JPH03283536A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH03283536A JPH03283536A JP8340590A JP8340590A JPH03283536A JP H03283536 A JPH03283536 A JP H03283536A JP 8340590 A JP8340590 A JP 8340590A JP 8340590 A JP8340590 A JP 8340590A JP H03283536 A JPH03283536 A JP H03283536A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steam
- tank
- washing
- cleaned
- wafer
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- Pending
Links
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は洗浄装置に関し、特に半導体電子部品の製造工
程におけるウェハー上の有機物を洗浄して除去すること
のできる洗浄装置に関する。
程におけるウェハー上の有機物を洗浄して除去すること
のできる洗浄装置に関する。
［従来の技術］
従来、この種のウェハーの洗浄装置としては第２図に示
すものがある。
すものがある。
図において、この洗浄装置は、超音波槽１、侵積槽２及
び蒸気槽３で構成されている。
び蒸気槽３で構成されている。
上記超音波槽ｌの底部には超音波を発生する振動子１ａ
が設けられており、キャリアー８内に挿入保持されたウ
ェハー等の被洗浄物を溶剤６の中に侵積けして超音波洗
浄できる構成となっている。この超音波槽１の洗浄後は
図示せぬ移動手段によりキャリアー８が移動して侵積槽
２の溶剤の中に被洗浄物であるウェハーを侵積けして洗
浄する。この後、蒸気槽３で被洗浄物であるウェハーは
蒸気洗浄される。この蒸気槽３の底部にはヒーター５が
配設されており、このヒーター５の加熱により溶剤６は
ペーパー７を発生する。このペーパー７により被洗浄物
であるウェハーは蒸気洗浄される。このペーパー７は蒸
気槽３の上部に配設された冷却コイル４によって凝縮回
収される。
が設けられており、キャリアー８内に挿入保持されたウ
ェハー等の被洗浄物を溶剤６の中に侵積けして超音波洗
浄できる構成となっている。この超音波槽１の洗浄後は
図示せぬ移動手段によりキャリアー８が移動して侵積槽
２の溶剤の中に被洗浄物であるウェハーを侵積けして洗
浄する。この後、蒸気槽３で被洗浄物であるウェハーは
蒸気洗浄される。この蒸気槽３の底部にはヒーター５が
配設されており、このヒーター５の加熱により溶剤６は
ペーパー７を発生する。このペーパー７により被洗浄物
であるウェハーは蒸気洗浄される。このペーパー７は蒸
気槽３の上部に配設された冷却コイル４によって凝縮回
収される。
上＝２構成よりなる従来の洗浄装置では、まず。
超音波槽ｌで被洗浄物であるウェハーを超音波洗浄した
後、侵積槽２で侵積は洗浄する。その後、蒸気槽３で蒸
気洗浄される。
後、侵積槽２で侵積は洗浄する。その後、蒸気槽３で蒸
気洗浄される。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、従来の洗浄装置では被洗浄物であるウェ
ハーを超音波槽ｌ及び侵積槽２から夫々取り出す時に各
槽内に満たされている有機溶剤上面に浮いている汚れが
ウェハーに付着するため、蒸気槽３による蒸気洗浄にお
いても充分に汚れを除去できない欠点がある。
ハーを超音波槽ｌ及び侵積槽２から夫々取り出す時に各
槽内に満たされている有機溶剤上面に浮いている汚れが
ウェハーに付着するため、蒸気槽３による蒸気洗浄にお
いても充分に汚れを除去できない欠点がある。
［課題を解決するための手段］
本発明の洗浄装置は、少な（とも被洗浄物を超音波で洗
浄する超音波槽と、加熱された蒸気によって洗浄する蒸
気槽とを備え、前記蒸気槽には被洗浄物の蒸気洗浄後に
新溶剤を被洗浄物に噴出して洗浄するシャワー洗浄手段
を含むように構成したものである。
浄する超音波槽と、加熱された蒸気によって洗浄する蒸
気槽とを備え、前記蒸気槽には被洗浄物の蒸気洗浄後に
新溶剤を被洗浄物に噴出して洗浄するシャワー洗浄手段
を含むように構成したものである。
Ｅ実施例］
次に、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。
明する。
第１図は本発明の洗浄装置の一実施例を示す構成図であ
る。なお、第１図において、第２図のものと同一の機能
及び構成を有するものについては同じ符号を用いて説明
する。
る。なお、第１図において、第２図のものと同一の機能
及び構成を有するものについては同じ符号を用いて説明
する。
図において、この洗浄装置は、超音波槽１、侵積槽２及
び蒸気槽３で構成されている。
び蒸気槽３で構成されている。
上記超音波槽１の底部には超音波を発生する振動子１ａ
が設けられており、キャリアー８内に挿入保持されたウ
ェハー等の被洗浄物を溶剤６の中に侵積けして超音波洗
浄できる構成となっている。この超音波槽ｌの洗浄後は
キャリアー８が移動して侵積槽２の溶剤の中に被洗浄物
であるウェハーを侵積けして洗浄する。この後、蒸気槽
３で被洗浄物であるウェハーは蒸気洗浄される。この蒸
気槽３の底部にはヒーター５が配設されており、このヒ
ーター５の加熱により溶剤６はペーパー７を発生する。
が設けられており、キャリアー８内に挿入保持されたウ
ェハー等の被洗浄物を溶剤６の中に侵積けして超音波洗
浄できる構成となっている。この超音波槽ｌの洗浄後は
キャリアー８が移動して侵積槽２の溶剤の中に被洗浄物
であるウェハーを侵積けして洗浄する。この後、蒸気槽
３で被洗浄物であるウェハーは蒸気洗浄される。この蒸
気槽３の底部にはヒーター５が配設されており、このヒ
ーター５の加熱により溶剤６はペーパー７を発生する。
このペーパー７により被洗浄物であるウェハーは蒸気洗
浄される。このペパー７は蒸気槽３の上部に配設された
冷却コイル４によって凝縮回収される。この蒸気槽３の
上部には有機溶剤シャワー９が配設されており、このシ
ャワー９によりキャリアー８内に保持された被洗浄物に
新しい溶剤を噴出してスプレー洗浄できる構成となって
いる。
浄される。このペパー７は蒸気槽３の上部に配設された
冷却コイル４によって凝縮回収される。この蒸気槽３の
上部には有機溶剤シャワー９が配設されており、このシ
ャワー９によりキャリアー８内に保持された被洗浄物に
新しい溶剤を噴出してスプレー洗浄できる構成となって
いる。
上記構成よりなる洗浄装置の作用について説明する。
まず、超音波槽１で被洗浄物であるウェハーを超音波洗
浄した後、キャリアー８により被洗浄物を移動して侵積
槽２で侵積は洗浄する。その後、蒸気槽３で蒸気洗浄し
た後、キャリアー８により有機溶剤シャワー９の噴出範
囲内に移動させて被洗浄物であるウェハーに新溶剤を噴
出してスプレー洗浄する。こうすることによって、ウェ
ハーの両面に付着した有機溶剤液面に浮いている汚れを
完全に落すことができる。
浄した後、キャリアー８により被洗浄物を移動して侵積
槽２で侵積は洗浄する。その後、蒸気槽３で蒸気洗浄し
た後、キャリアー８により有機溶剤シャワー９の噴出範
囲内に移動させて被洗浄物であるウェハーに新溶剤を噴
出してスプレー洗浄する。こうすることによって、ウェ
ハーの両面に付着した有機溶剤液面に浮いている汚れを
完全に落すことができる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明は、蒸気槽上部に有機溶剤
シャワーを設けるようにしているので被洗浄物取り出し
時に被洗浄物に付着した有機溶剤液面の汚れを蒸気洗浄
後見に新しい溶剤で洗浄するので、被洗浄物に付着した
汚れを完全に除去できる効果がある。
シャワーを設けるようにしているので被洗浄物取り出し
時に被洗浄物に付着した有機溶剤液面の汚れを蒸気洗浄
後見に新しい溶剤で洗浄するので、被洗浄物に付着した
汚れを完全に除去できる効果がある。
第１図は本発明の一実施例に係る洗浄装置の構成を示す
図、第２図は従来の洗浄装置の構成を示す図である。 ｌ・・・超音波槽、ｌａ・・・振動子、２・・・浸積槽
、３・・・蒸気槽、４・・・冷却コイル、５・・・ヒー
ター、６・・・溶剤、７・・・ペーパー、８・・・キャ
リアー、９・・・有機溶剤シャワー
図、第２図は従来の洗浄装置の構成を示す図である。 ｌ・・・超音波槽、ｌａ・・・振動子、２・・・浸積槽
、３・・・蒸気槽、４・・・冷却コイル、５・・・ヒー
ター、６・・・溶剤、７・・・ペーパー、８・・・キャ
リアー、９・・・有機溶剤シャワー
Claims (1)
- 被洗浄物を有機溶剤を用いて洗浄する洗浄装置におい
て、前記洗浄装置には少なくとも被洗浄物を超音波で洗
浄する超音波槽と、加熱された蒸気によって洗浄する蒸
気槽とを備え、前記蒸気槽には被洗浄物の蒸気洗浄後に
新溶剤を被洗浄物に噴出して洗浄するシャワー洗浄手段
を含むようにしたことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8340590A JPH03283536A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8340590A JPH03283536A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03283536A true JPH03283536A (ja) | 1991-12-13 |
Family
ID=13801519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8340590A Pending JPH03283536A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03283536A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5511569A (en) * | 1993-07-20 | 1996-04-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Cleaning apparatus |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP8340590A patent/JPH03283536A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5511569A (en) * | 1993-07-20 | 1996-04-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Cleaning apparatus |
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