JPH03264657A - プラズマ溶射用負圧式マスキング装置 - Google Patents

プラズマ溶射用負圧式マスキング装置

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Publication number
JPH03264657A
JPH03264657A JP2061766A JP6176690A JPH03264657A JP H03264657 A JPH03264657 A JP H03264657A JP 2061766 A JP2061766 A JP 2061766A JP 6176690 A JP6176690 A JP 6176690A JP H03264657 A JPH03264657 A JP H03264657A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
negative pressure
plasma spraying
gas suction
masking element
Prior art date
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Pending
Application number
JP2061766A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Ono
大野 吉弘
Yasuo Kaga
加賀 保男
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、固体電解質燃料電池におけるプラズマ溶射
用負圧式マスキング装置に関するもので、特にプラズマ
溶射装置の溶射部分における粉末の回折・飛散を防ぐ機
構を備えた装置に関するものである。
[従来の技術1 プラズマ溶射法において、減圧溶射法は、溶射を受ける
母材と装置を減圧容器内に収容し、より緻密なコーテイ
ング膜を得る方法で、近年開発されたものである。
固体電解質燃料電池の電解質膜は主にイツトリア安定化
ジルコニア粉末を、直流アークプラズマ中で溶融して製
作する。
従来のプラズマ溶射法は、大気中あるいは特殊ガス中で
実施されていた。この装置において、1本のセラミック
支持管外周上に固体電解質燃料電池構成要素(電極膜、
電解質膜)、燃料電池素子を電気的に接続するインター
コネクタ(■・C)を製作する。
このようにして、製作される固体電解質燃料電池の構成
は第5図に示すようになっている。この図において、1
は中空円筒のセラミック支持管で、その外周面上に燃料
電極2、固体電解質3、空気電極4が形成される。なお
、5は電流すド、10は固体電解質燃料電池全体を示し
、Gaは前記空気電極4間の間隙を示す。
この構成に於て重要な点の一つは図に示す間隙Gaを確
保することである。
従来のプラズマ溶射法では、溶射銃40とセラミック支
持管1の間に第6図、第7図に示すようにスリット41
を設けた遮蔽板42を置いて、これを軸方向にずらすこ
とによって、第5図の構造の固体電解質燃料電池10を
作成している。なお、第7図の6は前述した燃料電極2
.固体電解質3.空気電極4を総称して示す膜である。
[発明が解決しようとする課題] しかし、従来のスリット法では、溶射銃40からセラミ
ック支持管1に吹き付けられる溶融粉末がスリット41
を通り抜けた後、回折し、第5図に示す間隙Ga、Gb
を被覆してしまうという重大な問題を有していた。
また、減圧溶射法では、溶射に使用するアークプラズマ
ジェットが拡大するため、溶融粉末はこのジェット中で
流れ方向に対して拡散し、上記の回折現象は一層顕著に
なるという問題点があった。
この発明は、従来のプラズマ溶射法では避けられない上
記の問題を解決したプラズマ溶射用負圧式マスキング装
置を提供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段] この発明に係る請求項 (1)に記載の発明は、内部に
ガス吸引路を持ち、内面に沿ってガス吸込口またはガス
吸込溝を有する半円形、馬蹄形あるいは矩形のガスマス
キング要素と、このガスマスキング要素のガス通路に連
通し負圧を供給する負圧ガス供給機構とからなるもので
ある。
また、請求項 (2)に記載の発明はガスマスキング要
素に整流風機構を備えたものである。
[作用1 この発明の請求項(1)記載の発明においては、ガス吸
引機構から供給される負圧が、セラミック支持管に溶射
され回折しようとする粉末をガスマスキング要素から吸
い込み、これにより溶射によって形成された膜の両側に
おける拡散が防止され、明瞭な境界が形成される。
また、請求項 (2)に記載の発明においては、整流風
機構によりプラズマガスの流れが整えられる。
[実施例1 第1図はこの発明の一実施例を示す斜視図で、1はセラ
ミック支持管、11a、Ilb、11c、11d(以下
、区別する必要のないときは単に11を用いる。他の符
号についても同じとする。)はそれぞれガスマスキング
要素を示すもので、中空耐熱構造材より製作される。こ
れらは、ガスマニホールド13に連結された負圧供給支
持体+2a、12b、12c、12dによってそれぞれ
支持され、ここから負圧供給を受ける。また、14は前
記セラミック支持管1の支持体、15は回転軸である。
16は微調整装置で、調整ねじ16aを回動することで
軸方向に移動できるもので、これにより所要の長さの成
膜を形成できる。なお、17は移動用レール、18はガ
ス供給口、19は基台である。
第2図(a)、(b)、(c)は第1図のガスマスキン
グ要素11の各種実施例の詳細を示す斜視図である。ガ
スマスキング要素11の内部は第2図(a)のようにガ
ス通路21が形成され、ガス吸込口22をその内面に沿
って2列に設けである。
あるいは、第2図(b)のようにガス吸込溝23を内面
に沿って2列に設けてもよい。
第2図(C)は負圧供給支持体12a  を下部に設け
た例である。負圧供給支持体12aから供給された負圧
は、このガスマスキング要素11を流れるガスにより冷
却すると共にガス吸込口22、あるいは、ガス吸込溝2
3から粉末を吸い込み、粉末の回折を防止する。ガスマ
スキング要素11の開口部24の広さは、セラミック支
持管1の外径に応じた大きさとすることができる。
なお、上記の各実施例ではガス吸込口22、ガス吸込溝
23を2列に設けたが、これは1列でも2列でもよい。
第3図は第2図(a)の実施例の断面略図で、ガス吸込
口22の外側に整流風機構としての整流板25を設けた
ものである。
このように、第2図(a)、(b)、(c)に示したガ
スマスキング要素11により、1つには、溶射微粒子の
流れが流れ方向に壁に沿って整流され、拡散が低下する
。さらに、負圧供給により拡散しようとする溶射微粒子
が吸い込まれ、拡散が防止される。また、ガスマスキン
グ要素11は内部にガスを通すことによって冷却され、
変形、破壊から防止される。このような効果により、第
4図に示すように境界の明瞭な膜31が形成でき、膜3
1と膜31との間隔Gaも0.5mmと1桁精度を向上
することができる。
なお、ガスマスキング要素11は第2図(a)〜(c)
に示す馬蹄形の他、半円形、矩形あるいはこれに近似し
た形でもよい。
[発明の効果1 以上説明したように、請求項 (11に記載の発明は、
内部にガス吸引路を持ち、内面に沿ってガス吸込口また
はガス吸込溝を有する半円形、馬蹄形あるいは矩形のガ
スマスキング要素と、このガスマスキング要素のガス通
路に連通し負圧を供給する負圧ガス供給機構とからなる
ので、隣同士の膜間隔が小さく形成されるため、セラミ
ック支持管上製作できる固体電解質燃料電池の数を増す
ことができ、セラミック支持管の表面の使用率を高める
ことができる。
また固体電解質燃料電池素子を直列接続する部分が短く
てすみ、発電電力をより多(得ることができる。
さらに、この接続部分からのガスの相互拡散を減らすこ
とができ、燃料の利用率を向上させるこたができ、また
、燃料電池スタックの連続製作が可能となり、生産性が
大幅に向上する。
また、請求項(2)に記載の発明は、整流風機構により
プラズマガスの流れが整えられるため精度の高い成膜を
行うことができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す斜視図、第2図(a
)、(b)、(c)はいずれも第1図のガスマスキング
要素の概略の形状を示す斜視図、第3図は、第2図(a
)のガス吸込口に整流板を設けた場合の正面図、第4図
はこの発明の溶射用ガスマスキング装置によって形成さ
れた膜の形状を示す説明図、第5図は固体電解質燃料電
池の概略を示す側断面図、第6図は従来のスリット方式
による電池スタック製作手段の概略を示す斜視図、第7
図は第6図のスリット方式により形成された膜の形状を
示す部分断面図である。 図中、1はセラミック支持管、2は燃料電極、3は固体
電解質、4は空気電極、5は電流リード、6は膜、10
は固体電解質燃料電池、11a〜lidはガスマスキン
グ要素、12a〜12dは負圧供給支持体、13はガス
マニホールド、14は支持体、15は回転軸、16は微
調整装置、22はガス吸込口、23はガス吸込溝、24
は開口部である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)内部にガス吸引路を持ち、内面に沿ってガス吸込
    口またはガス吸込溝を有する半円形,馬蹄形あるいは矩
    形のガスマスキング要素と、このガスマスキング要素の
    ガス通路に連通し負圧ガスを供給する負圧ガス供給機構
    を具備したことを特徴とするプラズマ溶射用負圧式マス
    キング装置。
  2. (2)ガスマスキング要素にプラズマガスの流れを整え
    る整流風機構をもつことを特徴とする請求項(1)記載
    のプラズマ溶射用負圧式マスキング装置。
JP2061766A 1990-03-13 1990-03-13 プラズマ溶射用負圧式マスキング装置 Pending JPH03264657A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5322129A (en) * 1976-08-12 1978-03-01 Masuzou Hamamura Nonndiffusing metallization method using plural divergent nozzle sprays and metallizing gun for said method
JPS5547377A (en) * 1978-09-29 1980-04-03 Seiya Adachi Plating method
JPS6263665A (ja) * 1985-09-17 1987-03-20 Agency Of Ind Science & Technol 溶射用ガスマスキング装置

Patent Citations (3)

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