JPH0327316B2 - - Google Patents
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- JPH0327316B2 JPH0327316B2 JP62174938A JP17493887A JPH0327316B2 JP H0327316 B2 JPH0327316 B2 JP H0327316B2 JP 62174938 A JP62174938 A JP 62174938A JP 17493887 A JP17493887 A JP 17493887A JP H0327316 B2 JPH0327316 B2 JP H0327316B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- convex cylindrical
- laser beam
- cylindrical mirror
- laser
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- Lenses (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザビーム照射法、特にレーザビー
ム照射における照射光の形状を制御する方法及び
その装置に関するものである。 〔従来の技術〕 一般にレーザ加工において、照射部におけるビ
ーム形状をその加工に応じた最適な形状に制御す
ることは重要である。１例として、電縫管の溶接
において入熱の不足しがちな板厚中心部にレーザ
を投入することによつて板厚方向を均一に溶融
し、これにより溶接部品質の飛躍的向上をはかる
ようにした「ERW：レーザ複合溶接法」につい
て説明する。 投入されるビーム形状について最適な溶接を行
なうためには次のような制限が設けられる。即ち
照射部におけるビームの縦径は管の肉厚に応じて
変更されなければならず、一方ビームの横径はあ
る一定値以下に保つ必要がある。そこで考えられ
る光学系としては、これまで第１図に示すような
ものが提案されている（“Laser Focus”
Nov.1979 68頁「Ａ Convex Beam
Intesrator」）これは凹面鏡と凸面鏡を組合わせ
たものである。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところでこの組合せにおいては、両鏡間距離Ｄ
を変えることにより照射部におけるビーム形状を
制御するシステムであるが、このシステムだとビ
ームの縦（横）径を所望の値に設定すると同時に
ビームの横（縦）径も一義的に定まるため、縦径
横径とも同時に所望の値に設定することはできな
い。 以下その理由を説明すると、第２図は凹面鏡か
らの距離に応じてビームの縦径Ｖ及び横径Ｈかど
のように変化するかを示した図面である。図示の
如くＶ、Ｈ両カーブにずれが生ずるのは、ビーム
が凸面鏡、凹面鏡にある角度をなして入射するこ
とによる非点収差の影響で、横方向の焦点距離が
みかけ上縦方向の焦点距離より長くなるためであ
り、それ故ウエスト近傍でのビーム形状は、Ａ：
横長→Ｂ：円→Ｃ：縦長となる。 実験により横径Ｈが小さいほうが溶接性がよい
ことが確かめられているので、第２図に示すdh
が最小になるような距離Ｄを定めると、第２図の
両グラフが一義的に定まる。即ちこのときのビー
ムの縦径Ｖも一義的に定まるので、縦径Ｖを所望
の値にすることはできない。このように従来の技
術においては、ビーム形状を自由に制御すること
ができないという問題点があつた。 本発明は上記問題点を解決し、照射光の形状を
制御しうる照射制御方法および装置を提供する。 〔問題点を解決するための手段〕 上記問題点を解決するための第１の本発明は、
レーザ発振器から出たレーザビームを第１の凸円
柱鏡により１方向に拡大し、次に該レーザビーム
のうち、上記方向に対し90゜変位した方向成分を
第２の凸円柱鏡により拡大し、さらに該２方向に
拡大されたレーザビームを凹面鏡によつて集光す
ると共に、第１の凸円柱鏡と第２の凸円柱鏡の距
離及び第２の凸円柱鏡と凹面鏡の距離の一方また
は両方を変更して所望の形状のレーザビームを得
ることを特徴とするレーザビームの照射制御方法
であり、また第１の凸円柱鏡及び第２の凸円柱鏡
が拡大したそれぞれのレーザビームの径をレーザ
照射部において所望の大きさにし、また第１の凸
円柱鏡と第２の凸円柱鏡のいずれか一方を積分鏡
とし、該積分鏡によりレーザ照射部におけるレー
ザビームのエネルギー分布をも制御することを特
徴とするものである。 第２の本発明は、レーザ発振器から出たレーザ
ビームを１方向に拡大する第１の凸円柱鏡と、拡
大された該レーザビームのうち、上記方向に対し
て90゜変位した方向成分を拡大する第２の凸円柱
鏡と、該２方向に拡大されたレーザビームを集光
する凹面鏡とを箱体内に設置し、前記第１の凸円
柱鏡、第２の凸円柱鏡、凹面鏡のそれぞれに位置
調整装置を設けたことを特徴とするレーザビーム
の照射制御装置であり、また第１の凸円柱鏡と第
２の凸円柱鏡のいずれか１方がわん曲方向に対し
て直角方向に分割された積分鏡で構成されたもの
である。 〔作用〕 第３図は本発明の光学系を示す図面で、横方向
にカーブをもつ凸円柱鏡３、縦方向にカーブをも
つ凸円柱鏡４、凹面鏡５の３者から成り、各鏡間
距離D1，D2を適宜調整することができる。ここ
でビームの横径に注目すると、縦方向にカーブを
もつ凸円柱鏡４は横方向に対して平面鏡の役割し
かないので、ビーム横径の感じる光学系は第４図
に示す２枚鏡光学系と等価である。一方ビーム縦
径に注目すると、横方向にカーブをもつ凸円柱鏡
３は縦方向に対して平面鏡の役割しかないので、
ビーム縦径の感じる光学系は第５図に示す２枚鏡
光学系と等価である。ここで第３図における３，
４，５の鏡のいずれか２枚を移動可能にすれば
D1，D2を独立に変更することができ、これから
当然のことながら第４図における両鏡間距離D1
＋D2と第５図における両鏡間距離D2を独立に変
更される。そしてこのことは前記した第２図のビ
ーム系Ｖ、Ｈおのおののカーブを独立して動かす
ことが可能になつたことを意味する。 例えば第３図におけるD1＋D2を一定に保ちつ
つD2を小さくすると、第６図に示すように横方
向のビーム径の変化即ち曲線Ｈを固定したまま縦
方向のビーム径の変化即ち曲線Ｖを、VA→VB→
VCと動かすことができる。これは即ち溶接点に
おける横径を一定に保つたまま縦径を変化させう
ることを意味し、この場合ビーム形状はＡ→Ｂ→
Ｃとなる。以上のように本発明を用いると、レー
ザ照射部におけるビーム形状を自由に制御するこ
とができる。 （実施例） ここで本発明の装置について第７図及び第８図
に基づいて更に具体的に説明する。 第７図は本発明の一実施例を示す装置であり、
レーザビームの照射装置のミラー系を示す断面図
である。第１の凸円柱鏡３はミラーホルダー６内
にはめ込まれ、該ミラーホルダー６は、支持棒７
に回転自在取付けられている。 第２の凸円柱鏡４はミラーホルダー６−１には
め込まれ、該ミラーホルダー６−１はスライダー
８に回転自在に取付けられ、かつ該スライダー８
は支持棒９上を自在に移動する。該凸円柱鏡４は
前記凸円柱鏡３と対峙して配置される。凹面鏡５
は第２の凸円柱鏡４と対峙して配置され、同様に
ホルダー６−２を介して支持棒９−１上に自在に
移動するスライダー８−１に回転自在に取付けら
れる。１１，１２は平板鏡である。以上のミラー
系が箱体１３内に収納されている。 第８図は第２の凸円柱鏡４のミラーホルダー６
−１の駆動機構を更に詳細に示したもので、支持
棒９に移動自在に嵌挿されたスライダー８より突
出したシヤフト１０の先端に、該シヤフト１０の
中心線を中心にして回転できるようにミラーホル
ダー６−１が取付けられている。 このような装置において、発振器より投入され
たビームは、平板鏡１１，１２により伝送されて
第１の凸円柱鏡３例えば横方向にカーブを有する
凸円柱鏡に投入される。該凸円柱鏡３で投射され
たビームは、ビームの横径だけが広げられた形状
となる。かかる投射ビームが第２の凸円柱鏡４例
えば縦方向にカーブを有する凸円柱鏡に投入され
ると、該凸円柱鏡４では投入ビームの横方向の広
がりはそのままで、90゜変位した方向成分即ちビ
ームの縦方向の成分だけが広げられた投射ビーム
となる。 ここで投射ビームの照射部における縦径を大き
くするために鏡間距離D1＋D2を一定にして、即
ち第１の凸円柱鏡３と凹面鏡５との距離を一定に
して鏡間距離D2だけを大きくする。この場合、
D2が大きくなつた分だけD1を小さくする必要が
あるので、凸円柱鏡４と凹面鏡５を同時に移動す
る。以上の操作により凹面鏡よりの投射ビームは
D2の値に応じた形状に制御され、溶接点へ投射
される。この場合は凸円柱鏡４と凹面鏡５を移動
させたが、この他、凸円柱鏡３と凸円柱鏡４を移
動させても、また凸円柱鏡３と凹面鏡５を移動さ
せても同様の効果が得られる。なお縦径を一定に
保つたまま横径を変える場合は、D2を一定に保
つたままD1＋D2を変化させればよいが、これは
当然D2を一定に保つたままD1を変えることと等
価である。この場合は凸円柱鏡４及び凹面鏡５の
位置を変えるか、または凸円柱鏡３のみの位置を
変えることにより実現できる。また凸円柱鏡３を
縦方向にカーブをもつ凸円柱鏡にし、かつ凸円柱
鏡４を横方向にカーブをもつ凸円柱鏡にしても同
様の効果が得られる。この場合、横径を一定に保
ちたければD2を一定にすればよく、縦径を一定
に保ちたければD1＋D2を一定にすればよい。 なお本発明を前記した「FRW：レーザ複合溶
接法」に適用する場合には、縦方向のエネルギー
分布を最適なものにする必要があるが、これは凸
円柱鏡４をわん曲方向に対して直角方向に分割さ
れた積分鏡にして、この積分鏡を構成する各セグ
メントの縦方向の集光方向を調整することにより
実現できる。 第９図はこのような積分鏡の１例であるが、積
分鏡４−１の各々のセグメント４−１−Ａ，４−
１−Ｂ…の裏に調整ネジを設けて、各ネジを操作
することにより集光方向の調整を行なう。一般に
投入ビームの形状及びエネルギー分布は発振器の
種類によつて変わるが、このように積分鏡を用い
ることにより、発振器の種類に関係なく所望のエ
ネルギー分布を実現できる。例えばERWとの併
合の場合、縦方向のエネルギー分布を均一にする
ことが可能である。 以上の説明は本発明を電縫管等の溶接を主体に
して述べたが、これにとどまらず、レーザ加工一
般において照射部におけるビーム形状、エネルギ
ー分布をその加工に応じた最適なものに制御する
ことは極めて重要であるが故に、本発明は極めて
有効である。 以下第７図に示す光学系により実際にレーザビ
ームを集光することによつて次の結果がえられ
た。
ム照射における照射光の形状を制御する方法及び
その装置に関するものである。 〔従来の技術〕 一般にレーザ加工において、照射部におけるビ
ーム形状をその加工に応じた最適な形状に制御す
ることは重要である。１例として、電縫管の溶接
において入熱の不足しがちな板厚中心部にレーザ
を投入することによつて板厚方向を均一に溶融
し、これにより溶接部品質の飛躍的向上をはかる
ようにした「ERW：レーザ複合溶接法」につい
て説明する。 投入されるビーム形状について最適な溶接を行
なうためには次のような制限が設けられる。即ち
照射部におけるビームの縦径は管の肉厚に応じて
変更されなければならず、一方ビームの横径はあ
る一定値以下に保つ必要がある。そこで考えられ
る光学系としては、これまで第１図に示すような
ものが提案されている（“Laser Focus”
Nov.1979 68頁「Ａ Convex Beam
Intesrator」）これは凹面鏡と凸面鏡を組合わせ
たものである。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところでこの組合せにおいては、両鏡間距離Ｄ
を変えることにより照射部におけるビーム形状を
制御するシステムであるが、このシステムだとビ
ームの縦（横）径を所望の値に設定すると同時に
ビームの横（縦）径も一義的に定まるため、縦径
横径とも同時に所望の値に設定することはできな
い。 以下その理由を説明すると、第２図は凹面鏡か
らの距離に応じてビームの縦径Ｖ及び横径Ｈかど
のように変化するかを示した図面である。図示の
如くＶ、Ｈ両カーブにずれが生ずるのは、ビーム
が凸面鏡、凹面鏡にある角度をなして入射するこ
とによる非点収差の影響で、横方向の焦点距離が
みかけ上縦方向の焦点距離より長くなるためであ
り、それ故ウエスト近傍でのビーム形状は、Ａ：
横長→Ｂ：円→Ｃ：縦長となる。 実験により横径Ｈが小さいほうが溶接性がよい
ことが確かめられているので、第２図に示すdh
が最小になるような距離Ｄを定めると、第２図の
両グラフが一義的に定まる。即ちこのときのビー
ムの縦径Ｖも一義的に定まるので、縦径Ｖを所望
の値にすることはできない。このように従来の技
術においては、ビーム形状を自由に制御すること
ができないという問題点があつた。 本発明は上記問題点を解決し、照射光の形状を
制御しうる照射制御方法および装置を提供する。 〔問題点を解決するための手段〕 上記問題点を解決するための第１の本発明は、
レーザ発振器から出たレーザビームを第１の凸円
柱鏡により１方向に拡大し、次に該レーザビーム
のうち、上記方向に対し90゜変位した方向成分を
第２の凸円柱鏡により拡大し、さらに該２方向に
拡大されたレーザビームを凹面鏡によつて集光す
ると共に、第１の凸円柱鏡と第２の凸円柱鏡の距
離及び第２の凸円柱鏡と凹面鏡の距離の一方また
は両方を変更して所望の形状のレーザビームを得
ることを特徴とするレーザビームの照射制御方法
であり、また第１の凸円柱鏡及び第２の凸円柱鏡
が拡大したそれぞれのレーザビームの径をレーザ
照射部において所望の大きさにし、また第１の凸
円柱鏡と第２の凸円柱鏡のいずれか一方を積分鏡
とし、該積分鏡によりレーザ照射部におけるレー
ザビームのエネルギー分布をも制御することを特
徴とするものである。 第２の本発明は、レーザ発振器から出たレーザ
ビームを１方向に拡大する第１の凸円柱鏡と、拡
大された該レーザビームのうち、上記方向に対し
て90゜変位した方向成分を拡大する第２の凸円柱
鏡と、該２方向に拡大されたレーザビームを集光
する凹面鏡とを箱体内に設置し、前記第１の凸円
柱鏡、第２の凸円柱鏡、凹面鏡のそれぞれに位置
調整装置を設けたことを特徴とするレーザビーム
の照射制御装置であり、また第１の凸円柱鏡と第
２の凸円柱鏡のいずれか１方がわん曲方向に対し
て直角方向に分割された積分鏡で構成されたもの
である。 〔作用〕 第３図は本発明の光学系を示す図面で、横方向
にカーブをもつ凸円柱鏡３、縦方向にカーブをも
つ凸円柱鏡４、凹面鏡５の３者から成り、各鏡間
距離D1，D2を適宜調整することができる。ここ
でビームの横径に注目すると、縦方向にカーブを
もつ凸円柱鏡４は横方向に対して平面鏡の役割し
かないので、ビーム横径の感じる光学系は第４図
に示す２枚鏡光学系と等価である。一方ビーム縦
径に注目すると、横方向にカーブをもつ凸円柱鏡
３は縦方向に対して平面鏡の役割しかないので、
ビーム縦径の感じる光学系は第５図に示す２枚鏡
光学系と等価である。ここで第３図における３，
４，５の鏡のいずれか２枚を移動可能にすれば
D1，D2を独立に変更することができ、これから
当然のことながら第４図における両鏡間距離D1
＋D2と第５図における両鏡間距離D2を独立に変
更される。そしてこのことは前記した第２図のビ
ーム系Ｖ、Ｈおのおののカーブを独立して動かす
ことが可能になつたことを意味する。 例えば第３図におけるD1＋D2を一定に保ちつ
つD2を小さくすると、第６図に示すように横方
向のビーム径の変化即ち曲線Ｈを固定したまま縦
方向のビーム径の変化即ち曲線Ｖを、VA→VB→
VCと動かすことができる。これは即ち溶接点に
おける横径を一定に保つたまま縦径を変化させう
ることを意味し、この場合ビーム形状はＡ→Ｂ→
Ｃとなる。以上のように本発明を用いると、レー
ザ照射部におけるビーム形状を自由に制御するこ
とができる。 （実施例） ここで本発明の装置について第７図及び第８図
に基づいて更に具体的に説明する。 第７図は本発明の一実施例を示す装置であり、
レーザビームの照射装置のミラー系を示す断面図
である。第１の凸円柱鏡３はミラーホルダー６内
にはめ込まれ、該ミラーホルダー６は、支持棒７
に回転自在取付けられている。 第２の凸円柱鏡４はミラーホルダー６−１には
め込まれ、該ミラーホルダー６−１はスライダー
８に回転自在に取付けられ、かつ該スライダー８
は支持棒９上を自在に移動する。該凸円柱鏡４は
前記凸円柱鏡３と対峙して配置される。凹面鏡５
は第２の凸円柱鏡４と対峙して配置され、同様に
ホルダー６−２を介して支持棒９−１上に自在に
移動するスライダー８−１に回転自在に取付けら
れる。１１，１２は平板鏡である。以上のミラー
系が箱体１３内に収納されている。 第８図は第２の凸円柱鏡４のミラーホルダー６
−１の駆動機構を更に詳細に示したもので、支持
棒９に移動自在に嵌挿されたスライダー８より突
出したシヤフト１０の先端に、該シヤフト１０の
中心線を中心にして回転できるようにミラーホル
ダー６−１が取付けられている。 このような装置において、発振器より投入され
たビームは、平板鏡１１，１２により伝送されて
第１の凸円柱鏡３例えば横方向にカーブを有する
凸円柱鏡に投入される。該凸円柱鏡３で投射され
たビームは、ビームの横径だけが広げられた形状
となる。かかる投射ビームが第２の凸円柱鏡４例
えば縦方向にカーブを有する凸円柱鏡に投入され
ると、該凸円柱鏡４では投入ビームの横方向の広
がりはそのままで、90゜変位した方向成分即ちビ
ームの縦方向の成分だけが広げられた投射ビーム
となる。 ここで投射ビームの照射部における縦径を大き
くするために鏡間距離D1＋D2を一定にして、即
ち第１の凸円柱鏡３と凹面鏡５との距離を一定に
して鏡間距離D2だけを大きくする。この場合、
D2が大きくなつた分だけD1を小さくする必要が
あるので、凸円柱鏡４と凹面鏡５を同時に移動す
る。以上の操作により凹面鏡よりの投射ビームは
D2の値に応じた形状に制御され、溶接点へ投射
される。この場合は凸円柱鏡４と凹面鏡５を移動
させたが、この他、凸円柱鏡３と凸円柱鏡４を移
動させても、また凸円柱鏡３と凹面鏡５を移動さ
せても同様の効果が得られる。なお縦径を一定に
保つたまま横径を変える場合は、D2を一定に保
つたままD1＋D2を変化させればよいが、これは
当然D2を一定に保つたままD1を変えることと等
価である。この場合は凸円柱鏡４及び凹面鏡５の
位置を変えるか、または凸円柱鏡３のみの位置を
変えることにより実現できる。また凸円柱鏡３を
縦方向にカーブをもつ凸円柱鏡にし、かつ凸円柱
鏡４を横方向にカーブをもつ凸円柱鏡にしても同
様の効果が得られる。この場合、横径を一定に保
ちたければD2を一定にすればよく、縦径を一定
に保ちたければD1＋D2を一定にすればよい。 なお本発明を前記した「FRW：レーザ複合溶
接法」に適用する場合には、縦方向のエネルギー
分布を最適なものにする必要があるが、これは凸
円柱鏡４をわん曲方向に対して直角方向に分割さ
れた積分鏡にして、この積分鏡を構成する各セグ
メントの縦方向の集光方向を調整することにより
実現できる。 第９図はこのような積分鏡の１例であるが、積
分鏡４−１の各々のセグメント４−１−Ａ，４−
１−Ｂ…の裏に調整ネジを設けて、各ネジを操作
することにより集光方向の調整を行なう。一般に
投入ビームの形状及びエネルギー分布は発振器の
種類によつて変わるが、このように積分鏡を用い
ることにより、発振器の種類に関係なく所望のエ
ネルギー分布を実現できる。例えばERWとの併
合の場合、縦方向のエネルギー分布を均一にする
ことが可能である。 以上の説明は本発明を電縫管等の溶接を主体に
して述べたが、これにとどまらず、レーザ加工一
般において照射部におけるビーム形状、エネルギ
ー分布をその加工に応じた最適なものに制御する
ことは極めて重要であるが故に、本発明は極めて
有効である。 以下第７図に示す光学系により実際にレーザビ
ームを集光することによつて次の結果がえられ
た。
以上、詳述した如く本発明は、レーザ照射部
におけるビームの縦径、横径を完全に独立して制
御できるものであり、またその制御がビーム伝
送ミラーの位置を変えるだけという非常に速やか
な操作で可能である。更には積分鏡を構成する
各ミラーを調整することによりエネルギー分布制
御も可能であり、その効果は電縫管の溶接のみな
らずレーザ加工一般に対して極めて大きいもので
ある。
におけるビームの縦径、横径を完全に独立して制
御できるものであり、またその制御がビーム伝
送ミラーの位置を変えるだけという非常に速やか
な操作で可能である。更には積分鏡を構成する
各ミラーを調整することによりエネルギー分布制
御も可能であり、その効果は電縫管の溶接のみな
らずレーザ加工一般に対して極めて大きいもので
ある。
第１図は凹凸面鏡を組合わせた従来の光学系を
示した図、第２図は第１図の光学系によつて制御
されたビーム形状の変化を凹面鏡からの距離の関
数として表わした図、第３図は本発明の光学系を
説明する図、第４図、第５図は第３図の光学系の
機能をそれぞれ分解して示した図、第６図は本発
明の光学系により制御されたレーザビーム形状の
変化を表わした図、第７図は本発明の実施例の装
置の概略断面図、第８図はミラーの駆動機構を示
す斜視図、第９図は積分鏡の斜視図である。 １……凸面鏡、２，５……凹面鏡、３……横方
向にカーブをもつ凸円柱鏡、４……縦方向にカー
ブをもつ凸円柱鏡、４−１……積分鏡、６……ミ
ラーホルダー、７，９……支持棒、８……スライ
ダー、１０……シヤフト、１１，１２……平板
鏡、１３……箱体。
示した図、第２図は第１図の光学系によつて制御
されたビーム形状の変化を凹面鏡からの距離の関
数として表わした図、第３図は本発明の光学系を
説明する図、第４図、第５図は第３図の光学系の
機能をそれぞれ分解して示した図、第６図は本発
明の光学系により制御されたレーザビーム形状の
変化を表わした図、第７図は本発明の実施例の装
置の概略断面図、第８図はミラーの駆動機構を示
す斜視図、第９図は積分鏡の斜視図である。 １……凸面鏡、２，５……凹面鏡、３……横方
向にカーブをもつ凸円柱鏡、４……縦方向にカー
ブをもつ凸円柱鏡、４−１……積分鏡、６……ミ
ラーホルダー、７，９……支持棒、８……スライ
ダー、１０……シヤフト、１１，１２……平板
鏡、１３……箱体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ レーザ発振器から出たレーザビームを第１の
凸円柱鏡により１方向に拡大し、次に該レーザビ
ームのうち、上記方向に対し90゜変位した方向成
分を第２の凸円柱鏡により拡大し、さらに該２方
向に拡大されたレーザビームを凹面鏡によつて集
光すると共に、第１の凸円柱鏡と第２の凸円柱鏡
の距離及び第２の凸円柱鏡と凹面鏡の距離の一方
または両方を変更して所望の形状のレーザビーム
を得ることを特徴とするレーザビームの照射制御
方法。 ２ 第１の凸円柱鏡及び第２の凸円柱鏡が拡大し
たそれぞれのレーザビームの径をレーザ照射部に
おいて所望の大きさにする特許請求の範囲第１項
記載のレーザビームの照射制御方法。 ３ 第１の凸円柱鏡と第２の凸円柱鏡のいずれか
一方を積分鏡とし、該積分鏡によりレーザ照射部
におけるレーザビームのエネルギー分布をも制御
することを特徴とする特許請求の範囲第１項又は
第２項記載のレーザビームの照射制御方法。 ４ レーザ発振器から出たレーザビームを１方向
に拡大する第１の凸円柱鏡と、拡大された該レー
ザビームのうち、上記方向に対して90゜変位した
方向成分を拡大する第２の凸円柱鏡と、該２方向
に拡大されたレーザビームを集光する凹面鏡とを
箱体内に設置し、前記第１の凸円柱鏡、第２の凸
円柱鏡、凹面鏡のそれぞれに位置調整装置を設け
たことを特徴とするレーザビームの照射制御装
置。 ５ 第１の凸円柱鏡と第２の凸円柱鏡のいずれか
１方がわん曲方向に対して直角方向に分割された
積分鏡で構成された特許請求の範囲第４項記載の
レーザビームの照射制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62174938A JPS6418596A (en) | 1987-07-15 | 1987-07-15 | Method and device for controlling irradiation of laser beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62174938A JPS6418596A (en) | 1987-07-15 | 1987-07-15 | Method and device for controlling irradiation of laser beam |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6418596A JPS6418596A (en) | 1989-01-23 |
| JPH0327316B2 true JPH0327316B2 (ja) | 1991-04-15 |
Family
ID=15987353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62174938A Granted JPS6418596A (en) | 1987-07-15 | 1987-07-15 | Method and device for controlling irradiation of laser beam |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6418596A (ja) |
-
1987
- 1987-07-15 JP JP62174938A patent/JPS6418596A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6418596A (en) | 1989-01-23 |
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