JPH0327059B2 - - Google Patents
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- JPH0327059B2 JPH0327059B2 JP59237275A JP23727584A JPH0327059B2 JP H0327059 B2 JPH0327059 B2 JP H0327059B2 JP 59237275 A JP59237275 A JP 59237275A JP 23727584 A JP23727584 A JP 23727584A JP H0327059 B2 JPH0327059 B2 JP H0327059B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- flow path
- component
- dilution
- standard
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D11/00—Control of flow ratio
- G05D11/02—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
- G05D11/13—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
- G05D11/139—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by measuring a value related to the quantity of the individual components and sensing at least one property of the mixture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/10—Mixing gases with gases
- B01F23/19—Mixing systems, i.e. flow charts or diagrams; Arrangements, e.g. comprising controlling means
- B01F23/191—Mixing systems, i.e. flow charts or diagrams; Arrangements, e.g. comprising controlling means characterised by the construction of the controlling means
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
本発明は、ガス分析装置の目盛校正等に用いる
標準ガスを調製する標準ガス発生機等のガス調製
装置に係り、特に、流量の自己診断機能を備えた
ガス調製装置に関する。
標準ガスを調製する標準ガス発生機等のガス調製
装置に係り、特に、流量の自己診断機能を備えた
ガス調製装置に関する。
＜従来の技術＞
従来、所定濃度の標準ガスを調製する標準ガス
発生機は、例えば第４図に示すように構成されて
いる。即ち、DLは図外の希釈ガス源に接続され
た希釈ガス流路、CLは図外の成分ガス源に接続
された成分ガス流路、６１，６２は電磁弁の如き
ストツプバルブ、６３，６４はマスフローメータ
とバルブとから成るマスフローコントローラで、
このようなマスフローコントローラは例えば特公
昭59−41126号公報に開示されるように、公知で
ある。Ｍは希釈ガス流路DLと成分ガス流路SLと
の接続点に形成される混合部で、希釈ガスDGと
成分ガスCGが混合される。SLはガス混合部Ｍの
下流側の標準ガス流路、Ｂは被試験装置としての
ガス分析装置である。そして、希釈ガス流路DC
の希釈ガス流量をQD、成分ガス流路CLの成分ガ
ス流量をQCとするとき、QC／QD＋QCに希釈された標 準ガスSGが標準ガス流路SLを介してガス分析装
置Ｂに供給される。
発生機は、例えば第４図に示すように構成されて
いる。即ち、DLは図外の希釈ガス源に接続され
た希釈ガス流路、CLは図外の成分ガス源に接続
された成分ガス流路、６１，６２は電磁弁の如き
ストツプバルブ、６３，６４はマスフローメータ
とバルブとから成るマスフローコントローラで、
このようなマスフローコントローラは例えば特公
昭59−41126号公報に開示されるように、公知で
ある。Ｍは希釈ガス流路DLと成分ガス流路SLと
の接続点に形成される混合部で、希釈ガスDGと
成分ガスCGが混合される。SLはガス混合部Ｍの
下流側の標準ガス流路、Ｂは被試験装置としての
ガス分析装置である。そして、希釈ガス流路DC
の希釈ガス流量をQD、成分ガス流路CLの成分ガ
ス流量をQCとするとき、QC／QD＋QCに希釈された標 準ガスSGが標準ガス流路SLを介してガス分析装
置Ｂに供給される。
ところで、上記の如く調製される校正用標準ガ
スSGの濃度はガス分析装置Ｂに対して最適のも
のでなければならず、従つて精度よく濃度制御さ
れる必要があるが、各マスフローコントローラ６
３，６４が互いに独立して制御される従来装置に
あつては、経時変化に基づくマスフローコントロ
ーラ６３，６４の劣化等による性能の低下を自ら
検出できない。そのため、他の標準ガスと比較し
たり、標準ガス発生機内の各制御機器のレンジの
相関を比較するなどして性能チエツクが行なわれ
るが、前記チエツク法においてはガス分析装置Ｂ
を用いる必要があり、前記発生機内のみで対処で
きない欠点があつた。更に、ガス分析装置Ｂを用
いて行なうため、該分析装置Ｂの再現性精度も無
視しえず、誤差要因の１つになつていた。
スSGの濃度はガス分析装置Ｂに対して最適のも
のでなければならず、従つて精度よく濃度制御さ
れる必要があるが、各マスフローコントローラ６
３，６４が互いに独立して制御される従来装置に
あつては、経時変化に基づくマスフローコントロ
ーラ６３，６４の劣化等による性能の低下を自ら
検出できない。そのため、他の標準ガスと比較し
たり、標準ガス発生機内の各制御機器のレンジの
相関を比較するなどして性能チエツクが行なわれ
るが、前記チエツク法においてはガス分析装置Ｂ
を用いる必要があり、前記発生機内のみで対処で
きない欠点があつた。更に、ガス分析装置Ｂを用
いて行なうため、該分析装置Ｂの再現性精度も無
視しえず、誤差要因の１つになつていた。
＜発明が解決しようとする問題点＞
本発明は上述の点にあつて、ガス分析装置を介
在させなくても自らマスフローコントローラのチ
エツクを行うことができ、これによつて高精度に
制御されたガスを調製することができる信頼性の
高いガス調製装置を提供することを目的とする。
在させなくても自らマスフローコントローラのチ
エツクを行うことができ、これによつて高精度に
制御されたガスを調製することができる信頼性の
高いガス調製装置を提供することを目的とする。
＜問題点を解決するための手段＞
上述の目的を達成するため、本発明において
は、成分ガス流路と希釈ガス流路との接続点より
下流側のガス流路及び前記成分ガス流路に、それ
ぞれマスフローメータとバルブとから成るマスフ
ローコントローラを設けている。
は、成分ガス流路と希釈ガス流路との接続点より
下流側のガス流路及び前記成分ガス流路に、それ
ぞれマスフローメータとバルブとから成るマスフ
ローコントローラを設けている。
＜実施例＞
以下、本発明の実施例を第１図乃至第３図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
第１図は所謂一段希釈を採用した標準ガス発生
機の構成例を示すもので、同図において、DLは
図外の希釈ガス源に接続され希釈ガスDGを流す
希釈ガス流路、CLは図外の成分ガス源に接続さ
れ成分ガスCGを流す成分ガス流路であり、Ｍは
前記両ガス流路DL，CLの接続点に設けられるガ
ス混合部である。SLは前記ガス混合物Ｍの下流
側のガス流路としての標準ガス流路で標準ガス
SGが流れる。Ｂはガス分析装置である。
機の構成例を示すもので、同図において、DLは
図外の希釈ガス源に接続され希釈ガスDGを流す
希釈ガス流路、CLは図外の成分ガス源に接続さ
れ成分ガスCGを流す成分ガス流路であり、Ｍは
前記両ガス流路DL，CLの接続点に設けられるガ
ス混合部である。SLは前記ガス混合物Ｍの下流
側のガス流路としての標準ガス流路で標準ガス
SGが流れる。Ｂはガス分析装置である。
１，２はそれぞれ希釈ガス流路DL、成分ガス
流路CLに設けられた電磁弁の如きストツプバル
ブ（以下、SVと表わす）ものである。そして、
１１，１２はそれぞれ成分ガス流路CL、標準ガ
ス流路SLに設けられた従来周知のマスフローコ
ントローラ（以下、SECと表わす）で、マスフロ
ーメータとバルブとを組み合わせて成り、流量計
測と流量制御とを行なうことができる。
流路CLに設けられた電磁弁の如きストツプバル
ブ（以下、SVと表わす）ものである。そして、
１１，１２はそれぞれ成分ガス流路CL、標準ガ
ス流路SLに設けられた従来周知のマスフローコ
ントローラ（以下、SECと表わす）で、マスフロ
ーメータとバルブとを組み合わせて成り、流量計
測と流量制御とを行なうことができる。
上述のように構成した標準ガス発生機におい
て、成分ガスCGを５倍に希釈してガス分析装置
Ｂに供給するには、例えばSEC１１によつて成分
ガス流路CLの流量を200ml／分と設定し、他方、
SEC１２によつて標準ガス流路SLの流量を800
ml／分と設定すればよい。
て、成分ガスCGを５倍に希釈してガス分析装置
Ｂに供給するには、例えばSEC１１によつて成分
ガス流路CLの流量を200ml／分と設定し、他方、
SEC１２によつて標準ガス流路SLの流量を800
ml／分と設定すればよい。
そして、SEC１１，１２の計測又は制御に狂い
が生じてないかを相互にその性能チエツク（これ
をクロスチエツクという）するには、SV１のみ
を閉とした状態で成分ガスCGを、SV２−SEC１
１−ガス混合部Ｍ−SEC１２の順に流れるように
する。このとき両方のSEC１１，１２による流量
の計測値が一致しておれば前記SEC１１，１２は
いずれも正常であると判断できる。又、両方の
SEC１１，１２による計測値に無視し得ない差が
あるときはいずれか一方の、又は両方のSEC１
１，１２に狂いが生じたものと判断することがで
き、これに基づきSEC１１，１２の点検及び取換
えを行なえばよい。
が生じてないかを相互にその性能チエツク（これ
をクロスチエツクという）するには、SV１のみ
を閉とした状態で成分ガスCGを、SV２−SEC１
１−ガス混合部Ｍ−SEC１２の順に流れるように
する。このとき両方のSEC１１，１２による流量
の計測値が一致しておれば前記SEC１１，１２は
いずれも正常であると判断できる。又、両方の
SEC１１，１２による計測値に無視し得ない差が
あるときはいずれか一方の、又は両方のSEC１
１，１２に狂いが生じたものと判断することがで
き、これに基づきSEC１１，１２の点検及び取換
えを行なえばよい。
上述の説明から判るように、上流側に位置する
SEC１１を流量制御素子並びに流量計測素子とし
て用い、下流側に位置するSEC１２を流量計測素
子として、各SEC１１，１２における流量を測定
することによつて、SEC１１，１２のクロスチエ
ツクを行なうようにしているので、ガス調製装置
内のみでSEC１１，１２の性能チエツクを行なう
ことができる。
SEC１１を流量制御素子並びに流量計測素子とし
て用い、下流側に位置するSEC１２を流量計測素
子として、各SEC１１，１２における流量を測定
することによつて、SEC１１，１２のクロスチエ
ツクを行なうようにしているので、ガス調製装置
内のみでSEC１１，１２の性能チエツクを行なう
ことができる。
第２図は、本発明の他の実施例を示すもので、
成分ガス流路CLのSV２よりも上流側の点Ｐにお
いて分岐流路CL′，CL″が接続され、それぞれの
分岐流路CL′，CL″にSV３とSEC１３、SV４と
SEC１４を直列に設けて標準ガス発生機を構成し
ている。このように分岐流路CL′，CL″を設け、
SEC１１，１３，１４として流量レンジの異なる
ものを使用すれば、標準ガスSGとして種々の濃
度のものが得られる。なお、第２図において第１
図のものと同様の構成部材には同一符号を付して
その説明を省略する。
成分ガス流路CLのSV２よりも上流側の点Ｐにお
いて分岐流路CL′，CL″が接続され、それぞれの
分岐流路CL′，CL″にSV３とSEC１３、SV４と
SEC１４を直列に設けて標準ガス発生機を構成し
ている。このように分岐流路CL′，CL″を設け、
SEC１１，１３，１４として流量レンジの異なる
ものを使用すれば、標準ガスSGとして種々の濃
度のものが得られる。なお、第２図において第１
図のものと同様の構成部材には同一符号を付して
その説明を省略する。
このように構成した標準ガス発生機において各
SEC１１，１２，１３，１４のクロスチエツクを
行うには、次のようにすればよい。SV２を開き、
SV１，３，４を閉じ、成分ガスCGをSV２−
SEC１１−ガス混合部Ｍ−SEC１２の順に流れる
ようにすると、前記第１図の実施例において説明
したのと同様に、SEC１１，１２のクロスチエツ
クを行なうことができる。又、SV３を開き、SV
１，２，４を閉じ、成分ガスCGをSV３−SEC１
３−SEC１１の順に流れるようにすると、SEC１
１，１３のクロスチエツクができる。更に、SV
４を開き、SV１，２，３を閉じ、成分ガスCGを
SV４−SEC１４−SEC１３の順に流れるように
すると、SEC１３，１４のクロスチエツクがで
き、これら操作を行なうことにより、SEC１１，
１２，１３，１４の性能チエツクを行なうことが
できる。
SEC１１，１２，１３，１４のクロスチエツクを
行うには、次のようにすればよい。SV２を開き、
SV１，３，４を閉じ、成分ガスCGをSV２−
SEC１１−ガス混合部Ｍ−SEC１２の順に流れる
ようにすると、前記第１図の実施例において説明
したのと同様に、SEC１１，１２のクロスチエツ
クを行なうことができる。又、SV３を開き、SV
１，２，４を閉じ、成分ガスCGをSV３−SEC１
３−SEC１１の順に流れるようにすると、SEC１
１，１３のクロスチエツクができる。更に、SV
４を開き、SV１，２，３を閉じ、成分ガスCGを
SV４−SEC１４−SEC１３の順に流れるように
すると、SEC１３，１４のクロスチエツクがで
き、これら操作を行なうことにより、SEC１１，
１２，１３，１４の性能チエツクを行なうことが
できる。
第３図は、本発明の更に他の実施例を示すもの
で、第１図、第２図に示したものと異なり、成分
ガスCGは２回の亘つて希釈される所謂二段希釈
を採用した標準ガス発生機の構成例を示してい
る。同図において、DLは希釈ガス流路で、その
上流側から順次、SV３１、SEC２１、流量計測
のみを行なうマスフローメータ（以下、SEFと表
わす）４１、ガス混合部（以下、第２混合部とい
う）M2が設けられている。そして、前記SV３１
とSEC２１との中間点P2と、第２混合部M2との
間にはガス側流路BLが設けられており、該ガス
側流路BL上には上流側から順に、レギユレータ
５１、圧力計５２、SV３４、SEF４２、ガス混
合部（以下、第１混合部という）M1、SEC２３
が設けられている。
で、第１図、第２図に示したものと異なり、成分
ガスCGは２回の亘つて希釈される所謂二段希釈
を採用した標準ガス発生機の構成例を示してい
る。同図において、DLは希釈ガス流路で、その
上流側から順次、SV３１、SEC２１、流量計測
のみを行なうマスフローメータ（以下、SEFと表
わす）４１、ガス混合部（以下、第２混合部とい
う）M2が設けられている。そして、前記SV３１
とSEC２１との中間点P2と、第２混合部M2との
間にはガス側流路BLが設けられており、該ガス
側流路BL上には上流側から順に、レギユレータ
５１、圧力計５２、SV３４、SEF４２、ガス混
合部（以下、第１混合部という）M1、SEC２３
が設けられている。
CLは成分ガス流路で、その上流側から順次、
SV３５、SEC２２、SV３６が設けられており、
該成分ガス流路CLの下流端は前記第１混合部M1
に接続されている。そして、前記希釈ガス流路
DLにおけるSV３１の上流側の点P1と、成分ガス
流路CLにおけるSV３５とSEC２２との中間点P3
との間に、SV３３を有するジヨイント流路JLが
設けられている。
SV３５、SEC２２、SV３６が設けられており、
該成分ガス流路CLの下流端は前記第１混合部M1
に接続されている。そして、前記希釈ガス流路
DLにおけるSV３１の上流側の点P1と、成分ガス
流路CLにおけるSV３５とSEC２２との中間点P3
との間に、SV３３を有するジヨイント流路JLが
設けられている。
SLは前記第２混合部M2の下流側に設けられる
標準ガス流路で、SV３２を備えるとともに、ガ
ス出口５３を有している。このガス出口５３は図
外のガス分析装置に接続されている。又、第１混
合部M1とSEC２３との中間点P4とガス排出口５
４との間にガス排出流路XLが設けられ、２４，
３７はそれぞれ該流路XL上に設けられるSEC，
SXである。
標準ガス流路で、SV３２を備えるとともに、ガ
ス出口５３を有している。このガス出口５３は図
外のガス分析装置に接続されている。又、第１混
合部M1とSEC２３との中間点P4とガス排出口５
４との間にガス排出流路XLが設けられ、２４，
３７はそれぞれ該流路XL上に設けられるSEC，
SXである。
前記SV３２の下流側の点P5とSV３７の下流側
の点P6との間に、標準ガス流路SLにおける標準
ガスSGの圧力を検出し、これを制御するための
圧力制御流路KLが設けられてあり、５５は圧力
計、５６は背圧レギユレータである。
の点P6との間に、標準ガス流路SLにおける標準
ガスSGの圧力を検出し、これを制御するための
圧力制御流路KLが設けられてあり、５５は圧力
計、５６は背圧レギユレータである。
なお、前記レギユレータ５１はSEC２３，２４
の圧力を制御するために設けられている。
の圧力を制御するために設けられている。
上述のように構成した標準ガス発生機におい
て、通常、希釈ガスDGはSV３１を経てSEC２１
において流量制御され、SEF４１で流量測定さ
れ、第２混合部M2に至るが、SV３４を開いてお
くと、希釈ガスDGの一部はレギユレータ５１、
SV３４、SEF４２を経て第１混合部M1に至る。
て、通常、希釈ガスDGはSV３１を経てSEC２１
において流量制御され、SEF４１で流量測定さ
れ、第２混合部M2に至るが、SV３４を開いてお
くと、希釈ガスDGの一部はレギユレータ５１、
SV３４、SEF４２を経て第１混合部M1に至る。
一方、成分ガスCGはSV３５を経てSEC２２に
おいて流量制御され、第１混合部M1において希
釈ガスDGと混合し、希釈される。この希釈され
た第１次希釈ガスはGEC２３，２４のバルブの
開度によつて定められる流量比に分流され、SEC
２３を経た前記第１次希釈ガスは第２混合部M2
において更に希釈ガスDGと合流し、ここでさら
に希釈された後所定濃度の標準ガスSGとしてガ
ス出口５３からガス分析装置に供給される。
おいて流量制御され、第１混合部M1において希
釈ガスDGと混合し、希釈される。この希釈され
た第１次希釈ガスはGEC２３，２４のバルブの
開度によつて定められる流量比に分流され、SEC
２３を経た前記第１次希釈ガスは第２混合部M2
において更に希釈ガスDGと合流し、ここでさら
に希釈された後所定濃度の標準ガスSGとしてガ
ス出口５３からガス分析装置に供給される。
ここで、標準ガスSGの希釈率（D.R）は、
SEC２１，２２，２３，２４の制御流量をそれぞ
れQ1、Q2、Q3、Q4とすると、次式で表わされ
る。
SEC２１，２２，２３，２４の制御流量をそれぞ
れQ1、Q2、Q3、Q4とすると、次式で表わされ
る。
D.R＝Q2×Q3／（Q1＋Q3）（Q3＋Q4）
そして、SEC２１〜２４、SEF４１，４２をク
ロスチエツクするには次のようにして行なう。
ロスチエツクするには次のようにして行なう。
SV３３，３４，３６，３７を閉じ、SV３
１，３２を開いた状態で、希釈ガスDGを流
し、SEC２１で流量制御し、SEF４１で流量測
定することにより、SEC２１とSEF４１のクロ
スチエツクができる。
１，３２を開いた状態で、希釈ガスDGを流
し、SEC２１で流量制御し、SEF４１で流量測
定することにより、SEC２１とSEF４１のクロ
スチエツクができる。
SV３１，３４，３５，３７を閉じ、SV３
２，３３，３６を開いた状態で、希釈ガスDG
を流し、SEC２２で流量制御し、SEC２３で流
量測定することにより、SEC２２，２３のクロ
スチエツクができる。
２，３３，３６を開いた状態で、希釈ガスDG
を流し、SEC２２で流量制御し、SEC２３で流
量測定することにより、SEC２２，２３のクロ
スチエツクができる。
上記において、SV３２を閉じ、SV３７を
開いた状態で、希釈ガスDGを流し、SEC２２
で流量制御し、SEC２４で流量測定することに
より、SEC２２，２４のクロスチエツクができ
る。
開いた状態で、希釈ガスDGを流し、SEC２２
で流量制御し、SEC２４で流量測定することに
より、SEC２２，２４のクロスチエツクができ
る。
SV３３，３６，３７を閉じ、SV３２，３４
を開いた状態で、希釈ガスDGを流し、SEC２
３で流量制御し、SEF４２で流量計測すること
により、SEC２３とSEF４２のクロスチエツク
ができる。
を開いた状態で、希釈ガスDGを流し、SEC２
３で流量制御し、SEF４２で流量計測すること
により、SEC２３とSEF４２のクロスチエツク
ができる。
上記において、SV３２を閉じ、SV３７を
開いた状態で、希釈ガスDGを流し、SEC２４
で流量制御し、SEF４２で流量計測することに
より、SEC２４とSEF４２のクロスチエツクが
できる。
開いた状態で、希釈ガスDGを流し、SEC２４
で流量制御し、SEF４２で流量計測することに
より、SEC２４とSEF４２のクロスチエツクが
できる。
又、全てのSV３１〜３７を閉じた状態におけ
るSEC２１〜２４、SEF４１，４２における指示
値が「ゼロ」であるかどうか確認することによ
り、所謂ゼロ点校正をすることができ、これによ
つて高精度な標準ガス発生機を得ることができ
る。
るSEC２１〜２４、SEF４１，４２における指示
値が「ゼロ」であるかどうか確認することによ
り、所謂ゼロ点校正をすることができ、これによ
つて高精度な標準ガス発生機を得ることができ
る。
なお、本発明は上述した標準ガス発生機のみに
限られるものではないことは勿論である。
限られるものではないことは勿論である。
＜発明の効果＞
以上詳述したように、本発明によれば成分ガス
と希釈ガスとが混合されるガス混合部より下流側
のガス流路及び成分ガス流路にそれぞれマスフロ
ーメータとバルブとから成るマスフローコントロ
ーラを設けているので、前記マスフローコントロ
ーラ同士でクロスチエツクすることができる。従
つて、従来装置と異なりガス調製装置内のみで機
能チエツクすることができ、別途測定機器や比較
用の標準ガス等を用意しなくてもよい。又、任意
にクロスチエツクを行なうことができるので、こ
の種ガス調製装置の信頼性を向上させることがで
きる。
と希釈ガスとが混合されるガス混合部より下流側
のガス流路及び成分ガス流路にそれぞれマスフロ
ーメータとバルブとから成るマスフローコントロ
ーラを設けているので、前記マスフローコントロ
ーラ同士でクロスチエツクすることができる。従
つて、従来装置と異なりガス調製装置内のみで機
能チエツクすることができ、別途測定機器や比較
用の標準ガス等を用意しなくてもよい。又、任意
にクロスチエツクを行なうことができるので、こ
の種ガス調製装置の信頼性を向上させることがで
きる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２
図は他の実施例を示す構成図、第３図は更に他の
実施例を示す構成図、第４図は従来技術を説明す
るための構成図である。 １１，１２，１３，１４，２１，２２，２３，
２４……マスフローコントローラ（SEC）、DL…
…希釈ガス流路、CL……成分ガス流路、SL……
ガス流路、Ｍ，M1，M2……ガス混合部、DG…
…希釈ガス、CG……成分ガス。
図は他の実施例を示す構成図、第３図は更に他の
実施例を示す構成図、第４図は従来技術を説明す
るための構成図である。 １１，１２，１３，１４，２１，２２，２３，
２４……マスフローコントローラ（SEC）、DL…
…希釈ガス流路、CL……成分ガス流路、SL……
ガス流路、Ｍ，M1，M2……ガス混合部、DG…
…希釈ガス、CG……成分ガス。
Claims (1)
- １ 成分ガス流路と希釈ガス流路とを備え、成分
ガスを希釈ガスで希釈して所定濃度のガスを発生
させるガス調製装置において、前記成分ガスと希
釈ガスとが混合されるガス混合部より下流側のガ
ス流路及び前記成分ガス流路に、それぞれマスフ
ローメータとバルブとから成るマスフローコント
ローラを設けたことを特徴とするガス調製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59237275A JPS61116638A (ja) | 1984-11-09 | 1984-11-09 | ガス調製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59237275A JPS61116638A (ja) | 1984-11-09 | 1984-11-09 | ガス調製装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61116638A JPS61116638A (ja) | 1986-06-04 |
| JPH0327059B2 true JPH0327059B2 (ja) | 1991-04-12 |
Family
ID=17012974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59237275A Granted JPS61116638A (ja) | 1984-11-09 | 1984-11-09 | ガス調製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61116638A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0629063A (ja) * | 1992-05-27 | 1994-02-04 | Nikou Denki Kogyo Kk | Ｆ型コネクタ |
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| JP5855921B2 (ja) * | 2010-12-17 | 2016-02-09 | 株式会社堀場エステック | ガス濃度調整装置 |
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Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS601053B2 (ja) * | 1979-05-04 | 1985-01-11 | 横河電機株式会社 | 流体混合比率調節計 |
-
1984
- 1984-11-09 JP JP59237275A patent/JPS61116638A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61116638A (ja) | 1986-06-04 |
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