JPH0326418A - 電解仕上げ加工機の電解液処理装置 - Google Patents
電解仕上げ加工機の電解液処理装置Info
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- JPH0326418A JPH0326418A JP16177189A JP16177189A JPH0326418A JP H0326418 A JPH0326418 A JP H0326418A JP 16177189 A JP16177189 A JP 16177189A JP 16177189 A JP16177189 A JP 16177189A JP H0326418 A JPH0326418 A JP H0326418A
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Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[産業上の利用分野]
この発明は、ワークを電解作用によって仕上げる電解仕
上げ加工機の電解液処理装置に関する。 [従来の技術] 従来、例えば、ワークと、このワークの加工面に倣った
電極面を有する電極とを、加工槽内の電解液中で所定間
隙で対設させ、その極間に加エバルスを供給してワーク
を仕上げる電解仕上げ加工機の電解液処理装置としては
、例えば特開昭63−196321号公報に開示のもの
が知られている。 [発明が解決しようとする課題コ ところで、この電解液処理装置にあっては、ダーティタ
ンクに貯留されている汚染した電解液を、ダーティボン
ブで汲み上げ、フィルタ等を介してクリーンタンクに供
給するとともに、クリーンタンクの電解液を、クリーン
ボンブで汲み上げて加工槽に供給しているため5.例え
ばダーティボンブが故障したり、フィルタが目詰まりし
て、ダーティタンクからクリ・一ンタンクに供給きれる
電M液の流飲が低下jノたり、あるいはクリー・ンタン
クから加工槽へ供給きれる電解液の流量が変化Iノで、
流潰バランスが崩れノこ場合等、ダー・テイタンクある
いはクリーンタンクから電解液が該タンク外に溢れ、加
工が中断ずる辷いう問題点があった。また、ダーティタ
ンクとクリーンタンクのそれぞれに液面検出器を設ける
必嬰がある等、制御装置が襠雑ζこなる2ごいう間題点
があった。 そこで、この発明の目的は、七述の問題点を解決1ノ、
,加工の中断を極力少なくするhtもに、制御装置のW
格化等を図るこ辷がで含る電解仕上げ加工機の電解液処
理装置を実現するにある。 [課題を解決するための手段] この口的な達成するために、この出願の発明は、ワーク
ヒ電極ヒを、加工槽内の電解液中で所定間隙で対設きせ
、その極間に加エバルスを供給(ノてワークを仕上げ加
工するものにおいて、前記加エ槽の電解液をタンクの第
1供給口から該タンクに供給する第l流路だ、前記タン
クの電解液を第1汲Jニロから汲み上げて濾過装置ぞ濾
過し、第2供給目から再び前記タンクに供給する第2流
路と、前記タンクの電解液を第2汲上目から汲み上げて
前記加工槽に供給する第3流路ど、前記タンク内を仕切
板で仕切ることによって、該タンク肉に形成きれた連続
した細長い第/L流諮Lを具備し、前記第1供給oh第
1汲上口とを前記第4流路の一端側に配設し、前記第2
供給口辷第2汲上口とを他端側に配設
上げ加工機の電解液処理装置に関する。 [従来の技術] 従来、例えば、ワークと、このワークの加工面に倣った
電極面を有する電極とを、加工槽内の電解液中で所定間
隙で対設させ、その極間に加エバルスを供給してワーク
を仕上げる電解仕上げ加工機の電解液処理装置としては
、例えば特開昭63−196321号公報に開示のもの
が知られている。 [発明が解決しようとする課題コ ところで、この電解液処理装置にあっては、ダーティタ
ンクに貯留されている汚染した電解液を、ダーティボン
ブで汲み上げ、フィルタ等を介してクリーンタンクに供
給するとともに、クリーンタンクの電解液を、クリーン
ボンブで汲み上げて加工槽に供給しているため5.例え
ばダーティボンブが故障したり、フィルタが目詰まりし
て、ダーティタンクからクリ・一ンタンクに供給きれる
電M液の流飲が低下jノたり、あるいはクリー・ンタン
クから加工槽へ供給きれる電解液の流量が変化Iノで、
流潰バランスが崩れノこ場合等、ダー・テイタンクある
いはクリーンタンクから電解液が該タンク外に溢れ、加
工が中断ずる辷いう問題点があった。また、ダーティタ
ンクとクリーンタンクのそれぞれに液面検出器を設ける
必嬰がある等、制御装置が襠雑ζこなる2ごいう間題点
があった。 そこで、この発明の目的は、七述の問題点を解決1ノ、
,加工の中断を極力少なくするhtもに、制御装置のW
格化等を図るこ辷がで含る電解仕上げ加工機の電解液処
理装置を実現するにある。 [課題を解決するための手段] この口的な達成するために、この出願の発明は、ワーク
ヒ電極ヒを、加工槽内の電解液中で所定間隙で対設きせ
、その極間に加エバルスを供給(ノてワークを仕上げ加
工するものにおいて、前記加エ槽の電解液をタンクの第
1供給口から該タンクに供給する第l流路だ、前記タン
クの電解液を第1汲Jニロから汲み上げて濾過装置ぞ濾
過し、第2供給目から再び前記タンクに供給する第2流
路と、前記タンクの電解液を第2汲上目から汲み上げて
前記加工槽に供給する第3流路ど、前記タンク内を仕切
板で仕切ることによって、該タンク肉に形成きれた連続
した細長い第/L流諮Lを具備し、前記第1供給oh第
1汲上口とを前記第4流路の一端側に配設し、前記第2
供給口辷第2汲上口とを他端側に配設
【ノたことを特徴
とする。 [作用] この発明の構成によれば、加工槽内の汚染した電解液を
、第1流路にまって、仕切板によりタンク内に設けた連
続した細長い第/4流路の一端側に供給するヒともに、
その一端側から第2流路によって電解液を汲み上げてフ
ィルタ等の濾過8置ガ1t過し、前記第4流路の他端側
に供給する。そして、この他端側から清浄な電解液を第
3流路によって加工槽に供給する。この時、細長(形成
された第4。流路ヒ、該流路の一端側に近接配設した第
1供給口と第1汲正ロ、及び、その他端側に近接配置し
た第2供給口と第2汲上口とにより、第d流路の一端側
に汚染した電解液を集め、その他端側に清浄な電解液を
集めて、互いに混合しにくくすることにより、清浄な電
解液は加工槽へ、汚染した電解液は濾過H置へと効率よ
く処理する。 [実施例] 以下、図面を参照してこの発明の実施例を詳細かつ具体
的に説明する. 第1、2図はこの発明に係る電解液処理装置の一実施例
を示す. 電解液処理装置lは、加工槽2内の汚染した電解液を第
1供給口3からタンク4に供給する第1流路6と、タン
ク4の電解液を第1汲上口6からボンブ7によって汲み
上げ、フィルタ8で濾過した後に、第2供給口9から再
びタンク4に供給する第2流″#Al1m、タンク福の
電解液を第2汲上口Hからボンブl2によって汲み上げ
、加工槽2に供給する第3流路13等からなる。 前記タンク4の内部には、複数枚、例えば2枚の仕切板
l4を九十九折に配置するこヒによって、連続した細長
い第4流路15を形成する。そして、この第4流路l5
の一端側15aに、前記第1供給口3と第1汲上口6ヒ
を近接配置するとともに、その他端側15bに第2供給
口9ヒ第2汲上口11とを近接配置する。この供給口3
、9及び汲上06、1lは、第2図に示すようにタンク
橿の天板l9に配設してもよいし、タンク硅の側板に配
設するこヒもできる。 なお、図中符号16は放電加工等により所定形状に加工
されたワーク、17ほこのワークl6を放電加工する際
に使用した′WL極、18は仕」二げ加工中にワーク1
6と電極17との間隙にタンク社からの清浄な電解液を
噴出するノズルである。 次に、この発明の作用について説明する.まず、ワーク
16と電極17&を静止した電解液中で所定間隙で対設
きせ、図示しない電源装置から例えば単一のパルス電流
を供給し、このパルス電流がオフしたら電極l7を上昇
させるとともに、前記ノズル18から拡大した間隙に清
浄な電解液を噴出し、パルス電流の供給により溶出した
加工屑等を間隙内から排除する.そして、電極17を下
降させて元の位置(初期位置)に復帰させ、次のパルス
電流を供給するという工程を繰り返す.この加工中にお
いて、加工槽2の加工屑等を含んだ汚染した電解液は、
第1流路5を介して、第1供給口3からタンク4の第4
流路l5の一端側l5aに供給され、この一端側15a
に供給された電解液が、第1汲上口6から第2流路lO
のボンブ7によって汲み上げられ、フィルタ8で濾過さ
れ、第2供給口9から第4流路の他端側tsbに供給さ
れる.そして、この他端側15bの清浄な電解液が、第
3流路13のボンブl2によって汲み上げられ、前記ノ
ズル18等から加工槽2に供給される。 この時、タンク4内においては、第1及び第3流路5、
13の流量Wlと第2・流路の流量W2の設定如何によ
り、例えば、Wl<W2の場合は、第1図の矢印に示す
如く、第4流路15に、その他端側15bから一端側1
5aに向かう電解液の流れが、また、Wl>W2の場合
は、その逆方向の流れが生成され、第4流路15内での
電解液の滞留を防止する.このようにこの実施例にあっ
ては、加工槽2の汚染した電解液を、第1流路5により
タンク4内に設けた第4流路15の一端側15aに供給
し、これを第2流路10によって汲み上げて濾過し、第
4流路の他端側15bに供給するとともに、この電解液
を第3流路13により加工槽2に供給するため、例えば
、ボンブ7、12等の故障、フィルタ80目詰まり、あ
るいは各流路5、10, 13への電解液の結晶付着等
の何らかの異常状態により、各流路5、10、13の流
量が当初設定した流量に対して変化し、そのバランスが
崩れた場合でも、タンク4の容量を適宜に設定すること
により、該タンク4からの電解液の溢れによる加工中断
を防止し得る。 また、第4流路l5を、2枚の仕切板14を九十九折に
配置して、連続した細長い流路に形成したこと等により
、正常時には常に清浄な電解液を、また、前記した流量
バランスの崩れ等による異常時にも、仕切板l4がない
場合に比べより清浄な電解液を第3流路13により加工
槽2に供給することができる. 即ち、前述したように、加工中において、タンク4内の
第4流路15には電解液の流れが生成され易く、例えば
Wl<W2の場合は、第4流va15の他端側15bか
ら一端側15aに向かう流れが生成され、これにより、
汚染した電解液の他端側tsbへの流入を阻止しつつ、
第4流Pil5の他端11J15bを常に清浄な電解液
で満たすことができ、加工槽2に供給する電解液を清浄
な電解液とすることができる.まTh,Wl>W2の場
合は、加工槽2に供給される流量Wlo内、流量W2は
第2流路lOからの清浄な電解液で、残りが第4流路の
一端側15aから他端側15bに向かって流れてくる電
解液となるが、第3流路13の汲上口11を第2流路1
0の供給口9に近接配置しているため、第3流路13が
清浄な電解液を優先して汲み上げ、加工槽2に供給され
る電解液の汚染度を最も低くすることができる。したが
って、各流路5、10、13の流量バランスが前記した
ように崩れても、加工槽2に供給される電解液をより清
浄な電解液とすることができる。なお、Wl=W2の場
合においても、Wl>W2以上の清浄性を維持し得るこ
とは、上述の説明からも明らかである. また、上記実施例にあっては、第4流路l5内での電解
液の滞留を少なくすることができて、第4流路l5、即
ちタンク4内に加工屑等が沈殿堆積することがなくなる
とともに、第4流路】5の一端側15aに第1供給口3
と第1汲上口6とを近接配置して、一端側15a近傍を
汚染した電解液で溝kし、この電解液をフィルタ8に供
給するため、加工屑を効率よく回収してタンク4を清浄
に保つことができる.さらに、タンク4が従来のダーテ
ィタンクとクリーンタンクの機能を有するため、タンク
4に配設する液面検出器の個数減少及び制御装置等の構
成を簡略化することができる。 第3及び第4図はこの発明の他の実施例を示すタンク4
の平面図である。第3図は、仕切板21を連続的に配設
することにより、第4流路15の一端側15aが、タン
ク4の中央部に位置きせるようにしたものであり、第4
図は、奇数枚の仕切板22を九十九折に配置し、第4流
路15の一端側15aと他端側15bを、タンク4の同
一側面(lIllに位置させるようにしたもの甲ある。 これらの実施例においても,,上記L同様の作用効果が
得られるこ辷は明らかである。 なお、この発明における仕切板の配置及び形状は、生記
各実施例に何ら限定ざれるものではなく、タンク等の形
状に応じて、タンク内に連続した細長い流路が形成され
る適宜の配置及び形状を選択で送るものである.きらに
、第3図に点線で示すように、第4流路の適宜位置ζ・
:濾過材23を配設して、汚染した電解液と清浄な電解
液の混合を防止することもてきる。 [発明の効果] この発明は上述のヒおりに構成したので、次に記載する
効果を奏する。 ■ ボンブの故障、フィルタの目詰まり、流路への電解
液結晶の付着等により、各流路の流量が変化しそのバラ
ンスが崩れでも、電解液がタンクから溢れることがな《
、加工の中断等を防止することができる。 ■ タンク内の少なくヒ屯第3流路の汲生目近傍の清浄
な電解液ヒ、第2流路の汲上口近傍の汚染した電解液と
の混合を防ぐこヒができ、清浄な電解液は第3流路によ
り加工槽へ、また、汚染した電解液は第2流路の濾過装
置ヘヒ、電解液を効率良く処理できる。 ■ タンク内に電解液の流れを生成させることが甲き、
タンク底面への加工屑等の沈殿堆積を防止し、タンク内
の清浄性を保っこ辷ができる.■ 従来のダーティタン
ク辷クリーンタンクの機能を実質的に一つのタンクで行
うことができ、液面検出器の個数減少、制御装置のw略
化が図れる.
とする。 [作用] この発明の構成によれば、加工槽内の汚染した電解液を
、第1流路にまって、仕切板によりタンク内に設けた連
続した細長い第/4流路の一端側に供給するヒともに、
その一端側から第2流路によって電解液を汲み上げてフ
ィルタ等の濾過8置ガ1t過し、前記第4流路の他端側
に供給する。そして、この他端側から清浄な電解液を第
3流路によって加工槽に供給する。この時、細長(形成
された第4。流路ヒ、該流路の一端側に近接配設した第
1供給口と第1汲正ロ、及び、その他端側に近接配置し
た第2供給口と第2汲上口とにより、第d流路の一端側
に汚染した電解液を集め、その他端側に清浄な電解液を
集めて、互いに混合しにくくすることにより、清浄な電
解液は加工槽へ、汚染した電解液は濾過H置へと効率よ
く処理する。 [実施例] 以下、図面を参照してこの発明の実施例を詳細かつ具体
的に説明する. 第1、2図はこの発明に係る電解液処理装置の一実施例
を示す. 電解液処理装置lは、加工槽2内の汚染した電解液を第
1供給口3からタンク4に供給する第1流路6と、タン
ク4の電解液を第1汲上口6からボンブ7によって汲み
上げ、フィルタ8で濾過した後に、第2供給口9から再
びタンク4に供給する第2流″#Al1m、タンク福の
電解液を第2汲上口Hからボンブl2によって汲み上げ
、加工槽2に供給する第3流路13等からなる。 前記タンク4の内部には、複数枚、例えば2枚の仕切板
l4を九十九折に配置するこヒによって、連続した細長
い第4流路15を形成する。そして、この第4流路l5
の一端側15aに、前記第1供給口3と第1汲上口6ヒ
を近接配置するとともに、その他端側15bに第2供給
口9ヒ第2汲上口11とを近接配置する。この供給口3
、9及び汲上06、1lは、第2図に示すようにタンク
橿の天板l9に配設してもよいし、タンク硅の側板に配
設するこヒもできる。 なお、図中符号16は放電加工等により所定形状に加工
されたワーク、17ほこのワークl6を放電加工する際
に使用した′WL極、18は仕」二げ加工中にワーク1
6と電極17との間隙にタンク社からの清浄な電解液を
噴出するノズルである。 次に、この発明の作用について説明する.まず、ワーク
16と電極17&を静止した電解液中で所定間隙で対設
きせ、図示しない電源装置から例えば単一のパルス電流
を供給し、このパルス電流がオフしたら電極l7を上昇
させるとともに、前記ノズル18から拡大した間隙に清
浄な電解液を噴出し、パルス電流の供給により溶出した
加工屑等を間隙内から排除する.そして、電極17を下
降させて元の位置(初期位置)に復帰させ、次のパルス
電流を供給するという工程を繰り返す.この加工中にお
いて、加工槽2の加工屑等を含んだ汚染した電解液は、
第1流路5を介して、第1供給口3からタンク4の第4
流路l5の一端側l5aに供給され、この一端側15a
に供給された電解液が、第1汲上口6から第2流路lO
のボンブ7によって汲み上げられ、フィルタ8で濾過さ
れ、第2供給口9から第4流路の他端側tsbに供給さ
れる.そして、この他端側15bの清浄な電解液が、第
3流路13のボンブl2によって汲み上げられ、前記ノ
ズル18等から加工槽2に供給される。 この時、タンク4内においては、第1及び第3流路5、
13の流量Wlと第2・流路の流量W2の設定如何によ
り、例えば、Wl<W2の場合は、第1図の矢印に示す
如く、第4流路15に、その他端側15bから一端側1
5aに向かう電解液の流れが、また、Wl>W2の場合
は、その逆方向の流れが生成され、第4流路15内での
電解液の滞留を防止する.このようにこの実施例にあっ
ては、加工槽2の汚染した電解液を、第1流路5により
タンク4内に設けた第4流路15の一端側15aに供給
し、これを第2流路10によって汲み上げて濾過し、第
4流路の他端側15bに供給するとともに、この電解液
を第3流路13により加工槽2に供給するため、例えば
、ボンブ7、12等の故障、フィルタ80目詰まり、あ
るいは各流路5、10, 13への電解液の結晶付着等
の何らかの異常状態により、各流路5、10、13の流
量が当初設定した流量に対して変化し、そのバランスが
崩れた場合でも、タンク4の容量を適宜に設定すること
により、該タンク4からの電解液の溢れによる加工中断
を防止し得る。 また、第4流路l5を、2枚の仕切板14を九十九折に
配置して、連続した細長い流路に形成したこと等により
、正常時には常に清浄な電解液を、また、前記した流量
バランスの崩れ等による異常時にも、仕切板l4がない
場合に比べより清浄な電解液を第3流路13により加工
槽2に供給することができる. 即ち、前述したように、加工中において、タンク4内の
第4流路15には電解液の流れが生成され易く、例えば
Wl<W2の場合は、第4流va15の他端側15bか
ら一端側15aに向かう流れが生成され、これにより、
汚染した電解液の他端側tsbへの流入を阻止しつつ、
第4流Pil5の他端11J15bを常に清浄な電解液
で満たすことができ、加工槽2に供給する電解液を清浄
な電解液とすることができる.まTh,Wl>W2の場
合は、加工槽2に供給される流量Wlo内、流量W2は
第2流路lOからの清浄な電解液で、残りが第4流路の
一端側15aから他端側15bに向かって流れてくる電
解液となるが、第3流路13の汲上口11を第2流路1
0の供給口9に近接配置しているため、第3流路13が
清浄な電解液を優先して汲み上げ、加工槽2に供給され
る電解液の汚染度を最も低くすることができる。したが
って、各流路5、10、13の流量バランスが前記した
ように崩れても、加工槽2に供給される電解液をより清
浄な電解液とすることができる。なお、Wl=W2の場
合においても、Wl>W2以上の清浄性を維持し得るこ
とは、上述の説明からも明らかである. また、上記実施例にあっては、第4流路l5内での電解
液の滞留を少なくすることができて、第4流路l5、即
ちタンク4内に加工屑等が沈殿堆積することがなくなる
とともに、第4流路】5の一端側15aに第1供給口3
と第1汲上口6とを近接配置して、一端側15a近傍を
汚染した電解液で溝kし、この電解液をフィルタ8に供
給するため、加工屑を効率よく回収してタンク4を清浄
に保つことができる.さらに、タンク4が従来のダーテ
ィタンクとクリーンタンクの機能を有するため、タンク
4に配設する液面検出器の個数減少及び制御装置等の構
成を簡略化することができる。 第3及び第4図はこの発明の他の実施例を示すタンク4
の平面図である。第3図は、仕切板21を連続的に配設
することにより、第4流路15の一端側15aが、タン
ク4の中央部に位置きせるようにしたものであり、第4
図は、奇数枚の仕切板22を九十九折に配置し、第4流
路15の一端側15aと他端側15bを、タンク4の同
一側面(lIllに位置させるようにしたもの甲ある。 これらの実施例においても,,上記L同様の作用効果が
得られるこ辷は明らかである。 なお、この発明における仕切板の配置及び形状は、生記
各実施例に何ら限定ざれるものではなく、タンク等の形
状に応じて、タンク内に連続した細長い流路が形成され
る適宜の配置及び形状を選択で送るものである.きらに
、第3図に点線で示すように、第4流路の適宜位置ζ・
:濾過材23を配設して、汚染した電解液と清浄な電解
液の混合を防止することもてきる。 [発明の効果] この発明は上述のヒおりに構成したので、次に記載する
効果を奏する。 ■ ボンブの故障、フィルタの目詰まり、流路への電解
液結晶の付着等により、各流路の流量が変化しそのバラ
ンスが崩れでも、電解液がタンクから溢れることがな《
、加工の中断等を防止することができる。 ■ タンク内の少なくヒ屯第3流路の汲生目近傍の清浄
な電解液ヒ、第2流路の汲上口近傍の汚染した電解液と
の混合を防ぐこヒができ、清浄な電解液は第3流路によ
り加工槽へ、また、汚染した電解液は第2流路の濾過装
置ヘヒ、電解液を効率良く処理できる。 ■ タンク内に電解液の流れを生成させることが甲き、
タンク底面への加工屑等の沈殿堆積を防止し、タンク内
の清浄性を保っこ辷ができる.■ 従来のダーティタン
ク辷クリーンタンクの機能を実質的に一つのタンクで行
うことができ、液面検出器の個数減少、制御装置のw略
化が図れる.
第1図は、この発明に係る電解液処理装置の概略構成図
、第2図は同タンクの一部切欠斜視図、第3図はタンク
の他の実施例を示す平面図、第4図はタンクのさらに他
の実施例を示す平面図である。 1・・・電解液処理装置、2・・・加工槽、3・・・第
1供給日、4・・・タンク、5・・・第1流路、6・・
・第1汲上口、8・・・フィルタ,9・・・第2供給口
、10・・・第2流路、11・・・第2汲上口、13・
・・第3流路、14、21 22−−−仕切板、15−
−−第4流路、15a・・・一端側、15b・・・他端
側、l6・・・ワーク、l7・・・電極。 第1図
、第2図は同タンクの一部切欠斜視図、第3図はタンク
の他の実施例を示す平面図、第4図はタンクのさらに他
の実施例を示す平面図である。 1・・・電解液処理装置、2・・・加工槽、3・・・第
1供給日、4・・・タンク、5・・・第1流路、6・・
・第1汲上口、8・・・フィルタ,9・・・第2供給口
、10・・・第2流路、11・・・第2汲上口、13・
・・第3流路、14、21 22−−−仕切板、15−
−−第4流路、15a・・・一端側、15b・・・他端
側、l6・・・ワーク、l7・・・電極。 第1図
Claims (1)
- (1)イ、ワークと電極とを、加工槽内の電解液中で所
定間隙で対設させ、その極間に加工パルスを供給してワ
ークを仕上げ加工するものにおいて、 ロ、前記加工槽の電解液をタンクの第1供給口から該タ
ンクに供給する第1流路と、 ハ、前記タンクの電解液を第1汲上口から汲み上げて濾
過装置で濾過し、第2供給口から再び前記タンクに供給
する第2流路と、 ニ、前記タンクの電解液を第2汲上口から汲み上げて前
記加工槽に供給する第3流路と、 ホ、前記タンク内を仕切板で仕切ることによって、該タ
ンク内に形成された連続した細長い第4流路とを具備し
、 ヘ、前記第1供給口と第1汲上口とを前記第4流路の一
端側に配設し、前記第2供給口と第2汲上口とを第4流
路の他端側に配設したことを特徴とする、 電解仕上げ加工機の電解液処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16177189A JPH0326418A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 電解仕上げ加工機の電解液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16177189A JPH0326418A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 電解仕上げ加工機の電解液処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0326418A true JPH0326418A (ja) | 1991-02-05 |
Family
ID=15741590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16177189A Pending JPH0326418A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 電解仕上げ加工機の電解液処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0326418A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104741712A (zh) * | 2015-04-01 | 2015-07-01 | 山东大学 | 一种球形阴极数控电解加工机床 |
| CN107953006A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-04-24 | 哈尔滨理工大学 | 一种电火花线新型工作液箱 |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP16177189A patent/JPH0326418A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104741712A (zh) * | 2015-04-01 | 2015-07-01 | 山东大学 | 一种球形阴极数控电解加工机床 |
| CN107953006A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-04-24 | 哈尔滨理工大学 | 一种电火花线新型工作液箱 |
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