JPH03264178A - レーザマーカ用マスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、レーザマーカ用マスクに係り、単一のマスク
で印字対象物に、会社名や標章等の固定文字や図形と、
宣伝文や説明文等の可変文字とを同時に印字するために
好適なレーザマーカ用マスクに関する。

［従来の技術］ この種レーザマーカ用マスクに関連する従来技術として
、特開昭６０−１７４６７１号公報および特開昭６１−
１１１７９０号公報に記載の技術がある。

前記特開昭６０−１７４６７１号公報に記載の技術は、
第９図に示すように、印字文字の形状にレーザ光貫通孔
４１を設けたマスク４０を設置し、このマスク４ｏｈｅ
向かってレーザ光８を照射し、マスク４０に設けられた
レーザ光貫通孔４１を通過した光を結像レンズ６により
ＩＣ等の印字対象物７上に結像し、印字するようになっ
ている。

一方、前記特開昭６１−１１１７９０号公報に記載の技
術では、直線偏光のレーザビームの直線光路上に、複数
組のレーザ捺印装置を設置し、各レーザ捺印装置を、液
晶ライトバルブと偏光素子とを組み合わせた光路切換装
置と、前記偏光素子により偏光されるレーザビームの光
路上に配置されたマスクと、結像レンズとにより構成し
ている。そして、各レーザ捺印装置の液晶ライトバルブ
に直線偏光のレーザビームを照射し、液晶ライトバルブ
の透明導電性電極に数ボルトの電界を印加し、この電界
の有無により液晶ライトバルブでレーザビームをＳ偏光
またはＰ偏光に切り換え、偏光素子によりＳ偏光は二つ
の光路中の一方の光路に導き、Ｐ偏光は他方の光路に導
き、他方の光路に導かれたレーザビームを１組のレーザ
捺印装置のマスクに照射し、マスクを透過したレーザビ
ームを結像レンズにより印字対象物に集光し、印字する
。また、一方の光路に導かれたレーザビームを他の組の
レーザ捺印装置に出射し、この組のレーザ捺印装置の偏
光素子により二つの光路に導き、前述したところと同様
に印字対象物に集光し、印字するようになっている。

［発明が解決しようとする課題］ ところで、実際のマーキング内容を考察してみると、印
字対象物ごとに印字内容が変わる箇所以外に、会社名、
会社のマークや商標を含む標章等、固定文字や複雑な固
定図形を印字する箇所があることが分かった。つまり、
会社名や標章等の固定文字や図形と、宣伝文や説明文等
の可変文字とを印字対象へ同時に印字したい場合が多々
ある。

これに対して、前記特開昭６０−１７４６７１号公報に
記載の技術では、印字内容を変更する場合、その都度、
印字内容に従ってレーザ光貫通孔を設けたマスクに交換
しなければならず、印字内容が毎回変わるような印字に
は対応できない問題がある。

また、前記特開昭６１−１１１７９０号公報に記載の技
術では、印字内容の変更に、容易に対応できるものの、
次のような問題がある。

すなわち、会社名や標章等の固定文字や複雑な図形を含
んだ全ての印字内容を液晶マスクに表示させ、高品質で
マーキングするためには、液晶を高精度に、つまりドツ
トピッチを小さくし、ドツト数を増やさなければならな
い、このため、液晶マスクが大型化してしまい、大型化
した液晶表示部全面にレーザ光を照射する必要がある。

その結果、液晶マスクが高価になるばかりでなく、レー
ザ光を液晶表示部全面に照射するためのビームエキスパ
ンダも高価になり、したがって股備費が増大する問題が
ある。

本発明の目的は、会社名や標章等の固定文字や複雑な図
形と、宣伝文や説明文等の可変文字とを印字対象物へ同
時にかつ高品質で印字でき、しかも設備費を安価に抑え
得るレーザマーカ用マスクを提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 前記目的は、請求項１に記載のように、単一の基板を固
定部字部形成域と可変印字部形成域とに区画し、前記固
定部字部形成域には固定文字や図形を形成したレーザ光
貫通孔を設け、前記可変印字部形成域には可変文字を形
成する液晶を設けたことにより、遠戚される。

また、前記目的は請求項２に記載のように、第１のガラ
ス基板を固定部字部形成域と可変印字部形成域とに区画
し、前記固定部字部形成域には固定文字や図形を形成し
たレーザ光貫通孔を有するレーザ光反射膜を設け、前記
可変印字部形成域には透明電極を設けるとともに、前記
第１のガラス基板の可変印字部形成域に対向する位置に
、透明電極を設けた第２のガラス基板を配置し、前記第
１のガラス基板の可変印字部形成域と第２のガラス基板
との間に、配向膜と液晶とを装入したことによっても、
達成される。

さらに、前記目的は請求項３に記載のように、取り付け
枠に固定印字部を交換可能に取り付け。

同取り付け枠に可変印字部を固定し、前記固定印字部に
は固定文字や図形を形成したレーザ光貫通孔を設け、前
記可変印字部には可変文字を形成する液晶を設けたこと
によっても、達成される。

そして、前記目的は請求項４に記載のように、単一の基
板を固定部字部形成域と可変印字部形成域とに区画する
とともに、前記固定部字部形成域にはセグメント方式液
晶を設け、前記可変印字部形成域にはマトリクス方式液
晶を設けたことによっても、達成される。

［作用コ 請求項１記載の発明では、基板に区画された固定部字部
形成域に、レーザ光貫通孔により会社名や標章等の固定
文字や図形を形成する。一方、同じ基板に区画された可
変印字部形成域に液晶を設け、この液晶により、宣伝文
や説明文等の可変文字を形成するようにしている。

したがって、固定部字部形成域に設けられたレーザ光貫
通孔にレーザ光を照射することによって、とのレーザ光
貫通孔を透過したレーザ光により、印字対象物へ固定文
字や複雑な図形を高品質で印字することができる。また
、可変印字部形成域に設けられた液晶により、任意の文
字を形成し、これにレーザ光を照射し、これを透過した
レーザ光を印字対象物に集光することにより、印字対象
物へ任意の可変文字を高品質で印字することができる。

そして、前記固定文字や図形と、可変文字とを印字対象
物へ同時に印字することができる。

しかも、単一の基板を固定部字部形成域と可変印字部形
成域とに区画し、固定部字部形成域には固定文字や図形
を形成したレーザ光貫通孔を設け、可変印字部形成域に
は液晶を設けているので、マスク全体をコンパクトにま
とめることができ、かつ液晶表示部の面積を狭少に抑制
できるので、ビームエキスパンダ等の設備も小型のもの
で足りる。

また、請求項２記載の発明では、第１のガラス基板を固
定印字部形成域と可変印字部形成域とに区画している。

前記固定部字部形成域には、固定文字や図形を形成した
レーザ光貫通孔を有するレーザ光反射膜を設けている。

前記可変印字部形成域には、透明電極と、液晶と、配向
膜と、透明電極を有する第２のガラス基板とを設けてお
り、これらの部材により可変印字部を構成している。

したがって、この請求項２記載の発明も、前記請求項１
記載の発明と同様に作用する。

さらに、請求項３記載の発明では、単一の取り付け枠に
、固定印字部と可変印字部を取り付けており、前記固定
印字部は交換可能に取り付け、前記可変印字部は固定し
ている。また、前記固定印字部には固定文字や図形を形
成したレーザ光貫通孔を設け、前記可変印字部には可変
文字を形成する液晶を設けている。

したがって、互いに異なる固定文字や図形を形成した固
定印字部を複数個用意し、固定印字部を交換して使用す
ることにより、色々な固定文字や図形を印字することが
可能となる。

この請求項３記載の発明の他の作用は、前記請求項１記
載の発明と同様である。

さらにまた、請求項４記載の発明では、単一の基板を固
定部字部形成域と可変印字部形成域とに区画している。

前記固定印字部形成域には、セグメント方式液晶を設け
ており、前記可変印字部形成域には、マトリクス方式液
晶を設けている。

したがって、前記セグメント方式液晶により。

会社名や標章等の固定文字や図形を多様に形成すること
ができ、マトリクス方式液晶により、宣伝文や説明文等
の可変文字を形成することができ、これらの固定文字や
図形と、可変文字とを印字対象物へ同時に印字すること
ができる。

そして、この請求項４記載の発明においても、単一の基
板に固定文字や図形を形成するセグメント方式液晶と、
可変文字を形成するマトリクス方式液晶とを設けている
ので、マスク全体をコンパクトにまとめることができ、
かつ液晶表示部の面積を従来技術に比較して狭少に抑え
ることができるので、ビームエキスパンダ等の設備の小
型化を図ることが可能となる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を第１図から第６図を用いて説明
する。

第工図は本発明レーザマーカ用マスクの一実施例を示す
もので、使用状態の斜視図、第２図はレーザマーカの全
体を示す系統図である。

レーザマーカは、第２図に示すように、レーザ発振器１
より直線偏光されたレーザ光８が出射される。前記レー
ザ発振器ｌより出射されたレーザ光８は、ビームエキス
パンダを構成しているレンズ２，３により拡大され、マ
スク４に照射される。

前記マスク４を通過したレーザ光８は、ビームスプリッ
タ５、結像レンズ６を介して印字対象物７へ集光され、
このレーザ光８により印字される。

前記レーザマーカ用のマスク４のこの実施例のものは、
第１図に示すように、単一の基板９が固定印字部形成域
と、可変印字部形成域とに区画されている。

前記固定印字部形成域には、多数のレーザ光貫通孔１２
による固定印字部１０が設けられている。この固定印字
部１０は、前記レーザ光貫通孔１２を介して会社名や標
章等の固定文字や図形を形成し得るようになっている。

前記可変印字部形成域には、ドツトマトリクス方式液晶
１３による可変印字部１１が設けられている。

この可変印字部１１は、前記ドツトマトリクス方式液晶
１３により宣伝文や説明文等の可変文字を形威し得るよ
うになっている。

そして、前記マスク４に照射されたレーザ光８は、固定
印字部１０ではレーザ光貫通孔１２からのみ透過し、透
過した光は結像レンズ６を介して印字対象物７に集光さ
れる。

また、可変印字部１１に照射されたレーザ光８は、ドツ
トマトリクス方式液晶１３へ電圧を印加したドツトマト
リクス電極型圧印加分のみ透過し、その光はビームスプ
リッタ５を通過し、結像レンズ６を介して印字対象物７
へ集光され、印字される。

したがって、この実施例のマスク４によれば、単一の基
板９に設けられた固定印字部１０に、レーザ光貫通孔１
２により形成された固定文字や図形と、可変印字部１１
にドツトマトリクス方式液晶１３により形成される可変
文字とを、印字対象物７へ同時に印字することができる
。

次に、第３図は本発明レーザマーカ用マスクの他の実施
例を示す斜視図、第４図はこの実施例のマスクに用いる
第１のガラス基板を示す斜視図である。

この実施例のマスク１４は、第３図に示すように、第１
のガラス基板１５と、第２のガラス基板１９と、配向膜
２０と、液晶２１とを有して構成されている。

前記第１のガラス基板１５は、固定印字部形成域と、可
変印字部形成域とに区画されている。

前記固定印字部形成域には、レーザ光反射膜１６が設け
られており、前記可変印字部形成域には、透明電極１７
が設けられている。

前記レーザ光反射膜１６は、第１のガラス基板１５に例
えばアルミニウムを蒸着して設けられており、またレー
ザ光反射膜１６には、例えばエツチングにより会社名や
標章等の固定文字や図形が形成されていて、このレーザ
光反射膜１６により、固定文字や図形の固定印字部が構
成されている。

前記透明電極１７は、第１のガラス基板１５に例えば酸
化インジウムを蒸着して設けられ、また例えばエツチン
グによりＸ電極パターンまたはＹ電極パターンが施され
ている。

前記第２のガラス基板１９は、前記第１のガラス基板１
５における可変印字部形成域に対向させて配置されてい
る。この第２のガラス基板１９にも、透明電極（図示せ
ず）が設けられており、この透明電極には、例えばエツ
チングによりＸ電極パターンまたはＹ電極パターンのい
ずれか他方が施されている。

前記配向膜２０と液晶２１は、第１．第２のガラス基板
１５．１９間に装入されており、液晶２１はシール枠（
図示せず）によりシールされている。

前記第１のガラス基板１５に区画された可変印字部形成
域に設けられた透明電極１７と、配向膜２０と。

液晶２１と、透明電極を有する第２のガラス基板１９と
により、宣伝文や説明文等を印字するドットマトリクス
方式液晶の可変印字部が構成されている。

前記実施例のマスク１４では、レーザ光が第１のガラス
基板１５に設けられたレーザ光反射膜１６により形成さ
れた固定文字や図形１８を透過し、この固定文字または
図形１８を透過したレーザ光は第２図に示す結像レンズ
６を介して、同第２図に示す印字対象物７に集光される
。

また、第１のガラス基板１５に設けられた透明電極１７
および第２のガラス基板１９に設けられた透明電極（図
示せず）との間に電圧を印加すると、予め配向膜２０に
より形成されたパターンに従って液晶２１の配列組織が
変化し、レーザ光を通すドツトマトリクスの可変文字２
２が形成される。これにより、前記ドツトマトリクスの
可変文字２２を透過したレーザ光は、前記結像レンズ６
により印字対象物７に集光される。

したがって、この実施例のマスク１４を使用することに
より、第１のガラス基板１５に形成された固定文字また
は図形１８と、第１のガラス基板１５の透明電極１７と
第２のガラス基板１９の透明電極と配向膜２０と液晶２
１とにより形成される可変文字２２とを、印字対象物７
に同時に印字することができる。

ついで、第５図は本発明レー・ザマーカ用マスクの別の
実施例を示す斜視図である。

この実施例のマスク２３は、取り付け枠２４と、固定印
字部２５−１　、２５−２と、可変印字部２６とを備え
て構成されている。

前記固定印字部２５−１　、２５−２には、基板に互い
に異なる固定文字や図形がレーザ光貫通孔２７により形
成されている。この固定印字部２５−１．２５−２は、
前記取り付け枠２４に、交換可能に取り付けられている
。なお、この固定印字部は必要に応じて数種類の固定文
字または図形を形成したものを用意しておく。

前記可変印字部２６は、ドツトマトリクス方式液晶２８
により、任意に可変文字を形成し得るようになっている
。また、この可変印字部２６は前記取り付け枠２４に固
定されている。

そして、この実施例のマスク２３では例えば固定印字部
２５−１を他の固定印字部２５−２に、またはさらに他
の固定印字部に交換して用いることにより、第２図に示
す印字対象物７へ色々な固定文字や図形と、可変文字と
を印字することができる。

この実施例のマスク２３における他の構成９作用につい
ては、前記第１図に示すマスク４と同様である。

ついで、第６図〜第８図は本発明レーザマーカ用マスク
の異なる実施例を示すもので、第６図はマスク全体の斜
視図、第７図は固定印字部を構成しているセグメント方
式電極を示す図、第８図は可変印字部を構成しているド
ツトマトリクス方式電極を示す図である。

この実施例のマスク２９は、第６図に示すように、単一
のガラス基板３０が固定印字部形成域と可変印字部形成
域とに区画されている。

前記固定印字部形成域には、セグメント方式液晶３３に
よる固定印字部３１が設けられている。前記セグメント
方式液晶３３は、第７図に示すセグメント電極３５を有
している。

前記可変印字部形成域には、ドツトマトリクス方式液晶
３４による可変印字部３２が設けられている。

前記ドツトマトリクス方式液晶３４は、第８図に示すよ
うに、Ｘ電極３６とＹ電極３７とを組み合わせて形成さ
れている。

この実施例のマスク２９では、セグメント方式液晶３３
により、色々な形状の固定文字や図形を形成することが
できる。

一方、ドツトマトリクス方式液晶３４により、多様な可
変文字を形成することができる。

そして、第２図に示すレーザ光８で印字対象物７に、前
記セグメント方式液晶３３により形成された固定文字や
図形と、前記ドツトマトリクス方式液晶３４で形成され
た可変文字とを同時に印字することができる。

［発明の効果］ 以上説明した請求項１記載の発明によれば、単一の基板
を固定印字部形成域と可変印字部形成域とに区画し、前
記固定印字部形成域には固定文字や図形を形成したレー
ザ光貫通孔を設け、前記可変印字部形成域には可変文字
を形成する液晶を設けており、基板の固定印字部層成域
に設けられたレーザ光貫通孔を透過したレーザ光により
、印字対象物へ固定文字や複雑な図形を高品質で印字で
き、同じ基板の可変印字部に設けられた液晶により任意
の文字を形成し、これを透過したレーザ光により、印字
対象物へ任意の可変文字を高品質で印字でき、これら固
定文字や図形と、可変文字とを同時に印字できる効果が
ある。しかも、単一の基板を固定印字部層成域と可変印
字部形成域とに区画し、固定印字部形成域には固定文字
や図形を形成したレーザ光貫通孔を設け、可変印字部層
成域には液晶を設けているので、マスク全体をコンパク
トにまとめることができ、かつ液晶表示部の面積を狭少
に抑制できるので、ビームエキスパンダ等の設備も小型
化でき、したがって設備費を安価に抑え得る効果がある
６ また、請求項２記載の発明によれば、第１のガラス基板
を固定印字部層成域と可変印字部層成域とに区画し、前
記固定印字部層成域には固定文字や図形を形成したレー
ザ光貫通孔を有するレーザ光反射膜を設け、前記可変印
字部層成域には透明電極を設けるとともに、前記第１の
ガラス基板の可変印字部形成域に対向する位置に、透明
電極を設けた第２のガラス基板を配置し、前記第１のガ
ラス基板の可変印字部層成域と第２のガラス基板との間
に、配向膜と液晶とを装入しているので。

この発明においても、固定文字や図形と、可変文字とを
印字対象物へ同時にかつ高品質で印字でき、しかも設備
費を安価に抑え得る効果がある。

さらに、請求項３記載の発明によれば、取り付け枠に固
定印字部を交換可能に取り付け、同取り付け枠に可変印
字部を固定し、前記固定印字部には固定文字や図形を形
成したレーザ光貫通孔を設け、前記可変印字部には可変
文字を形成する液晶を設けているので、互いに異なる固
定文字や図形を形成した固定印字部を複数個用意し、固
定印字部を交換して使用することにより、色々な固定文
字や図形を印字することができる外、この固定文字や図
形と、可変文字とを印字対象物へ同時にかつ高品質で印
字でき、しかも設備費を安価に抑え得る効果がある。

そして、請求項４記載の発明によれば、単一の基板゛を
固定印字部層成域と可変印字部形成域とに区画するとと
もに、前記固定印字部層成域にはセグメント方式液晶を
設け、前記可変印字部層成域にはマトリクス方式液晶を
設けているので、セグメント方式液晶により、会社名や
標章等の固定文字や図形を多様に形成することができ、
マトリクス方式液晶により、宣伝文や説明文等の可変文
字を形成することができる外、固定文字や図形と、可変
文字とを印字対象物へ同時にかつ高品質で印字でき、し
かも設備費を安価に抑え得る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明レーザマーカ用マスクの一実施例を示す
もので、使用状態の斜視図、第２図はレーザマーカの全
体を示す系統図、第３図は本発明レーザマーカ用マスク
の他の実施例を示す斜視図。 第４図はこの実施例のマスクに用いる第１のガラス基板
を示す斜視図、第５図は本発明レーザマーカ用マスクの
別の実施例を示す斜視図、第６図〜第８図は本発明レー
ザマーカ用マスクの異なる実施例を示すもので、第６図
はマスク全体の斜視図、第７図は固定印字部を構成して
いるセグメント方式電極を示す図、第８図は可変印字部
を構成しているマトリクス方式電極を示す図、第９図は
従来技術の一例を示す図である。 １・・・レーザ発振器、２，３・・・レンズ、４・・・
マスク、５・・・ビームスプリッタ、６・・・結像レン
ズ、７・・・印字対象物、８・・・レーザ光、９・・・
基板、１０・・・固定印字部、１１・・・可変印字部、
１２・・・レーザ光貫通孔。 １３・・・ドツトマトリクス方式液晶、１４山マスク、
１５・・・第１のガラス基板、１６・・・レーザ光反射
膜、１７・・・透明電極、　１ｇ・・・固定文字や図形
、１９・・・第２のガラス基板、２０・・・配向膜、２
１・・・液晶、２２・・・ドツトマトリクスの可変文字
、２３・・・マスク、２４・・・取り付け枠、２５−１
　、２５−２・・・固定印字部、２６・・・可変印字部
、２７・・・レーザ光貫通孔、２８・・・ドツトマトリ
クス方式液晶、２９・・・マスク、　３０・・・ガラス
基板、３１・・・固定印字部、３２・・・可変印字部、
３３・・・セグメント方式液晶、３４・・・ドツトマト
リクス方式液晶、３５・・・セグメント 電極、 ３６・・・ドツトマトリクス方式電極のＸ電極、３７・
・・同Ｙ電極。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、単一の基板を固定印字部形成域と可変印字部形成域
   とに区画し、前記固定印字部形成域には固定文字や図形
   を形成したレーザ光貫通孔を設け、前記可変印字部形成
   域には可変文字を形成する液晶を設けたことを特徴とす
   るレーザマーカ用マスク。 ２、第１のガラス基板を固定印字部形成域と可変印字部
   形成域とに区画し、前記固定印字部形成域には固定文字
   や図形を形成したレーザ光貫通孔を有するレーザ光反射
   膜を設け、前記可変印字部形成域には透明電極を設ける
   とともに、前記第１のガラス基板の可変印字部形成域に
   対向する位置に、透明電極を設けた第２のガラス基板を
   配置し、前記第１のガラス基板の可変印字部形成域と第
   ２のガラス基板との間に、配向膜と液晶とを装入したこ
   とを特徴とするレーザマーカ用マスク。 ３、取り付け枠に固定印字部を交換可能に取り付け、同
   取り付け枠に可変印字部を固定し、前記固定印字部には
   固定文字や図形を形成したレーザ光貫通孔を設け、前記
   可変印字部には可変文字を形成する液晶を設けたことを
   特徴とするレーザマーカ用マスク。 ４、単一の基板を固定印字部形成域と可変印字部形成域
   とに区画するとともに、前記固定印字部形成域にはセグ
   メント方式液晶を設け、前記可変印字部形成域にはマト
   リクス方式液晶を設けたことを特徴とするレーザマーカ
   用マスク。