ4の表裏両面を下方から上方に向かって拡散する。
したがって、本実施例においては、相互に隣接する2つ
のウェハ4間のガス流れが悪くならず、ウェハ処理時の
ばらつき拡散を防止することができ、各ウェハ4の全面
にガスによる均一な処理を施すことができる。
なお、本実施例においては、ガス導入管13゜14とガ
ス注入管12が別体である場合を示したが、本発明はこ
れに限定されず、一体に形威しても何等差し支えない。
因に、本発明のウェハ処理ボートによるウェハ処理は、
予めウェハ4が保持された保持体11を石英管1内に挿
入した後、ガス導入管13,1.4内にウェハ処理用の
ガスを導入することにより行つ。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、所定の間隔をもっ
て並列する多数のウェハを保持する保持体を、ウェハの
並列方向に延在しかつ各々が互いに平行する2つのガス
導入管によって形威し、これら両ガス導入管にウェハの
径方向にガスが流出する流出口を設けたので、ウェハの
並列間隔を小さい寸法に設定しても、ガス導入管内に導
入されるウェハ処理用のガスをウェハ面に沿って流出口
から流出させることができる。したがって、相互に隣接
する2つのウェハ間のガス流れが悪くならず、ウェハ処
理時のばらつき拡散を防止することができるから、各ウ
ェハの全面にガスによる均一な処理を施すことができ、
ウェハ処理上の信頼性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明に係るウェハ処理ボートを
示す斜視図、第3図は同しく本発明におけるウェハ処理
ボートの使用状態を示す断面図、第4図は従来のウェハ
処理ボートの使用状態を示す断面図である。 1・・・・石英管、4・・・・ウェハ、11・・・保持
体、12・・・・ガス注入管、13゜14・・・・ガス
導入管、15.16・・・・流出口。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 所定の間隔をもって並列する多数のウェハを保持する保
    持体を備えたウェハ処理ボートにおいて、前記保持体を
    、前記ウェハの並列方向に延在しかつ各々が互いに平行
    する2つのガス導入管によって形成し、これら両ガス導
    入管に前記ウェハの径方向にガスが流出する流出口を設
    けたことを特徴とするウェハ処理ボート。
JP6310690A 1990-03-14 1990-03-14 ウエハ処理ボート Pending JPH03263824A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6310690A JPH03263824A (ja) 1990-03-14 1990-03-14 ウエハ処理ボート

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6310690A JPH03263824A (ja) 1990-03-14 1990-03-14 ウエハ処理ボート

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Publication Number Publication Date
JPH03263824A true JPH03263824A (ja) 1991-11-25

Family

ID=13219712

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6310690A Pending JPH03263824A (ja) 1990-03-14 1990-03-14 ウエハ処理ボート

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JP (1) JPH03263824A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0997768A (ja) * 1995-09-28 1997-04-08 Nec Kyushu Ltd 縦型拡散炉
US6881295B2 (en) 2000-03-28 2005-04-19 Nec Electronics Corporation Air-tight vessel equipped with gas feeder uniformly supplying gaseous component around plural wafers
JP2015160747A (ja) * 2014-02-25 2015-09-07 ヤマハ株式会社 カーボンナノチューブの製造装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0997768A (ja) * 1995-09-28 1997-04-08 Nec Kyushu Ltd 縦型拡散炉
US6881295B2 (en) 2000-03-28 2005-04-19 Nec Electronics Corporation Air-tight vessel equipped with gas feeder uniformly supplying gaseous component around plural wafers
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