JPH0327002A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
光導波路の製造方法Info
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- JPH0327002A JPH0327002A JP16191289A JP16191289A JPH0327002A JP H0327002 A JPH0327002 A JP H0327002A JP 16191289 A JP16191289 A JP 16191289A JP 16191289 A JP16191289 A JP 16191289A JP H0327002 A JPH0327002 A JP H0327002A
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- optical waveguide
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Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、光スイッチなどに用いられる光導波路の製
造方法に関する。
造方法に関する。
従来光導波路の製造方法としては、レジストとドライエ
ッチング工程を用いた方法が提案されているが、装置が
高価でプロセスが難しいという問題があった。また、電
子ビームによる直接描画法も提案されているが、これも
装置が高価でありかつ量産性に乏しかった。
ッチング工程を用いた方法が提案されているが、装置が
高価でプロセスが難しいという問題があった。また、電
子ビームによる直接描画法も提案されているが、これも
装置が高価でありかつ量産性に乏しかった。
これに対し、近年、金属アルコキシドやその加水分解液
などの液体（ゾル）を使用したゾルゲル法と成形技術と
を組合せた簡易な方法が試みられている（特開昭６３−
２５０６１０号公報）。
などの液体（ゾル）を使用したゾルゲル法と成形技術と
を組合せた簡易な方法が試みられている（特開昭６３−
２５０６１０号公報）。
上記ゾルゲル法と成形技術との組合せによれば、簡便性
は向上するものの、反面、ゾルの塗布によって形或する
薄膜と基板との密着性が十分でなく、そのためにパター
ンを正確に残すことが難しいという問題があった。
は向上するものの、反面、ゾルの塗布によって形或する
薄膜と基板との密着性が十分でなく、そのためにパター
ンを正確に残すことが難しいという問題があった。
この発明は、ゾルゲル法と成形技術とを組合せて光導波
路を製造するにあたり、ゾルとして増粘剤を含む金属ア
ルコキシドの加水分解液を用いるものである。
路を製造するにあたり、ゾルとして増粘剤を含む金属ア
ルコキシドの加水分解液を用いるものである。
増粘剤としては、有機高分子材料が適当であり、次の性
質を有することが望ましい。
質を有することが望ましい。
（１）金属アルコキシドの加水分解液とともに使用する
ものであるから、アルコールに対して適当な溶解性があ
ること。
ものであるから、アルコールに対して適当な溶解性があ
ること。
（２）増粘剤として用いるものであるから、それ自体が
適当な粘度を有していること。
適当な粘度を有していること。
（３）熱処理によって完全に燃焼・分解すること。
金属アルコキシドの加水分解液に増粘剤を加えることで
ゾルの粘度が高まり、基板に対する密着性が向上して戊
形型によるパターンが忠実に再現される。
ゾルの粘度が高まり、基板に対する密着性が向上して戊
形型によるパターンが忠実に再現される。
以下、添付図面の第１図を参照してこの発明の一実施例
を説明する。なお、図面の説明において、同一要素には
同一符号を付し、重複する説明を省略する。
を説明する。なお、図面の説明において、同一要素には
同一符号を付し、重複する説明を省略する。
まず、金属アルコキシドを加水分解する。ここでは、石
英系導波路を製造する場合について述べるものとして、
金属アルコキシドとしては、Ｓ１（ＯＣＲ ） ，
Ｓｉ （ＱＣ２Ｈ５）４などのケ３４ イ素アルコキシドを用いる。これに、適当量の有機高分
子材料を添加して出発溶液（ゾル）とする。
英系導波路を製造する場合について述べるものとして、
金属アルコキシドとしては、Ｓ１（ＯＣＲ ） ，
Ｓｉ （ＱＣ２Ｈ５）４などのケ３４ イ素アルコキシドを用いる。これに、適当量の有機高分
子材料を添加して出発溶液（ゾル）とする。
有機高分子材料としては、ポリエチレングリコール（Ｐ
ＥＧ）、グリセリン等が好ましい。ここではＰＥＧ６０
０を用いるものとする。
ＥＧ）、グリセリン等が好ましい。ここではＰＥＧ６０
０を用いるものとする。
次に、石英基板１上にスピンコーティング法により上記
調製溶液を塗布し、有機高分子を含むゲル膜２を形成す
る（同図（ａ））。スピンコーティングは、回転数２，
０００ｒｐｍで２０秒間行なった。なお、スピンコーテ
ィング法の代りにディップコーティング法を用いてもよ
いし、あるいは型枠状の容器を用い、単に、溶液を直接
基板上に流し込んでもよい。
調製溶液を塗布し、有機高分子を含むゲル膜２を形成す
る（同図（ａ））。スピンコーティングは、回転数２，
０００ｒｐｍで２０秒間行なった。なお、スピンコーテ
ィング法の代りにディップコーティング法を用いてもよ
いし、あるいは型枠状の容器を用い、単に、溶液を直接
基板上に流し込んでもよい。
ゲル膜２は、次第にゲル化が進行して硬くなるが、未だ
可塑性を残している柔軟な状態のうちに、これにスタン
パ−３を押しあて、バターニングを行なう（同図（ｂ）
）。
可塑性を残している柔軟な状態のうちに、これにスタン
パ−３を押しあて、バターニングを行なう（同図（ｂ）
）。
ゲル膜２が乾燥後、スタンパ−３を離型すると、スタン
パー３のパターンが正確に転写されたゲル膜からなるバ
ッファ層４が得られる（同図（Ｃ））。スタンバ−３は
、ゲル膜２に対し離型性の良いものが好ましいが、必要
に応じ、予めフッ素系等のＭ型剤を塗布しておいてもよ
い。
パー３のパターンが正確に転写されたゲル膜からなるバ
ッファ層４が得られる（同図（Ｃ））。スタンバ−３は
、ゲル膜２に対し離型性の良いものが好ましいが、必要
に応じ、予めフッ素系等のＭ型剤を塗布しておいてもよ
い。
別に、導波路のコアを形成するためケイ素アルコキシド
とチタンアルコキシドを加水分解した溶液を調製してお
き、これをバッファ層４の溝に流し込み、乾燥させてゲ
ル膜からなるコア層５を形威した（同図（ｄ））。
とチタンアルコキシドを加水分解した溶液を調製してお
き、これをバッファ層４の溝に流し込み、乾燥させてゲ
ル膜からなるコア層５を形威した（同図（ｄ））。
次に熱処理によりゲル膜の焼結を行なう。この熱処理過
程で、添加した有機高分子は焼結・分解して除去され、
ゲル膜は一層緻密なものとなる。
程で、添加した有機高分子は焼結・分解して除去され、
ゲル膜は一層緻密なものとなる。
熱処理は９００℃に昇温して行ない、バッファ層４およ
びコア層５を透明ガラス化させた。
びコア層５を透明ガラス化させた。
このプロセスにおいて、パターンが正確に形成されるか
否かはゲル膜の加工性に左右され、この意味で、有機高
分子の添加によるゲル膜の物性（粘性）の調製は極めて
重要な意義をもつ。
否かはゲル膜の加工性に左右され、この意味で、有機高
分子の添加によるゲル膜の物性（粘性）の調製は極めて
重要な意義をもつ。
以上のプロセスで得られた成形体にフフ化水素（ＨＦ）
による表面エッチングを施して端面を整えた後、前述し
た金属アルコキシドの加水分解液をスピンコーティング
してゲル膜を形或し、さらに熱処理により透明ガラス化
してクラッド層６とした。これにより、ＳＩＯ２からな
るバッファ層４、ＴＩ Ｏ２−ＳＩ Ｏ２からなるコア
層５およびＳｉＯ２からなるクラッド層６をもつ光導波
路が得られた（同図（ｅ））。
による表面エッチングを施して端面を整えた後、前述し
た金属アルコキシドの加水分解液をスピンコーティング
してゲル膜を形或し、さらに熱処理により透明ガラス化
してクラッド層６とした。これにより、ＳＩＯ２からな
るバッファ層４、ＴＩ Ｏ２−ＳＩ Ｏ２からなるコア
層５およびＳｉＯ２からなるクラッド層６をもつ光導波
路が得られた（同図（ｅ））。
以上、増粘剤を含むケイ素アルコキシドの加水分解液を
用い、成形技術と組合せて石英系導波路を形或する例に
ついて述べたが、金属アルコキシドとしては、ケイ素ア
ルコキシドの他にも、ゲルマニウムアルコキシド、チタ
ンアルコキシドなどの使用が可能である。
用い、成形技術と組合せて石英系導波路を形或する例に
ついて述べたが、金属アルコキシドとしては、ケイ素ア
ルコキシドの他にも、ゲルマニウムアルコキシド、チタ
ンアルコキシドなどの使用が可能である。
以上のように、この発明は、増粘剤を含む金属アルコキ
シドの加水分解液を利用することにより、正確なパター
ンを有する光導波路が、きわめて容易な装置で量産性良
く得られる効果を有する。
シドの加水分解液を利用することにより、正確なパター
ンを有する光導波路が、きわめて容易な装置で量産性良
く得られる効果を有する。
第１図はこの発明の一実施例を示す工程斜視図である。
１・・・石英基板、２・・・ゲル膜、３・・・スタンパ
−４・・・ゲル膜からなるバツファ層。
−４・・・ゲル膜からなるバツファ層。
Claims (1)
- 基板上にゾルを塗布して薄膜を形成する工程、この薄膜
に可塑性が残っている時点で型を押しつけることにより
光導波路形状を形成する工程および焼結を行なう工程を
含む光導波路の製造方法において、上記ゾルとして増粘
剤を含む金属アルコキシドの加水分解液を用いることを
特徴とする光導波路の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16191289A JPH0327002A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16191289A JPH0327002A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 光導波路の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0327002A true JPH0327002A (ja) | 1991-02-05 |
Family
ID=15744384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16191289A Pending JPH0327002A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0327002A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0608566A3 (en) * | 1992-12-28 | 1995-02-01 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Substrate for mounting optical components and its manufacturing process. |
| JP2006011211A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Fuji Xerox Co Ltd | 高分子光導波路の製造方法、それに用いる鋳型及びその製造方法 |
| JP2014003284A (ja) * | 2012-05-25 | 2014-01-09 | Tokuyama Corp | 光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法 |
| JP2014003276A (ja) * | 2012-04-02 | 2014-01-09 | Tokuyama Corp | 光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法 |
| JP2015012100A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | 株式会社トクヤマ | 光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法 |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP16191289A patent/JPH0327002A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0608566A3 (en) * | 1992-12-28 | 1995-02-01 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Substrate for mounting optical components and its manufacturing process. |
| US5425118A (en) * | 1992-12-28 | 1995-06-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical component mounting substrate and method of producing the same |
| JP2006011211A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Fuji Xerox Co Ltd | 高分子光導波路の製造方法、それに用いる鋳型及びその製造方法 |
| JP2014003276A (ja) * | 2012-04-02 | 2014-01-09 | Tokuyama Corp | 光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法 |
| JP2014003284A (ja) * | 2012-05-25 | 2014-01-09 | Tokuyama Corp | 光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法 |
| JP2015012100A (ja) * | 2013-06-28 | 2015-01-19 | 株式会社トクヤマ | 光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法 |
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