JPH03280504A - Plane inductor - Google Patents
Plane inductorInfo
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- JPH03280504A JPH03280504A JP2081857A JP8185790A JPH03280504A JP H03280504 A JPH03280504 A JP H03280504A JP 2081857 A JP2081857 A JP 2081857A JP 8185790 A JP8185790 A JP 8185790A JP H03280504 A JPH03280504 A JP H03280504A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
本発明は、平面インダクタに関し、特に直流重畳特性を
改善した平面インダクタに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a planar inductor, and particularly to a planar inductor with improved DC superimposition characteristics.
(従来の技術)
従来、スパイラル状又はつづら折れ状の導体コイルの両
面を、絶縁層を介して強磁性体層で挟んだ構造の平面イ
ンダクタが知られている。第1図(A)は、このような
平面インダクタの一例を示す平面図であり、同図(B)
は、同図(A)のA−A’線に沿う断面図である。(Prior Art) Conventionally, a planar inductor is known which has a structure in which both sides of a spiral or zigzag conductor coil are sandwiched between ferromagnetic layers with an insulating layer interposed therebetween. FIG. 1(A) is a plan view showing an example of such a planar inductor, and FIG. 1(B) is a plan view showing an example of such a planar inductor.
is a sectional view taken along line AA' in FIG.
図中1は、スパイラル状導体コイルである。スパイラル
状導体コイル1は、絶縁層3bの両面にスパイラルコイ
ル2a、2bを設けている。そして、スルーホール4に
よって各スパイラルコイル2g、2bに同方向の電流が
流れるように、スパイラルコイル2a、2bを接続した
構造としている。In the figure, 1 is a spiral conductor coil. The spiral conductor coil 1 has spiral coils 2a and 2b provided on both sides of an insulating layer 3b. The spiral coils 2a and 2b are connected through the through holes 4 so that currents in the same direction flow through the spiral coils 2g and 2b.
ここで、第1図(A)中の実線及び破線は、それぞれ絶
縁層3bの表面側及び裏面側にあるスパイラルコイル2
a、2bの中心の軌跡を表わしている。このスパイラル
状導体コイル1の両面を絶縁層3a、3cを介して強磁
性薄帯又は強磁性薄膜5a、5bで挟むことにより平面
インダクタが構成されている。このように構成された平
面インダクタの端子6a、6b間に、インダクタンスが
形成される。Here, the solid line and the broken line in FIG. 1(A) indicate the spiral coil 2 on the front side and the back side of the insulating layer 3b, respectively.
It represents the locus of the center of a and 2b. A planar inductor is constructed by sandwiching both surfaces of this spiral conductor coil 1 between ferromagnetic ribbons or ferromagnetic thin films 5a and 5b via insulating layers 3a and 3c. An inductance is formed between the terminals 6a and 6b of the planar inductor configured in this way.
(発明が解決しようとする課1i)
上述の平面インダクタは、例えばDC−DCコンバータ
などの出力側のチョークコイルに適用される。この場合
、平面インダクタには直流が重畳された高周波電流が流
れる。こにため、良好な直流重畳特性が要求される。(Problem 1i to be Solved by the Invention) The above-described planar inductor is applied to a choke coil on the output side of a DC-DC converter, for example. In this case, a high frequency current with a superimposed direct current flows through the planar inductor. Therefore, good DC superposition characteristics are required.
ところが、従来の平面インダクタは、直流重畳特性が悪
い。これは、従来使用されている強磁性薄帯の磁気特性
が不適当なためである。すなわち、第1図の平面インダ
クタの場合、磁束は両面の強磁性薄帯5a、5bの面内
方向を流れる。そして、高インダクタンスを得るために
は、高透磁率強磁性薄帯を用いる。However, conventional planar inductors have poor DC superimposition characteristics. This is because the magnetic properties of conventionally used ferromagnetic ribbons are inappropriate. That is, in the case of the planar inductor shown in FIG. 1, magnetic flux flows in the in-plane direction of the ferromagnetic ribbons 5a and 5b on both sides. In order to obtain high inductance, a high magnetic permeability ferromagnetic ribbon is used.
しかしながら、高透磁率強磁性薄帯の飽和磁化が低い場
合には、小さな直流磁場が重畳されても磁束密度が飽和
してインダクタンスが低下し、直流重畳特性が悪くなる
。例えば、高透磁率強磁性体として、Coを主体とした
金属−半金属系の非晶質合金が知られている。しかし、
その飽和磁化はフェライトよりも高いものの充分ではな
く、直流重畳特性は悪い。However, when the saturation magnetization of the high permeability ferromagnetic ribbon is low, even if a small direct current magnetic field is superimposed, the magnetic flux density is saturated, the inductance is reduced, and the direct current superposition characteristics are deteriorated. For example, a metal-metalloid amorphous alloy mainly composed of Co is known as a high permeability ferromagnetic material. but,
Although its saturation magnetization is higher than that of ferrite, it is not sufficient, and its DC superimposition characteristics are poor.
なお、強磁性薄帯としてCo系非晶質合金を用いる場合
でも、これを積層すれば直流重畳特性をある程度改善す
ることができる。しかし、非晶質合金を積層すれば、そ
れだけ平面インダクタの厚さが増すため、平面インダク
タの薄形化を達成できない。Note that even when a Co-based amorphous alloy is used as the ferromagnetic ribbon, the direct current superimposition characteristics can be improved to some extent by laminating these alloys. However, if the amorphous alloy is laminated, the thickness of the planar inductor increases accordingly, making it impossible to reduce the thickness of the planar inductor.
このように平面インダクタの直流重畳特性が悪いと、イ
ンダクタンスが低下し、制御が困難になってDC−DC
コンバータの効率が低下する。このため、そのままでは
DC−DCコンバータなどへ適用することは不適当であ
る。If the DC superimposition characteristics of the planar inductor are poor as described above, the inductance will decrease and control will become difficult, resulting in DC-DC
Converter efficiency decreases. Therefore, it is inappropriate to apply it as it is to a DC-DC converter or the like.
したがって、直流重畳特性の改善には、高透磁率強磁性
薄帯の飽和磁化か高いことが要求される。Therefore, in order to improve the DC superimposition characteristics, it is required that the saturation magnetization of the high magnetic permeability ferromagnetic ribbon be high.
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので
あり、直流重畳特性の良好な平面インダクタを提供する
ことを目的とする。The present invention was made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a planar inductor with good DC superimposition characteristics.
[発明の構成コ
(課題を解決するための手段と作用)
本発明は、平面状導体コイル又はこれらの積層体の両面
を、絶縁層を介して強磁性薄帯或いは強磁性薄膜又はこ
れらの積層体で挟んで成る平面インダクタにおいて、
強磁性薄帯又は強磁性薄膜を組成が、
[F e x N t 、 Co
、−x−y コ H−Zr2但し、0.6 <x
<0.9 、 O<y<0.1 。[Invention configuration con (means and action to solve issues) The present invention is a flat -pale coil or a laminated body, a ferromagnetic thin band or a thinner film, or these laminates through an insulating layer. In a planar inductor sandwiched between two ferromagnetic ribbons or a ferromagnetic thin film, the composition is [Fe x N t , Co
, -x-y ko H-Zr2However, 0.6 <x
<0.9, O<y<0.1.
0、Oli< z < 0.14
からなるアモルファス合金で形成したことを特徴とする
平面インダクタである。0, Oli<z<0.14.
ここで、平面状導体コイルとは、通常、例えば第1図に
示されるように絶縁層の表面及び裏面にスパイラルコイ
ルを設けて各スパイラルコイルをスルーホールで接続し
た構造のスパイラル状2層導体コイルを指す。Here, the planar conductor coil is usually a spiral two-layer conductor coil having a structure in which spiral coils are provided on the front and back surfaces of an insulating layer and each spiral coil is connected by a through hole, as shown in FIG. refers to
なお、端子の取出しに支障が生じなければ、スパイラル
状導体コイルとしては、スパイラルコイルが1層だけの
ものでもよい。Note that the spiral conductor coil may have only one layer of spiral coils as long as there is no problem in taking out the terminal.
また、スパイラル状導体コイルを積層するとインダクタ
ンスは増大するが、この場合、スパイラル状導体コイル
間には絶縁層のみを介在させ、強磁性薄帯を介在させな
いことが望ましい。これは、スパイラル状導体コイル間
に強磁性薄帯を介在させてもインダクタンスの増大には
ほとんど寄与せず、かえって平面インダクタ全体の厚さ
を増大させて単位体積当りのインダクタンスを低下させ
るからである。Furthermore, when the spiral conductor coils are stacked, the inductance increases, but in this case, it is desirable that only an insulating layer be interposed between the spiral conductor coils, and that no ferromagnetic ribbon be interposed. This is because interposing a ferromagnetic ribbon between spiral conductor coils hardly contributes to increasing inductance, but rather increases the overall thickness of the planar inductor and lowers the inductance per unit volume. .
また、上述の組成のアモルファス合金を用いたのは、こ
れらの合金は高飽和磁化を有する高透磁率材料であり、
これらを用いることによってインダクタンスの直流重畳
特性の良い平面インダクタが得られるからである。In addition, the amorphous alloys with the above compositions were used because these alloys are high magnetic permeability materials with high saturation magnetization.
This is because by using these, a planar inductor with good DC superimposition characteristics of inductance can be obtained.
飽和磁化の値が異なる強磁性薄帯を用いて作製された同
一構造の平面インダクタを、例えば出力電圧5V、2層
級の非絶縁降圧型DC−DCC−式−タに適用した場合
の効率について調べると以下のようになる。Investigate the efficiency when planar inductors with the same structure made using ferromagnetic ribbons with different saturation magnetization values are applied to, for example, a two-layer non-insulated step-down DC-DCC with an output voltage of 5 V. and becomes as follows.
空心インダクタンス54μH1コイル抵抗1.8Ωのス
パイラル状導体コイル(約1■■厚)の両面を7μl厚
のポリイミドフィルムを介してCo系又はFe系の非晶
質合金薄帯(約15μ履厚)の5層積層体で挟んで構成
される平面インダクタを用いてDC−DCコンバータを
作製する。この場合、非晶質合金薄帯の飽和磁化4πM
sと、入力電圧15v1出力電圧5V、出力電流0.4
Aの条件下におけるDC−DCコンバータの効率ηとの
関係は第2図に示す通りである。A Co-based or Fe-based amorphous alloy thin strip (approximately 15 μm thick) is coated on both sides of a spiral conductor coil (approximately 1 mm thick) with an air-core inductance of 54 μH and a coil resistance of 1.8 Ω via a 7 μl-thick polyimide film. A DC-DC converter is manufactured using a planar inductor sandwiched between five-layer laminates. In this case, the saturation magnetization of the amorphous alloy ribbon is 4πM
s, input voltage 15v1 output voltage 5V, output current 0.4
The relationship between efficiency η of the DC-DC converter under the condition A is as shown in FIG.
第2図より、4gMs>10kGの非晶質合金薄帯を用
いた場合の効率ηは、約70%のほぼ一定の値を有する
。しかし、4gMs<10kGの非晶質合金薄帯を用い
た場合には、インダクタンスの直流重畳特性は悪くなり
、効率ηは低下する。From FIG. 2, the efficiency η when using an amorphous alloy ribbon of 4 gMs>10 kG has a substantially constant value of about 70%. However, when an amorphous alloy ribbon of 4 gMs<10 kG is used, the direct current superimposition characteristic of the inductance deteriorates, and the efficiency η decreases.
従って、1〜2WIl&Dc−DCコンバータに適用し
て高効率を得るためには該強磁性体に少なくとも10k
G以上の飽和磁化を有する高透磁率材を必要とする。Therefore, in order to obtain high efficiency when applied to a 1 to 2 WIl&Dc-DC converter, the ferromagnetic material must be at least 10k
A high permeability material with a saturation magnetization of G or higher is required.
一方、飽和磁化に関して不利な半金属を含まない飽和磁
化の高い高透磁率材として例えば[F ex (N
1 + Co) r−z ] +−Z rz系非晶質合
金(但し0.8 < x < 0.9 、0.08<
z < 0.14)が知られている。これらの非晶質合
金は、10kG以上の飽和磁化を有する。また、これら
の非晶質合金は、半金属を含む飽和磁化の高いFe系非
晶質合金に比べて飽和磁歪が小さい。このため、平面イ
ンダクタの製造工程の中の外装樹脂モールド工程で、樹
脂硬化時の収縮力のために生じる、逆磁歪効果によるイ
ンダクタンスの低下の程度は少なくなる。On the other hand, for example, [F ex (N
1 + Co) r-z ] +-Z rz-based amorphous alloy (0.8 < x < 0.9, 0.08 <
z < 0.14) is known. These amorphous alloys have a saturation magnetization of 10 kG or more. In addition, these amorphous alloys have lower saturation magnetostriction than Fe-based amorphous alloys containing semimetals and having high saturation magnetization. Therefore, in the exterior resin molding step of the planar inductor manufacturing process, the degree of reduction in inductance due to the inverse magnetostrictive effect that occurs due to contractile force during resin curing is reduced.
また、例えば、適宜磁性体とモールド樹脂の間に応力緩
和のために高分子フィルム等の応力吸収材を設けて、モ
ールドによるインダクタンスの低下を防いで使用する場
合でも、この高分子フィルムの厚さは薄くて済み、平面
インダクタの薄形化には好都合である。For example, even if a stress absorbing material such as a polymer film is provided between the magnetic material and the mold resin for stress relaxation to prevent a decrease in inductance due to molding, the thickness of the polymer film can be made thin, which is convenient for making planar inductors thinner.
飽和磁歪に関しては、例えばx−0,9、z =0゜1
、Ni含有量が0の場合には、飽和磁化4πMs−12
kG、飽和磁歪λS−10XIO−6で、同じ飽和磁化
を有する半金属を含むFe系非晶質合金の中で比較的磁
否の小さなもの、 例えば(F eo、esNbo
、os) a2s i b B12. 飽和磁歪13
X 10−6 よりも小さい。Regarding saturation magnetostriction, for example, x-0,9, z = 0゜1
, when the Ni content is 0, the saturation magnetization is 4πMs-12
kG, saturation magnetostriction λS-10
, os) a2s i b B12. Saturation magnetostriction 13
smaller than X 10-6.
またx=0.6 、 z −0,1r N i含有量
がOの場合には、飽和磁化16kG、飽和磁歪25X1
0−6であり、同程度の飽和磁化を有する半金属を含む
Fe系非晶質合金、例えばF e 78S i 19B
+3+飽和磁化15.6kG、飽和磁歪27×10−
よりも小さい。Moreover, when x=0.6, z -0,1r Ni content is O, saturation magnetization is 16kG, saturation magnetostriction is 25X1
0-6 and containing a semimetal with the same degree of saturation magnetization, such as Fe 78S i 19B
+3+ Saturation magnetization 15.6kG, Saturation magnetostriction 27×10-
smaller than
即ち、同じ飽和磁化を有する組成で比較すると、本発明
において用いた金属−金属系非晶質合金は、金属−半金
属系よりも磁歪の点で有利である。That is, when comparing compositions having the same saturation magnetization, the metal-metal amorphous alloy used in the present invention is more advantageous than the metal-semimetal alloy in terms of magnetostriction.
しかしながら、Niを含む場合には、Niを含まない場
合に比べて飽和磁化が小さいか又は飽和磁歪が大きくな
る。このため、本発明の平面インダクタに適用する場合
には、Ni含有量は少ない方が良い。However, when Ni is included, the saturation magnetization is smaller or the saturation magnetostriction is larger than when Ni is not included. Therefore, when applied to the planar inductor of the present invention, it is better to have a smaller Ni content.
また、これらの非晶質合金は、半金属を含む系に比べて
熱的に安定であり、脆性を生じ難い。従って、これらの
点からも平面インダクタへの適用に適している。つまり
、DC−DCコンバータ用平面インダクタには、上述の
組成のアモルファス合金の適用が有効であることが分る
。In addition, these amorphous alloys are thermally stable and less likely to become brittle than systems containing semimetals. Therefore, from these points as well, it is suitable for application to planar inductors. In other words, it can be seen that it is effective to apply the amorphous alloy having the above-mentioned composition to a planar inductor for a DC-DC converter.
以下、本発明の実施例について説明する。Examples of the present invention will be described below.
実施例1 単ロール法によって作、製した組成がF e 、2C。Example 1 The composition produced by the single roll method is Fe, 2C.
IgZrlo(原子比)で、幅12龍、厚さ18μ−の
アモルファス薄帯(4gMs −161(Q、 λS
−25X 10−6)から12−■角の試片を切り出し
、これに歪取り熱処理を施して強磁性体箔を得た。IgZrlo (atomic ratio), an amorphous ribbon (4 gMs -161 (Q, λS
-25
次いで、外形寸法10mm、@線数40.コイル線幅2
00μm、コイル線厚100μl、コイル線ピッチ25
0μ市、ベースフィルム(第1図の3b)の厚さ25μ
口の正方形状両面スパイラルコイル(第1図の1)を2
層、7μl厚のポリイミドフィルムを介して重ねて電気
的に直列に接続し、全巻線数80の平面状コイルを作製
した。Next, the external dimension is 10 mm and the number of wires is 40. Coil wire width 2
00μm, coil wire thickness 100μl, coil wire pitch 25
0μ city, base film (3b in Figure 1) thickness 25μ
2 square-shaped double-sided spiral coils (1 in Figure 1)
The two layers were stacked and electrically connected in series via a 7 μl thick polyimide film to produce a planar coil with a total number of turns of 80.
この平面状コイルの両面を、7μ麿厚のポリイミドフィ
ルム(第1図の3g、3C)を介して上述の強磁性体箔
で挟み、平面インダクタを作製した。Both sides of this planar coil were sandwiched between the above-mentioned ferromagnetic foils with polyimide films (3g and 3C in FIG. 1) having a thickness of 7 μm interposed therebetween to produce a planar inductor.
実施例2
F es+CO12r toの組成の非晶質合金(4π
Ms −12kQ、 λ5−10xlO−’)を用い
たこと以外は実施例1と同様の平面インダクタを作製し
た。Example 2 Amorphous alloy (4π
A planar inductor similar to that in Example 1 was manufactured except that Ms -12kQ, λ5-10xlO-') was used.
実施例3
実施例2の平面インダクタに、両面を50μl厚のポリ
フェニレンスルフィドフィルム(ppsフィルム)で挾
んだ後エポキシ系樹脂で外装モールドを施し、モールド
平面インダクタを作製した。Example 3 The flat inductor of Example 2 was sandwiched between 50 μl thick polyphenylene sulfide films (pps films) on both sides, and then an exterior mold was applied with epoxy resin to produce a molded flat inductor.
比較例1
(COo、ssF e ’o、obN i 0.04N
b O,02) 75S floB 1%の組成の非
晶質合金(4yr Ms −8,8kG 。Comparative example 1 (COo, ssF e 'o, obN i 0.04N
b O,02) 75S floB Amorphous alloy with a composition of 1% (4yr Ms -8,8kG.
λ5−0)を用いたこと以外は実施例1と同様にして平
面インダクタを作製した。A planar inductor was produced in the same manner as in Example 1 except that λ5-0) was used.
比較例2
(F e 0.95N b O,05) 82S i
6 B +2の組成の非晶質合金(4πMs −12k
G、 λs −13X 1O−6)を用いたこと以外
は実施例1と同様にして平面インダクタを作製した。Comparative example 2 (F e 0.95N b O, 05) 82S i
Amorphous alloy with a composition of 6 B +2 (4πMs −12k
A planar inductor was produced in the same manner as in Example 1, except that G, λs -13X 1O-6) was used.
比較例3
比較例2の平面インダクタに、実施例3と同様の外装モ
ールドを施し、モールド平面インダクタを作製した。Comparative Example 3 The same exterior mold as in Example 3 was applied to the planar inductor of Comparative Example 2 to produce a molded planar inductor.
比較例4
F e 6gCO4N l 1sZ r loの組成の
非晶質合金(4πMs −12kG、 λ5−16x
lO−6)を用いたこと以外は実施例1と同様にして平
面インダクタを作製した。Comparative Example 4 Amorphous alloy (4πMs -12kG, λ5-16x
A planar inductor was produced in the same manner as in Example 1 except that 1O-6) was used.
次いで、実施例3と同様に外装モールドを施し、モール
ド平面インダクタを作製した。Next, an exterior mold was applied in the same manner as in Example 3 to produce a molded planar inductor.
このようにして得た実施例1〜3の平面インダクタ及び
、比較例1〜4の平面インダクタについて50 kHz
におけるインダクタンスの直流重畳特性(直流重畳電流
I DC−0〜0.4A)を調べた。50 kHz for the planar inductors of Examples 1 to 3 and the planar inductors of Comparative Examples 1 to 4 thus obtained.
The DC superposition characteristics of the inductance (DC superposition current I DC-0 to 0.4 A) were investigated.
得られた結果を第3図〜第5図に示す。The obtained results are shown in FIGS. 3 to 5.
第3図は、実施例1の平面インダクタと半金属を含む高
透磁率非晶質合金を用いた比較例1の平面インダクタに
ついて、インダクタンスと直流重畳電流の関係を比較し
た特性図である。同図から明らかなように、実施例1の
平面インダクタの方が、比較例1のものに比べて遥かに
優れた直流重畳電流特性を有していることが分る。FIG. 3 is a characteristic diagram comparing the relationship between inductance and DC superimposed current for the planar inductor of Example 1 and the planar inductor of Comparative Example 1 using a high permeability amorphous alloy containing a semimetal. As is clear from the figure, it can be seen that the planar inductor of Example 1 has much better DC superimposed current characteristics than that of Comparative Example 1.
第4図は、実施例2.3の平面インダクタ及び比較例2
.3平面インダクタを用いて、同じ飽和磁化を有する金
属−金属系及び金属−半金属系非晶質合金を採用した場
合におけるインダクタンスと直流重畳電流の関係を、外
装モールドの効果の観点から比較した特性図である。Figure 4 shows the planar inductor of Example 2.3 and Comparative Example 2.
.. Characteristics comparing the relationship between inductance and direct current superimposed current when using a three-plane inductor and using metal-metal type and metal-semimetal type amorphous alloys with the same saturation magnetization from the perspective of the effect of the exterior mold. It is a diagram.
飽和磁歪の小さな金属−金属系の方(実施例2、実施例
3)が、金属−半金属系のも(比較例2、比較例3)よ
りもモールドによるインダクタンスの低下が小さく、優
れていることが分る。The metal-metal system with small saturation magnetostriction (Example 2, Example 3) is superior to the metal-semimetal system (Comparative Example 2, Comparative Example 3) because the decrease in inductance due to molding is smaller. I understand.
第5図は、同し飽和磁化を有する金属−金属系非晶質合
金においてNiを含む場合(比較例4)と含まない場合
(実施例3)について、インダクタンスと直流重畳電流
の関係を、外装モールド後比較した図である。Niを含
まない実施例3のものの方が、Niを含む比較例4のも
のよりも遥かに優れていることが分る。Figure 5 shows the relationship between inductance and DC superimposed current for a metal-metal amorphous alloy with the same saturation magnetization, when Ni is included (Comparative Example 4) and when Ni is not included (Example 3). It is a comparison diagram after molding. It can be seen that Example 3, which does not contain Ni, is far superior to Comparative Example 4, which contains Ni.
[発明の効果]
以上説明した如く、本発明によれば、直流重畳特性の良
い平面インダクタが得られ、DC−DCコンバータなど
に適用可能な平面インダクタを容易に提供することかで
き、DC−DCコンバータの薄形化を可能にし、その工
業的価値は極めて大きいものである。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, a planar inductor with good DC superimposition characteristics can be obtained, and a planar inductor that can be applied to a DC-DC converter etc. can be easily provided. This makes it possible to make the converter thinner, and its industrial value is extremely large.
第1図(A)は、平面インダクタの構成を示す平面図、
同図(B)は、同図(A)のA−A’線に沿う断面図、
第2図は、本発明に係る平面インダクタを構成する強磁
性体の飽和磁化とその平面インダクタを適用した非絶縁
降圧型DC−DCコンバータの効率との関係を示す特性
図、第3図〜第5図は、本発明の実施例及び比較例の平
面インダクタにおける直流重畳電流とインダクタンスと
の関係を示す特性図である。
1・・・スパイラル状導体コイル、2a、2b・・・ス
パイラルコイル、3a、3b、3c・・・絶縁層、4・
・・スルーホール、5a、5b・・・強磁性薄帯。
(A)
2b
b
(B)
飽和磁化
(にG)
第
図
V、)トぐへ八区FIG. 1(A) is a plan view showing the configuration of a planar inductor;
The same figure (B) is a sectional view along the line AA' of the same figure (A),
FIG. 2 is a characteristic diagram showing the relationship between the saturation magnetization of the ferromagnetic material constituting the planar inductor according to the present invention and the efficiency of a non-isolated step-down DC-DC converter to which the planar inductor is applied, and FIGS. FIG. 5 is a characteristic diagram showing the relationship between DC superimposed current and inductance in the planar inductors of the example of the present invention and the comparative example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Spiral conductor coil, 2a, 2b... Spiral coil, 3a, 3b, 3c... Insulating layer, 4...
...Through hole, 5a, 5b...Ferromagnetic ribbon. (A) 2b b (B) Saturation magnetization (G) Figure V,) Toguhe 8th section
Claims (1)
を介して強磁性薄帯或いは強磁性薄膜又はこれらの積層
体で挟んで成る平面インダクタにおいて、 強磁性薄帯又は強磁性薄膜を組成が、 [Fe_xNi_yCo_1_−_x_−_y]_1_
−_zZr_z但し、0.6<x<0.9、0<y<0
.1、0.08<z<0.14 からなるアモルファス合金で形成したことを特徴とする
平面インダクタ。[Claims] A planar inductor in which both sides of a planar conductor coil or a laminate thereof are sandwiched between ferromagnetic ribbons, ferromagnetic thin films, or laminates thereof with an insulating layer interposed therebetween, comprising: The composition of the ferromagnetic thin film is [Fe_xNi_yCo_1_-_x_-_y]_1_
−_zZr_zHowever, 0.6<x<0.9, 0<y<0
.. 1. A planar inductor characterized in that it is formed of an amorphous alloy having the following relationship: 0.08<z<0.14.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081857A JPH03280504A (en) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | Plane inductor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081857A JPH03280504A (en) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | Plane inductor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03280504A true JPH03280504A (en) | 1991-12-11 |
Family
ID=13758158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2081857A Pending JPH03280504A (en) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | Plane inductor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03280504A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005109211A (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Mitsui Chemicals Inc | Magnetic base material and laminate |
| JP2015106709A (en) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | Laminate type electronic component, method for manufacturing the same and mounting substrate therefor |
-
1990
- 1990-03-29 JP JP2081857A patent/JPH03280504A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005109211A (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Mitsui Chemicals Inc | Magnetic base material and laminate |
| JP2015106709A (en) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | Laminate type electronic component, method for manufacturing the same and mounting substrate therefor |
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