JPH03266801A - 反射防止フィルター - Google Patents
反射防止フィルターInfo
- Publication number
- JPH03266801A JPH03266801A JP2067459A JP6745990A JPH03266801A JP H03266801 A JPH03266801 A JP H03266801A JP 2067459 A JP2067459 A JP 2067459A JP 6745990 A JP6745990 A JP 6745990A JP H03266801 A JPH03266801 A JP H03266801A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- antireflection
- refractive index
- finger prints
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、指紋跡が付着しに〈＜、拭き取り易い反射
防止フィルターに関するものである。
防止フィルターに関するものである。
（従来の技術）
ＯＡ種機器どのデイスプレィは、デイスプレィ表面の反
射光により表示が見にくくなるため、従来からＣＲＴ、
液晶デイスプレィ等の防眩用途として反射防止フィルタ
ーが使われてきた。このフィルターとしては、ガラス板
もしくはデヲスナック板上に反射防止層として無機多層
薄膜を設はデイスプレィ前面に設置するタイプ、プラス
チックフィルムに無機多層薄膜を設け、このフィルムを
ガラス板、プラスチック板に貼シ合わせ、それをデイス
プレィ前面に設置するタイプ、無機多層膜を設けたプラ
スチックフィルムを直接デイスプレィ表面に貼り合わせ
たタイプがある。
射光により表示が見にくくなるため、従来からＣＲＴ、
液晶デイスプレィ等の防眩用途として反射防止フィルタ
ーが使われてきた。このフィルターとしては、ガラス板
もしくはデヲスナック板上に反射防止層として無機多層
薄膜を設はデイスプレィ前面に設置するタイプ、プラス
チックフィルムに無機多層薄膜を設け、このフィルムを
ガラス板、プラスチック板に貼シ合わせ、それをデイス
プレィ前面に設置するタイプ、無機多層膜を設けたプラ
スチックフィルムを直接デイスプレィ表面に貼り合わせ
たタイプがある。
これらのフィルターを使うことにより、デイスプレィ表
面からの反射光が減少し、眩しさが大幅に抑制される。
面からの反射光が減少し、眩しさが大幅に抑制される。
（発明が解決しようとする課Ｍ）
これらの反射防止フィルターの表面は手、指によって触
れられる機会が少なくなく、指紋跡等が付着することが
多い。
れられる機会が少なくなく、指紋跡等が付着することが
多い。
付着した指紋跡等を布、紙等で拭き取ろうとした場合、
フィルター表面の反射防止層は、ガラス板表面などと比
較して、柔かく傷がつき易いため、強い力で拭き取るこ
とができない。このため、フィルター表面から完全に指
紋跡を消去することができず、画面が非常に見づらいと
いう問題点があった。
フィルター表面の反射防止層は、ガラス板表面などと比
較して、柔かく傷がつき易いため、強い力で拭き取るこ
とができない。このため、フィルター表面から完全に指
紋跡を消去することができず、画面が非常に見づらいと
いう問題点があった。
従って、この発明は指紋付着防止効果があシ、しかも指
紋拭き取りの容易な反射防止フィｙターを提供すること
を目的としている。
紋拭き取りの容易な反射防止フィｙターを提供すること
を目的としている。
（課題を解決する丸めの手段）
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、
反射防止フィルターの最外表面を摩擦係数が小さく、滑
り性、非粘着性の高いふっ素樹脂の薄層によって形成す
れば、反射防止効果を損なわずに、指紋跡が付着しにく
くなり、また、仮に指紋跡が付着した場合も、小さな力
で拭き取シ易いものであることを知り、この発明を完成
するに至った。
反射防止フィルターの最外表面を摩擦係数が小さく、滑
り性、非粘着性の高いふっ素樹脂の薄層によって形成す
れば、反射防止効果を損なわずに、指紋跡が付着しにく
くなり、また、仮に指紋跡が付着した場合も、小さな力
で拭き取シ易いものであることを知り、この発明を完成
するに至った。
すなわち、この発明は、透明基材の表面に単層もしくは
多層の無機誘電体薄膜から成る反射防止層が形成され、
５更にこの上にふっ素樹脂薄膜が形成されて成る反射防
止フィルターに係るものである。
多層の無機誘電体薄膜から成る反射防止層が形成され、
５更にこの上にふっ素樹脂薄膜が形成されて成る反射防
止フィルターに係るものである。
この発明における基材の例としては、ガラス板単体、プ
ラスチック板単体、ガラス板にプラスチックフィルムを
粘着層を介して貼り合わせたもの、プラスチック板にプ
ラスチックフィルムを粘着層を介して貼シ合わせたもの
などが挙げられる。各々の材料としては、いずれも透明
性を有するものであればよく、プラスチック板の場合、
具体的にハホリエステル樹脂、トリアセチルセルロース
樹脂（ＴＡＣ）、ポリカーボスート樹脂、ポリアミド樹
脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。
ラスチック板単体、ガラス板にプラスチックフィルムを
粘着層を介して貼り合わせたもの、プラスチック板にプ
ラスチックフィルムを粘着層を介して貼シ合わせたもの
などが挙げられる。各々の材料としては、いずれも透明
性を有するものであればよく、プラスチック板の場合、
具体的にハホリエステル樹脂、トリアセチルセルロース
樹脂（ＴＡＣ）、ポリカーボスート樹脂、ポリアミド樹
脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。
これらの材料からなるプラスチック板の厚みとしては、
特に限定されないが、一般的に０．５１１１〜２０ｍ１
程度であるのがよい。
特に限定されないが、一般的に０．５１１１〜２０ｍ１
程度であるのがよい。
ガラス板の場合、ソーダライムガラス、カリ・クラウン
ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミケイ酸ガラス、石英
ガラスなどが挙げられる。これらの材料からなるガラス
板の厚みとしては、上記プラスチック板と同様である。
ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミケイ酸ガラス、石英
ガラスなどが挙げられる。これらの材料からなるガラス
板の厚みとしては、上記プラスチック板と同様である。
また、プヲスナックフィＩレムの場合、材料の具体例は
プラスチック板と同様であシ、厚みとしては、特に限定
されないが、一般的に２５〜２００μｍ程度であるのが
よい。
プラスチック板と同様であシ、厚みとしては、特に限定
されないが、一般的に２５〜２００μｍ程度であるのが
よい。
これら基材の表面に設けられる反射防止膜は、単層本し
くけ多層の無機誘電体薄膜から成り、多層の場合は一弊
約４２〜３層が一般的である。単層の場合は基材の屈折
率よりも低屈折″４（通常、屈折重重）が１．３〜１．
５）の材料で形成される。 ２層の場合は基材側から高
屈折率材料（通常、φが１．９〜２．４）／低屈折率材
料の順に、′！た３層の場合は基材側から中屈折率材料
（通常、ｍが１．５〜１．９／高屈折率材料／低屈折率
材料の順に形成される。
くけ多層の無機誘電体薄膜から成り、多層の場合は一弊
約４２〜３層が一般的である。単層の場合は基材の屈折
率よりも低屈折″４（通常、屈折重重）が１．３〜１．
５）の材料で形成される。 ２層の場合は基材側から高
屈折率材料（通常、φが１．９〜２．４）／低屈折率材
料の順に、′！た３層の場合は基材側から中屈折率材料
（通常、ｍが１．５〜１．９／高屈折率材料／低屈折率
材料の順に形成される。
各々の無機誘電体薄膜の厚みについては、単層の場合、
その光学的膜厚を、たとえば設計波長（λ）に対しλ／
４．２層の場合たとえば基材側の材料からλ／２、人／
４．３層の場合たとえば基材側の材料からλ／４、λ／
２、λ／４の関係を満たすようにすることが望まれる。
その光学的膜厚を、たとえば設計波長（λ）に対しλ／
４．２層の場合たとえば基材側の材料からλ／２、人／
４．３層の場合たとえば基材側の材料からλ／４、λ／
２、λ／４の関係を満たすようにすることが望まれる。
屈折重刷に無機誘電体薄膜材料を具体的に挙げると、高
屈折率材料としては、ＺｒＯ＊、Ｔａ ｚ ０Ｈ１Ｔｉ
ｅｓ 、 ＺｎＳ、 Ｃｅｎｔなどがある。中屈折率材
料としては、ＡムＯ＝ ％Ｙ露０− 、 Ｍｇ ０１Ｃ
ｅＦ、などがある。
屈折率材料としては、ＺｒＯ＊、Ｔａ ｚ ０Ｈ１Ｔｉ
ｅｓ 、 ＺｎＳ、 Ｃｅｎｔなどがある。中屈折率材
料としては、ＡムＯ＝ ％Ｙ露０− 、 Ｍｇ ０１Ｃ
ｅＦ、などがある。
また、低屈折率材料としては、ＳｉＯ意、ＭｇＦ雪、Ｌ
ｉＦ、Ｎ１Ｍ ＡＩＲｓ ＮａＦなどが挙げられる。
ｉＦ、Ｎ１Ｍ ＡＩＲｓ ＮａＦなどが挙げられる。
更に、この反射防止層の上に設けられるふっ素樹脂薄膜
としては、具体的には、ポリテトラフルオロエチレン（
ＰＴＦ’Ｅ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ
アルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフ
ルオロエチレン−へキサフルオロプロピレン共重合体（
ＦＥＰ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦ
Ｅ） 、テトフフルオロエチレンーエチレン共重合体（
ＥＴＦＥ） 、クロロトリフルオロエチレン−エチレン
共重合体（ＥＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオフィド
（ＰＶＤＦ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）
などが挙げられる。これらの材料からなるふっ素ＩＲ脂
薄膜の厚みとしては、反射防止膜の反射防止効果を損な
わない程度に制限され、３〜１１００ｎ程度にすること
が好ましい。
としては、具体的には、ポリテトラフルオロエチレン（
ＰＴＦ’Ｅ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ
アルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフ
ルオロエチレン−へキサフルオロプロピレン共重合体（
ＦＥＰ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦ
Ｅ） 、テトフフルオロエチレンーエチレン共重合体（
ＥＴＦＥ） 、クロロトリフルオロエチレン−エチレン
共重合体（ＥＣＴＦＥ）、ポリビニリデンフルオフィド
（ＰＶＤＦ）、ポリビニルフルオライド（ＰＶＦ）
などが挙げられる。これらの材料からなるふっ素ＩＲ脂
薄膜の厚みとしては、反射防止膜の反射防止効果を損な
わない程度に制限され、３〜１１００ｎ程度にすること
が好ましい。
（発明の効果）
以上のように、この発明によれば、反射防止フィルター
の反射防止膜の表面に、ふっ素樹脂薄膜を設けることに
より、表面に指紋跡が付着しにくくなるうえに、仮に指
紋跡が付着した場合も、ふっ素樹脂表面の摩擦係数が小
さいため、滑り性、非粘着性が高く、強い力をかけずに
指絞跡を完全に拭き取ることが可能な反射防止フィルタ
ーを提供できるものである。
の反射防止膜の表面に、ふっ素樹脂薄膜を設けることに
より、表面に指紋跡が付着しにくくなるうえに、仮に指
紋跡が付着した場合も、ふっ素樹脂表面の摩擦係数が小
さいため、滑り性、非粘着性が高く、強い力をかけずに
指絞跡を完全に拭き取ることが可能な反射防止フィルタ
ーを提供できるものである。
（実施例）
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。
する。
実施例１
基材の構成をプラスチック板に粘着層を介してプラスチ
ックフィルムを貼り合わせたものにするため、プラスチ
ック板として厚さ８１１１Ｊ１の透明アクリル樹脂板、
プラスチックフィルムとしテ厚す１００４ｍの透明なポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用い之
。
ックフィルムを貼り合わせたものにするため、プラスチ
ック板として厚さ８１１１Ｊ１の透明アクリル樹脂板、
プラスチックフィルムとしテ厚す１００４ｍの透明なポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用い之
。
このＰＥＴフィ〜ムの片面に反射防止膜として、電子銃
式真空蒸着法により、厚さ１２４ｆＰのＺｒ０ｔ膜およ
び厚さ８７ｎｍの５ｉｎｓ膜を順次形成した。
式真空蒸着法により、厚さ１２４ｆＰのＺｒ０ｔ膜およ
び厚さ８７ｎｍの５ｉｎｓ膜を順次形成した。
つぎに、このＳｔｏｗ膜上に抵抗加熱式真空蒸着法によ
り膜厚５ｎｍのＰＦＡ薄膜を形成した。この反射防止フ
ィルターを得た。
り膜厚５ｎｍのＰＦＡ薄膜を形成した。この反射防止フ
ィルターを得た。
この反射防止フィルターは、波長４００〜７００ ｎｍ
の可視光の平均反射率が、約１．０％とＰＦＡ 薄膜
を設けていない反射防止フィルター（可視光線平均反射
率約０９％）と比較しても反射防止効果は損なわれてお
らず、指紋跡のガーセによる拭き取りでも容易に指紋跡
を消去することができた。
の可視光の平均反射率が、約１．０％とＰＦＡ 薄膜
を設けていない反射防止フィルター（可視光線平均反射
率約０９％）と比較しても反射防止効果は損なわれてお
らず、指紋跡のガーセによる拭き取りでも容易に指紋跡
を消去することができた。
実施例２
厚さ１００μｍの透明ＴＡＣフィルムの片面に、実施例
１と同様にして膜厚７５ ｎｍのＹ、 ０．膜、膜厚１
１０ｎｍの’ｐｉｏ雪膜および膜厚ｇ７ｎｍの５ｉｎｓ
膜を順次形成し、次いで、５ｉｎｓ膜上に膜厚ｔｏｎｍ
のＰＴＦＥを形成し、更にこのＴＡＣフィルムの他面に
透明粘着剤により、厚さ３Ｕの透明なアクリル樹脂板を
貼り合わせることにより、この発明の反射防止フィルタ
ーを得九。このフィルターの可視光平均反射率は約０．
６％で、指絞跡付着防止層のＰＴＦＥ薄膜のない反射防
止フィルター（可視光線平均反射率約０．５８％）と比
較しても、大きく劣らず、指紋跡の付着が起こシづらく
なった。
１と同様にして膜厚７５ ｎｍのＹ、 ０．膜、膜厚１
１０ｎｍの’ｐｉｏ雪膜および膜厚ｇ７ｎｍの５ｉｎｓ
膜を順次形成し、次いで、５ｉｎｓ膜上に膜厚ｔｏｎｍ
のＰＴＦＥを形成し、更にこのＴＡＣフィルムの他面に
透明粘着剤により、厚さ３Ｕの透明なアクリル樹脂板を
貼り合わせることにより、この発明の反射防止フィルタ
ーを得九。このフィルターの可視光平均反射率は約０．
６％で、指絞跡付着防止層のＰＴＦＥ薄膜のない反射防
止フィルター（可視光線平均反射率約０．５８％）と比
較しても、大きく劣らず、指紋跡の付着が起こシづらく
なった。
Claims (1)
- 透明基材の表面に無機誘電体薄膜から成る反射防止膜が
形成され、更にこの上にふっ素樹脂薄膜が形成されて成
る反射防止フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2067459A JPH03266801A (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | 反射防止フィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2067459A JPH03266801A (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | 反射防止フィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03266801A true JPH03266801A (ja) | 1991-11-27 |
Family
ID=13345551
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2067459A Pending JPH03266801A (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | 反射防止フィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03266801A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5622784A (en) * | 1986-01-21 | 1997-04-22 | Seiko Epson Corporation | Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating |
| US5759643A (en) * | 1987-01-16 | 1998-06-02 | Seiko Epson Corporation | Polarizing plate and method of production |
| US5783299A (en) * | 1986-01-21 | 1998-07-21 | Seiko Epson Corporation | Polarizer plate with anti-stain layer |
| US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| JPH11258405A (ja) * | 1998-03-12 | 1999-09-24 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
| WO2000069785A1 (de) * | 1999-05-15 | 2000-11-23 | Merck Patent Gmbh | Verfahren und mittel zur herstellung hydrophober schichten auf fluoridschichten |
| US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| JP2002523796A (ja) * | 1998-08-18 | 2002-07-30 | ゴア エンタープライズ ホールディングス，インコーポレイティド | 汚れ抵抗性でクリーニングすることができる軽量な反射面 |
| US6942924B2 (en) | 2001-10-31 | 2005-09-13 | Chemat Technology, Inc. | Radiation-curable anti-reflective coating system |
| US8445097B2 (en) | 2008-12-22 | 2013-05-21 | E I Du Pont De Nemours And Company | Multi-layer fluoropolymeric film and articles incorporating such films |
-
1990
- 1990-03-16 JP JP2067459A patent/JPH03266801A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6783704B1 (en) | 1999-05-15 | 2004-08-31 | Merck Patent Gmbh | Method and agent for producing hydrophobic layers on fluoride layers |
| KR100648780B1 (ko) * | 1999-05-15 | 2006-11-23 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 플루오라이드층 위에 소수성 층을 생성하는 방법 및 이를 위한 조성물, 및 상기 조성물을 사용한 소수성 층을 갖는 광학 기판 |
| US6942924B2 (en) | 2001-10-31 | 2005-09-13 | Chemat Technology, Inc. | Radiation-curable anti-reflective coating system |
| US8445097B2 (en) | 2008-12-22 | 2013-05-21 | E I Du Pont De Nemours And Company | Multi-layer fluoropolymeric film and articles incorporating such films |
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