JPH03283117A - 情報記録担体 - Google Patents
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- JPH03283117A JPH03283117A JP2083654A JP8365490A JPH03283117A JP H03283117 A JPH03283117 A JP H03283117A JP 2083654 A JP2083654 A JP 2083654A JP 8365490 A JP8365490 A JP 8365490A JP H03283117 A JPH03283117 A JP H03283117A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は情報信号を記録または再生するためのディスク
状またはカード状の情報記録担体に関するものである。
状またはカード状の情報記録担体に関するものである。
(従来の技術)
近年、情報記録メディアは高密度化、大容−化へと進歩
している。光ディスクや光磁気ディスクはその代表的な
メディアである。これらのディスクにトラッキング用の
溝やアドレス検知用のビットを形成する手段には、溝や
ビットを表面に供えたスタンバ−と呼ばれる金型を用い
て熱可塑性樹脂を射出成形する方法(インジェクション
法)や、透明樹脂基板上に紫外線硬化樹脂(2P樹脂)
を硬化させる方法(2P法)などがある。メディアの量
産性という点では射出成形法のほうが優れているが、ス
タンバ−の溝またはビットの形状を忠実に転写するとい
う点では2P法のほうが優れていると言われている。
している。光ディスクや光磁気ディスクはその代表的な
メディアである。これらのディスクにトラッキング用の
溝やアドレス検知用のビットを形成する手段には、溝や
ビットを表面に供えたスタンバ−と呼ばれる金型を用い
て熱可塑性樹脂を射出成形する方法(インジェクション
法)や、透明樹脂基板上に紫外線硬化樹脂(2P樹脂)
を硬化させる方法(2P法)などがある。メディアの量
産性という点では射出成形法のほうが優れているが、ス
タンバ−の溝またはビットの形状を忠実に転写するとい
う点では2P法のほうが優れていると言われている。
2P法の改良した手段として、特開昭55−16033
8号公報にあるような、透明板と2PWを一体に作製す
る方法も提案されている。すなわちディスクのサイズ相
当分の空間を有した金型内に2P樹脂を注入し、少なく
とも一方向より紫外線を照射して硬化させ、取出すとい
う方法である。
8号公報にあるような、透明板と2PWを一体に作製す
る方法も提案されている。すなわちディスクのサイズ相
当分の空間を有した金型内に2P樹脂を注入し、少なく
とも一方向より紫外線を照射して硬化させ、取出すとい
う方法である。
このとき金型の片側にはスタンバ−が備えられていて、
成形された基板の片面にはビットが形成される。この方
法で作製した基板は、従来の2P法と比較して、耐候性
の試験で優れた特性を示すとしている。
成形された基板の片面にはビットが形成される。この方
法で作製した基板は、従来の2P法と比較して、耐候性
の試験で優れた特性を示すとしている。
この方法で作製するディスクは、特開昭62−2665
8号公報、特開昭62−226101号公報、特開昭6
3−23238号公報、などでも提案されている。これ
らにおいては、従来基板と比較して、消去・記録可能回
数の向上、光学的異方性の改善、高温多湿下での耐久性
向上に効果があると記載されている。
8号公報、特開昭62−226101号公報、特開昭6
3−23238号公報、などでも提案されている。これ
らにおいては、従来基板と比較して、消去・記録可能回
数の向上、光学的異方性の改善、高温多湿下での耐久性
向上に効果があると記載されている。
(発明が解決しようとする課題)
光ディスク、光磁気ディスクのC/N (キャリア対雑
音比)を左右する要素の一つに基板の複屈折がある。複
屈折すなわち光学的異方性が大きいとノイズの原因とな
り、ディスクのC/Nを悪くする。これはカー回転角に
より信号を再生する光磁気ディスクの場合に特に影響し
、基板には複屈折がないことが望まれている。
音比)を左右する要素の一つに基板の複屈折がある。複
屈折すなわち光学的異方性が大きいとノイズの原因とな
り、ディスクのC/Nを悪くする。これはカー回転角に
より信号を再生する光磁気ディスクの場合に特に影響し
、基板には複屈折がないことが望まれている。
一体型2P基板は一般にインジェクション法と比較して
複屈折の小さいものが得られやすいが、従来の材料では
まだ大きく、光磁気ディスクの場合には材料の改善が求
められている。
複屈折の小さいものが得られやすいが、従来の材料では
まだ大きく、光磁気ディスクの場合には材料の改善が求
められている。
ここで2P11[1の成分に着目してみると、2P樹脂
は■主剤〈感応性不飽和樹脂及び反応性希釈剤)、■光
重合開始剤とから少なくとも構成されている。このうち
硬化物の物性を決めるのは主に■主剤であるため、改良
をして複屈折を小さくする必要がある。
は■主剤〈感応性不飽和樹脂及び反応性希釈剤)、■光
重合開始剤とから少なくとも構成されている。このうち
硬化物の物性を決めるのは主に■主剤であるため、改良
をして複屈折を小さくする必要がある。
(1課題を解決するため手段)
本発明は上述した課題を解消するためになされたもので
あり、 紫外線硬化樹脂硬化物からなる基板と、この基板上に形
成され、レーザー光または磁界の印加により光学的また
は磁気的状態が変化する記録層と、この記録層上に形成
される保護層とからなる情報記録担体において、 上記基板は、下記の一般式(I)で示される化合物を含
む紫外線硬化樹脂組成物を硬化させたものであることを
特徴とする情報記録担体を提供するものである。
あり、 紫外線硬化樹脂硬化物からなる基板と、この基板上に形
成され、レーザー光または磁界の印加により光学的また
は磁気的状態が変化する記録層と、この記録層上に形成
される保護層とからなる情報記録担体において、 上記基板は、下記の一般式(I)で示される化合物を含
む紫外線硬化樹脂組成物を硬化させたものであることを
特徴とする情報記録担体を提供するものである。
CHO−X CH20−X
X−0−CH−C−CH−0−CH−C−CH20−X
・(I )2 2 2 CHO−X CH20−X (但し、Xはアクリロイル基またはメタクリロイル基) (実施例) 実施例及び比較例 1.2 Illのスペーシングを設けた直径130履の
空間を有する金型を準備した。この金型の一面にはニッ
ケル・スタンパ−を、対向する他面にはシリコン系離型
剤を塗布、焼成したガラス・プレートを備えた。この金
型の中に第1表の混合比にて11製した樹脂組成物(実
施例1〜2、及び比較例1〜8)を注入し、120W/
α高圧水銀灯を用いてガラス・プレート側より紫外線を
30秒照射した。続いて硬化した基板をこの金型より取
出し、公知の手法にて複屈折を測定した。
・(I )2 2 2 CHO−X CH20−X (但し、Xはアクリロイル基またはメタクリロイル基) (実施例) 実施例及び比較例 1.2 Illのスペーシングを設けた直径130履の
空間を有する金型を準備した。この金型の一面にはニッ
ケル・スタンパ−を、対向する他面にはシリコン系離型
剤を塗布、焼成したガラス・プレートを備えた。この金
型の中に第1表の混合比にて11製した樹脂組成物(実
施例1〜2、及び比較例1〜8)を注入し、120W/
α高圧水銀灯を用いてガラス・プレート側より紫外線を
30秒照射した。続いて硬化した基板をこの金型より取
出し、公知の手法にて複屈折を測定した。
上記各実施例及び各比較例における複屈折の特性を第1
表に示す。また、各実施例及び各比較例で用いた主剤(
感応性不飽和樹脂及び反応性希釈剤として使用)の構造
式を第2表に示す。
表に示す。また、各実施例及び各比較例で用いた主剤(
感応性不飽和樹脂及び反応性希釈剤として使用)の構造
式を第2表に示す。
また光重合開始剤として用いたoarocur 117
3は2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン1−オンの商品名(メルク・ジャパン株式会社)であ
る。
3は2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン1−オンの商品名(メルク・ジャパン株式会社)であ
る。
(以下余白)
ここで、光磁気ディスクとして許容できる範囲について
述べると、硬化させた基板において、3n1以下が望ま
しい。
述べると、硬化させた基板において、3n1以下が望ま
しい。
このことを考*iると、第1表から理解できるように実
施例1においては、主剤としてDPHAを用いたため、
基板の複屈折が非常に小さい。よって、光磁気ディスク
のC/Nを良くすることができる。
施例1においては、主剤としてDPHAを用いたため、
基板の複屈折が非常に小さい。よって、光磁気ディスク
のC/Nを良くすることができる。
また、実施例2においては、THPTAを主剤内におい
て、DPHAの反応性希釈剤として少量混合したが、こ
の場合においても同様に複屈折が小さい。
て、DPHAの反応性希釈剤として少量混合したが、こ
の場合においても同様に複屈折が小さい。
一方、比較例1〜8においては、主剤としてDPHA以
外の化合物を用いているが、この場合、基板の複屈折が
30−よりかなり大きい。すなわち、光磁気ディスクの
C/Nが悪くなっている。
外の化合物を用いているが、この場合、基板の複屈折が
30−よりかなり大きい。すなわち、光磁気ディスクの
C/Nが悪くなっている。
以上の結果から、主剤として最適なものはDPHAを主
剤内において主に含んだものであることが容易に理解で
きる。
剤内において主に含んだものであることが容易に理解で
きる。
なお、DPHAはジペンタエリスリトール型のアクリレ
ートである。光学的異方性はモノマーの基本骨格に依存
しており、ジペンタエリスリトール型のものを用いると
異方性が極めて小さくなる。末端基はアクリロイル、メ
タクリロイルのいずれでも良い。アクリロイルのほうが
硬化速度が速いという利点があるが、メタクリロイルの
ほうは粘度が低い、皮膚刺激性が少ないなど、アクリロ
イルにはない特徴もあり両者を適当な比率で混合して使
うことが望ましい。
ートである。光学的異方性はモノマーの基本骨格に依存
しており、ジペンタエリスリトール型のものを用いると
異方性が極めて小さくなる。末端基はアクリロイル、メ
タクリロイルのいずれでも良い。アクリロイルのほうが
硬化速度が速いという利点があるが、メタクリロイルの
ほうは粘度が低い、皮膚刺激性が少ないなど、アクリロ
イルにはない特徴もあり両者を適当な比率で混合して使
うことが望ましい。
また、DPHAに別の光重合性モノマー、オリゴマー等
を添加して、組成物の粘度や硬化物の表面硬度、曲げ強
さなどを調整しても良い。このとき硬化物の複屈折を損
なわない程度の添加量にしておくことが肝心である。
を添加して、組成物の粘度や硬化物の表面硬度、曲げ強
さなどを調整しても良い。このとき硬化物の複屈折を損
なわない程度の添加量にしておくことが肝心である。
なお、光重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベ
ンゾフェノン、4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル
ジメチルケタール、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ミルラーズケトン、アント
ラキノン、2−メチルアントラキノン、アセトフェノン
、αα−ジクロル−4−フェノキシ−アセトフェノン、
p −tertブチルトリクロロアセトフェノン、メチ
ルオキソベンゾイルベンゾエート、2−クロロチオキサ
ントン、2.4−ジエチルチオキサントン、2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニルプロパン1オンなどが
使用できる。また硬化を促進するためにアミン化合物を
添加しても良い。
ンゾフェノン、4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル
ジメチルケタール、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ミルラーズケトン、アント
ラキノン、2−メチルアントラキノン、アセトフェノン
、αα−ジクロル−4−フェノキシ−アセトフェノン、
p −tertブチルトリクロロアセトフェノン、メチ
ルオキソベンゾイルベンゾエート、2−クロロチオキサ
ントン、2.4−ジエチルチオキサントン、2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニルプロパン1オンなどが
使用できる。また硬化を促進するためにアミン化合物を
添加しても良い。
また、実施例においては、光ディスク・光磁気ディスク
等、ディスク状の情報記録担体として説明をしたが、カ
ード状の情報記録担体であっても同様なことが言えるこ
とは言うまでもない。
等、ディスク状の情報記録担体として説明をしたが、カ
ード状の情報記録担体であっても同様なことが言えるこ
とは言うまでもない。
(発明の効果)
以上のように、本発明の情報記録担体においては、基板
が上記したように一般式(I>に示す化合物を含むため
、基板の複屈折を極めて小さくすることができ、光磁気
記録に適した情報記録担体を得ることができる。
が上記したように一般式(I>に示す化合物を含むため
、基板の複屈折を極めて小さくすることができ、光磁気
記録に適した情報記録担体を得ることができる。
また、本発明なる紫外線硬化樹脂組成物は、耐熱性にも
優れているので、良質の光磁気膜を成膜でき、高密度の
記録を可能とするものである。
優れているので、良質の光磁気膜を成膜でき、高密度の
記録を可能とするものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 紫外線硬化樹脂硬化物からなる基板と、この基板上に形
成され、レーザー光または磁界の印加により光学的また
は磁気的状態が変化する記録層と、この記録層上に形成
される保護層とからなる情報記録担体において、 上記基板は、下記の一般式( I )で示される化合物を
含む紫外線硬化樹脂組成物を硬化させたものであること
を特徴とする情報記録担体。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) {但し、Xはアクリロイル基またはメタクリロイル基}
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2083654A JPH03283117A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 情報記録担体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2083654A JPH03283117A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 情報記録担体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03283117A true JPH03283117A (ja) | 1991-12-13 |
Family
ID=13808443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2083654A Pending JPH03283117A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 情報記録担体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03283117A (ja) |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP2083654A patent/JPH03283117A/ja active Pending
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