JPH03270221A

JPH03270221A - 縦型処理容器へのボート搬入方法

Info

Publication number: JPH03270221A
Application number: JP7156190A
Authority: JP
Inventors: Katsunobu Miyagi; 勝伸宮城
Original assignee: Tokyo Electron Sagami Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Sagami Ltd
Priority date: 1990-03-20
Filing date: 1990-03-20
Publication date: 1991-12-02

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の目的〕（産業上の利用分野）本発明は縦型処理容器へのボート搬入方法に関する。

（従来の技術）縦型熱処理装置において、断熱材からなるボート保持台
にウェハを収納したボートを載置するものとして実開昭
６１−１００１４１号公報がある。

また、縦型熱処理装置において、バスケットステージに
設けられたバスケットを第１のローディング機構で処理
容器の下部に搬入後、第２のローディング機構によりつ
め部が設けられた支柱を上昇させ上記バスケットステー
ジを引掛け、処理容器の中央に上記バスケットを搬入す
る技術として特開昭５８−９２２２０号公報に開示され
ている。

（発明が解決しようとする課題）縦型バッチ式熱処理装置では複数枚例えば１００〜１５
０枚のウェハを一度に、全てのウェハについて均一性よ
く熱処理するためには、上記全てのウェハが例えば所定
の温度である１０００℃±１℃以内に温度制御すること
が必要である。

そのため、前者文献に示されたような縦型炉の下部開口
端の断熱特性をよくするために、断熱材からなるボート
保持台を設けるとともに、この保持合により複数枚のウ
ェハが収納されたボートを縦型炉の均熱領域に設置する
ようにしている。

このため、縦型炉からボートを引き出すために、縦型炉
の下部はボートと保持台分の高さが必要となり、縦型熱
処理装置の高さを低くすることができないという改善点
を有する。

また、後者文献に示された技術では、縦型熱処理装置の
高さは低くできるが、ボートを載置する保持台が支柱で
構成されているため、この保持台による断熱性がほとん
どなく熱処理炉の均熱領域が広く取れないという改善点
を有する。

さらに上記保持台の支柱はボートを囲繞する如く構成さ
れているため、上記保持台の収容する熱処理炉が大型化
するという改善点を有する。

一般の半導体製造工場のクリーンルームに設置されてい
る他のエツチング装置、レジスト塗布装置、洗浄装置等
の装置と比べて縦型熱処理装置の高さが高く、通常のク
リーンルーム高さでは現在用いられている３７１６イン
チのウェハ配列間隔を変えずに例えば２００枚以上のウ
ェハを処理する縦型熱処理装置を構成することができな
いという改善点を有する。

また、ウェハサイズが８インチの場合ボートに収納する
ウェハの間隔が、６インチウェハでは３／１６インチで
あったものが８インチウェハでは１／４インチと広くな
り、　６インチウェハと同し高さの装置で処理枚数を同
じにしようとすれば断熱材からなる保持台の高さを低く
しなければならず、そのため均一な熱処理ができなくな
るという改善点を有する。

この発明は上記点に鑑みなされたもので、ボートに収納
された被処理体に所定の処理を行うに際し、被処理体の
処理容量を減らすことなく、縦型処理装置の所要高さを
おおむね保持台高さ分低くすることが可能となる縦型処
理容器へのボート搬入方法を提供するものである。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段）長軸をほぼ垂直に配置して下端部を開放した処理容器内
に、保持台に載置されたボートを搬入するに際し、被処
理体が収容された上記ボートを第１の移動機構により設
け、上記第１の移動機構と並列に設けられた第２の移動
機構により上記保持台を設け、この保持台上に上記第１
および第２の移動機構を相対的に移動させて上記ボート
を載置し、次に上記第１の移動機構を上記ボートから離
間し上記第２の移動機構により上記ボートを上記処理容
器内所定位置に搬入するようにしたものである。

（作　用）この発明方法では、ボートを第１の移動機構により処理
容器に所定ストローク搬入した後、上記ボートが上昇移
動したあきスペースに第２の移動機構により保持台を移
動し、そして第２の移動機構を上昇し、上記保持台に上
記ボート嵌合載置し、その後第１の移動機構をボートか
ら離間し、第２の移動機構により上記ボートを処理容器
内の予め定められた位置に移動するので、第１．第２の
移動機構に必要なストロークは上記ボートの長さ分とな
る。

（実施例）以下、本発明方法を縦型熱処理装置での実施に適用した
一実施例について図面を参照して具体的に説明する。

第１図において縦型のプロセスチューブ１０は下端に開
口を有する耐熱性材料例えば石英チューブからなり、こ
のプロセスチューブ１０の周囲には円筒状の抵抗加熱ヒ
ータ１２を設け、上記プロセスチューブ１０内を所望の
温度例えば５００〜１２００℃の範囲に適宜設定可能と
している。

プロセスチューブＩＯには図示しないガス導入管と排気
管が設けられ、この排気管には図示しない排気ポンプに
よりプロセスチューブ１０内を真空排気できるようにし
である。

上記プロセスチューブ１０内には被処理体として多数枚
例えば２００枚のウェハ１４を１例えば高さＡ＝　ｔｏ
ｏｏ−の石英製のウェハボート１６に予め定められた間
隔で水平に収納し、このボート１６を例えば高さ　Ｂ＝
３００ｗｍの一般には石英製の保温筒である保持台１８
上に設置し、この保持台１８を蓋体２０上に設置して収
納可能の如く構成している。

この蓋体２０は移動機構３０のアーム３２にスプリング
３４を介して保持されており上記移動機構３０の下部か
ら上記蓋体２０までの高さＣ＝２００ｍｍとしている。

上記移動機構３０はボート１６を載置して上下および水
平移動することができ、プロセスチューブｌＯ内の予め
定められた位置に下端開口から複数枚のウェハ１４を搬
入および搬出可能な如く構成している。また、ボート１
６は移動機構４０に設けた半月状アーム４２に上記ボー
ト１６の下部環状凹部１７が嵌合して保持され、上記移
動機構４０はボート１６を載置して上下および水平移動
することができるように構成している。

次に上記実施例装置によるボート１６の搬出方法につい
て第２図の矢印番号に従って以下説明を行う。

■　ボート１６と保持台１８と蓋体２０を載置したアー
ム３２は、移動機構３０により降下させられボート１６
の下部環状凹部１７がプロセスチューブ１０より搬出さ
れた状態で上記移動機構３０を停止させる。

■　移動機構４０の半月アーム４２を水平方向に回転し
、上記ボート１６の下部環状凹部１７へ上記半月状アー
ム４２を嵌合する。

■　移動機構３０を再度下降させるとボート１６が保持
台１８から離間し、上記ボート１６が半月状アーム４２
に保持され、アーム３２に保持台１８と蓋体２０が載置
された状態で移動機構３０の下降を停止させ、次にアー
ム３２を水平方向に回転し蓋体２０の中心軸をプロセス
チューブＩＯの中心軸より離間する。

■　移動機構４０を下降させボート１６をプロセスチュ
ーブ１０から搬出した後移動機構４０の下降を停止させ
、次に半月状アーム４２を水平方向に回転させボート１
６の中心軸をプロセスチューブｌＯの中心軸より離間す
る。

■　移動機構３０のアーム３２を水平方向に回転させプ
ロセスチューブＩＯと蓋体２０の中心軸が一致したとき
アーム３２０回転を停止する。

次いで、移動機構３０を上昇させプロセスチューブ１０
の下端に蓋体２０を密閉する如く当接させる。

ボート１６のプロセスチューブＩＯへの搬入は上記■〜
■の逆に手順で行えばよい。

以上の如く、本発明を利用した方法によればボート１６
を移動機構４０でプロセスチューブ１０に所定ストロー
ク搬入した後、上記ボート１６が上昇移動したあきスペ
ースに移動機構３０により保持台１８を移動し、そして
移動機構３０を上昇し、上記保持台１８に上記ボート１
６を嵌合載置し、その後移動機構４０を上記ボート１６
から離間し、移動機構３ｏにより上記ボート１６をプロ
セスチューブ１０内の予め定められた位置に移動するの
で、第１．第２の移動機構に必要なストロークはボート
１６の長さ分のＡ＝１０００＋ｗあればよい。

一方、従来一般に行っている方法の一つの移動機構で保
持台１８に載置されたボート１６をプロセスチューブ１
０に搬入するために必要な移動機構のストロークは、ボ
ート１６と保持台１８と移動機構のアーム部高さのＡ＋
Ｂ＋Ｃ＝１５００■必要である。

従って、上記実施例では従来の縦型処理装置に比べて装
置の高さを５００ｍ低くできるという顕著な効果がある
。

ボート１６と図示しないウェハ２５枚を収納する複数個
のキャリア間のウェハ移換えは、図示しないフォーク機
構により行う。このフォーク機構はウェハ１４を１枚も
しくは５枚水平に保持して移換え可能の如く構成してい
る。ボート移換え時、ボート１６は半月状アーム４２に
載置されており、ボート１６上部を図示しない押え具で
保持するので正確なウェハ移換え位置を保つことができ
る。

従来ウェハ移換えを行っていた状態のボート１６を均熱
領域に設定するための保持台１８、一般には保温筒、蓋
体２０、スプリング３４を介して移動機構３０のアーム
３２に載置した場合、複数の部材を介しているため位置
精度が低く、またスプリングを介しているためボート１
６を運搬時に振動が発生する等の改善要望点があるが、
本発明では上記問題点は解決されている。

また、従来装置と本発明装置の高さを同じとした場合、
本発明装置においてはボート１６．プロセスチューブ１
０．ヒータ１２をそれぞれ２５０ｍ高くしても、ボート
１６をプロセスチューブｌＯへ搬入搬出できるため、被
処理体の処理領域を２５０１１ＩＩ長くすることができ
る。

他の実施例の部分説明図を第３図に示すと、蓋体２０の
下部に例えば水冷された磁気シールからなる軸方向の長
さ　Ｅ＝３００ｍ＋＋の回転導入部５１を設け、この回
転導入部５１の軸と、例えばステッピングモータからな
るモータ５２の軸にベルト５３を張設している。

また、蓋体２０を貫通する上記回転導入部５Ｉの他方の
軸に高さ　Ｄ　＝３００ｍｍの保持台１８が設けられ、
この保持台１８は上記モータ５２の回転により所望速度
で回転可能の如く構威しである。

上記実施例装置で本発明の方法を用いてボート１６を搬
入すれば従来の装置と比べ縦型処理装置の装置高さをＤ
＋Ｅ分、すなわち６００■低くすることができる。

上記実施例に用いた保持台１８について第４図により説
明を行うと、耐熱性材料例えば石英からなる保持台１８
の上部に、ボート１７の下部に設けられた凸部と嵌合す
る凹部６１が設けられ、上記保持台１８は中空に懲戒さ
れこの中空部に石英ウール６２が収容されている。

上記保持台１８の中空部は真空引きされており断熱性が
高くなっている。

また、保持台１８の他の構成について第５図により説明
を行うと、例えば石英からなる円筒状の筒部６３の中に
、例えば石英からなる円板６４を複数枚所定の間隔を設
けて収納している。

尚、本発明方法は上記実施例に限定されるものではなく
１本発明の要旨の範囲内で種々変形実施が可能である。

縦型熱処理装置としては、縦型ＣＶＤ装置、縦型酸化装
置、縦型拡散装置等へ利用できる。また、エツチング、
アッシング、ＣＶＤ等の縦型プラズマ処理装置等の熱処
理装置以外の装置にも応用が可能である。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の方法によれば被処理体の
処理容量を減らすことなく、縦型処理装置の所要高さを
おおむね保持台高さ分低くすることが可能になるという
顕著な効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法の一実施例である縦型熱処理装置の
説明図、第２図は第１図の動作説明図、第３図は第１図
の他の実施例を示す部分説明図。第４図および第５図は第１図保持台の詳細説明図である
。１０・・・プロセスチューブ　１２・・ヒータ１４・・
・ウェハ　　　　　　１６・・・ボート１８・・・保持
台　　　　　　２０・・・蓋体３０・・・移動機構　　
　　　３２・・・アーム４０・・・移動機構　　　　　
４２・・・半月状アーム第　１　図

Claims

【特許請求の範囲】

　長軸をほぼ垂直に配置して下端部を開放した処理容器
内に、保持台に載置されたボートを搬入するに際し、被
処理体が収納された上記ボートを第１の移動機構により
設け、上記第１の移動機構と並列に設けられた第２の移
動機構により上記保持台を設け、この保持台上に上記第
１および第２の移動機構を相対的に移動させて上記ボー
トを載置し、次に上記第１の移動機構を上記ボートから
離間し上記第２の移動機構により上記ボートを上記処理
容器内所定位置に搬入することを特徴とする縦型処理容
器へのボート搬入方法。