JPH03285239A - X線管装置 - Google Patents
X線管装置Info
- Publication number
- JPH03285239A JPH03285239A JP8707190A JP8707190A JPH03285239A JP H03285239 A JPH03285239 A JP H03285239A JP 8707190 A JP8707190 A JP 8707190A JP 8707190 A JP8707190 A JP 8707190A JP H03285239 A JPH03285239 A JP H03285239A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- laser beam
- ray tube
- anode
- local part
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
A、産業上の利用分野
この発明は、主として医用分野(例えば、X線断層撮影
装置など)に使用されるX線管装置に係り、特に、X線
管装置の熱電子放出機構に関する。
装置など)に使用されるX線管装置に係り、特に、X線
管装置の熱電子放出機構に関する。
B、従来技術
周知のようにX線管装置は、陰極から放出した熱電子を
陽極(ターゲット)に衝突させることによりX線を発生
さている。従来のX線管装置は、陰極を加熱するための
フィラメント回路を備えている。第7図は、従来のフィ
ラメント点火式X線管装置の概略構成を示した回路図で
ある。
陽極(ターゲット)に衝突させることによりX線を発生
さている。従来のX線管装置は、陰極を加熱するための
フィラメント回路を備えている。第7図は、従来のフィ
ラメント点火式X線管装置の概略構成を示した回路図で
ある。
すなわち、従来のフィラメント点火式X線管装置は、変
圧器などで構成されたフィラメント回路1によってX線
管2の陰極(フィラメン))2aに一定の電流を流して
フィラメントを加熱する。
圧器などで構成されたフィラメント回路1によってX線
管2の陰極(フィラメン))2aに一定の電流を流して
フィラメントを加熱する。
一方、X線管2の陽極2bと陰極28間に充電コンデン
サCを接続し、充電回路3によって充電コンデンサCに
充電して、陽極2bと陰極2a間に高電圧を印加する。
サCを接続し、充電回路3によって充電コンデンサCに
充電して、陽極2bと陰極2a間に高電圧を印加する。
これにより陰極2aから放出された熱電子が加速されて
、陽極2bのターゲットに衝突し、X線が発生する。な
お、図中のRは放電抵抗である。
、陽極2bのターゲットに衝突し、X線が発生する。な
お、図中のRは放電抵抗である。
フィラメントは、タングステン線をコイル状に巻回した
ものを線状に張った構造になっている。
ものを線状に張った構造になっている。
通常のX線管は1つのフィラメントを備えているが、特
殊なX線管装置では、複数個のフィラメントを備えてい
るものもある。例えば、1つのXlt管を近接撮影と遠
距離撮影とに兼用するようなX□□、D□、1Sり□、
6o工1□□□。小焦点を得るための小さいなフィラメ
ントと、遠距舖撮影用の大焦点を得るための大きなフィ
ラメントとを設け、撮影に応して両フィラメントを使い
分けることによって焦点の形状を変えるようにしている
。さらに、ステレオ撮影用のX線管装置のようtこ、離
間した2つのフィラメントに対応して陽極のターゲット
上に離間した2つの焦点を形成し、これらの各焦点から
交互に照射されたX線で同一被検体を撮影し、2枚1&
ll0X線撮影像をステレオビュワーなどで観察するこ
とにより、被検体の立体像を観察できるようにしたもの
がある。
殊なX線管装置では、複数個のフィラメントを備えてい
るものもある。例えば、1つのXlt管を近接撮影と遠
距離撮影とに兼用するようなX□□、D□、1Sり□、
6o工1□□□。小焦点を得るための小さいなフィラメ
ントと、遠距舖撮影用の大焦点を得るための大きなフィ
ラメントとを設け、撮影に応して両フィラメントを使い
分けることによって焦点の形状を変えるようにしている
。さらに、ステレオ撮影用のX線管装置のようtこ、離
間した2つのフィラメントに対応して陽極のターゲット
上に離間した2つの焦点を形成し、これらの各焦点から
交互に照射されたX線で同一被検体を撮影し、2枚1&
ll0X線撮影像をステレオビュワーなどで観察するこ
とにより、被検体の立体像を観察できるようにしたもの
がある。
C1発明が解決しようとする課題
しかしながら、上述した従来装置には次のような間駐点
がある。
がある。
上述のように従来装置は、フィラメントに通電すること
によって陰極を加熱しているので、電気的なフィラメン
ト回路が必要であり、その分、X線管装置の電気回路構
成が複雑化するという問題点がある。
によって陰極を加熱しているので、電気的なフィラメン
ト回路が必要であり、その分、X線管装置の電気回路構
成が複雑化するという問題点がある。
また、焦点の大きさを切り換え可能にしたX線管装置や
、ステレオ撮影装置などでは、複数個のフィラメントを
備えている必要かあるので、X線管の構成や、フィラメ
ント回路の構成が複雑化するという問題点もある。また
、従来のX1Jit管装百によれば、フィラメントの構
造上、焦点の大きさを任意の大きさに可変したり、焦点
間距離を任意に変えたりすることは困難であった。
、ステレオ撮影装置などでは、複数個のフィラメントを
備えている必要かあるので、X線管の構成や、フィラメ
ント回路の構成が複雑化するという問題点もある。また
、従来のX1Jit管装百によれば、フィラメントの構
造上、焦点の大きさを任意の大きさに可変したり、焦点
間距離を任意に変えたりすることは困難であった。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであ
って、陰極加熱用のフィラメント回路を不要にした新規
なX線管装置を提供することを目的とする。
って、陰極加熱用のフィラメント回路を不要にした新規
なX線管装置を提供することを目的とする。
また、この発明の他の目的は、焦点の大きさや焦点間距
離を任意に可変することができるX線管装置を提供する
ことにある。
離を任意に可変することができるX線管装置を提供する
ことにある。
97課題を解決するための手段
この発明は、上記目的を達成するために次のような構成
を備えている。
を備えている。
すなわち、この発明は、陰極局部を加熱することにより
放出した熱電子を陽極に衝突させることによりX線を発
生させるX線管装置であって、X線管の外部からX線管
内部の前記陰極局部にレーザ光線を照射して、陰極局部
を加熱するレーザ光源を備えたものである。
放出した熱電子を陽極に衝突させることによりX線を発
生させるX線管装置であって、X線管の外部からX線管
内部の前記陰極局部にレーザ光線を照射して、陰極局部
を加熱するレーザ光源を備えたものである。
E0作用
この発明によれば、X線管外部に設けられたレーザ光源
から照射されたレーザ光線が、X線管内部の陰極局部を
加熱することにより、その陰極極部から熱電子が放出さ
れて、陽極に衝突しX線が発生する。
から照射されたレーザ光線が、X線管内部の陰極局部を
加熱することにより、その陰極極部から熱電子が放出さ
れて、陽極に衝突しX線が発生する。
F、実施例
以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。
IJJL桝
第1回は、この発明の第1実施例の概略構成を示した回
路図である。
路図である。
同口において、第7図と同一符号で示した部分は従来装
置と同一構成部分であるから、ここでの説明は省略する
。
置と同一構成部分であるから、ここでの説明は省略する
。
図中、符号lOは陰極10aおよび陽極10bを備えた
X線管、符号20はX線管10の外部からX線管内部の
陰極゛10aにレーザ光線LBを照射して、陰極10a
を局部的に加熱するレーザ光源であるや第2図に示すよ
うに、本実施例に係るX線管10は、陽極10bが回転
子11で回転駆動されるターゲノ目2から構成された、
いわゆる回転陽極型のX線管である。陰極10aはモリ
ブデンやタングステン等の高融点金属材料からなるブロ
ック体で形成されている。
X線管、符号20はX線管10の外部からX線管内部の
陰極゛10aにレーザ光線LBを照射して、陰極10a
を局部的に加熱するレーザ光源であるや第2図に示すよ
うに、本実施例に係るX線管10は、陽極10bが回転
子11で回転駆動されるターゲノ目2から構成された、
いわゆる回転陽極型のX線管である。陰極10aはモリ
ブデンやタングステン等の高融点金属材料からなるブロ
ック体で形成されている。
第3図は、陰極10aのレーザ光線入射面を平面視した
図であり、第4図は第3図の■−IV断面を示している
。第3図および第4図に示すように、陰極10aのレー
ザ光線入射面には、断面形状がUの字状の溝13が環状
に形成されており、その内部の凸状部分が熱電子放出局
部14になっている。外周凸部I5は、例えばロジウム
等の高融点光学反射材料からなるレーザ光線反射膜16
によって被覆されており、この部分に仮にレーザ光線が
入射しても、外周凸部15から熱電子が放出されないよ
うになっている。
図であり、第4図は第3図の■−IV断面を示している
。第3図および第4図に示すように、陰極10aのレー
ザ光線入射面には、断面形状がUの字状の溝13が環状
に形成されており、その内部の凸状部分が熱電子放出局
部14になっている。外周凸部I5は、例えばロジウム
等の高融点光学反射材料からなるレーザ光線反射膜16
によって被覆されており、この部分に仮にレーザ光線が
入射しても、外周凸部15から熱電子が放出されないよ
うになっている。
レーザ光?s20から照射されたレーザ光線LBが陰極
10aの熱電子放出局部14に照射されると、その部分
が局部的に加熱されることにより熱電子が放出される。
10aの熱電子放出局部14に照射されると、その部分
が局部的に加熱されることにより熱電子が放出される。
外周凸部15が接地電位に維持されているので、熱ML
F放出局部14から放出された熱電子は外周凸部15か
ら斥力を受けて中央側に集束する。この熱電子は陽極1
0bと陰極10aとの間に印加された高電圧により加速
されて、陽極10bのターゲット12に衝突して、その
部分(焦点)からX線を発生させる。
F放出局部14から放出された熱電子は外周凸部15か
ら斥力を受けて中央側に集束する。この熱電子は陽極1
0bと陰極10aとの間に印加された高電圧により加速
されて、陽極10bのターゲット12に衝突して、その
部分(焦点)からX線を発生させる。
このように、本実施例ではX線管10の外部からレーザ
光源を照射することにより、陰極10aを局部的に加熱
しているので、第7図に示した従来装置のような陰極加
熱用の回路1が不要になり、それだけ回路構成が簡単に
なる。
光源を照射することにより、陰極10aを局部的に加熱
しているので、第7図に示した従来装置のような陰極加
熱用の回路1が不要になり、それだけ回路構成が簡単に
なる。
星l裏隻撚
第5図は本発明の第2実施例を示している。
本実施例の特徴は、レーザ光源20から照射されたレー
ザ光線LBのビーム径を可変する光学手段とし、例えば
ズームレンズ25を備えたことにある。
ザ光線LBのビーム径を可変する光学手段とし、例えば
ズームレンズ25を備えたことにある。
ズームレンズ25でビーム径を調整されたレーザ光線L
Bは、反射ミラー30を介して陰極10aに照射される
。上述のようにレーザ光線のビーム径を可変することに
より、陰極10aで局部加熱される面積が変わるから、
その結果として、陽極10bのターゲット12に形成さ
れる焦点の大きさを任意に設定・変更することができる
。
Bは、反射ミラー30を介して陰極10aに照射される
。上述のようにレーザ光線のビーム径を可変することに
より、陰極10aで局部加熱される面積が変わるから、
その結果として、陽極10bのターゲット12に形成さ
れる焦点の大きさを任意に設定・変更することができる
。
なお、レーザ光線のビーム径を可変する光学手段として
は、上述のようなズームレンズ25以外に、それぞれ開
口径の異なる複数個のアパーチャを切り換え使用するこ
とによって、レーザ光線のビーム径を変更するようなも
のであってもよい。
は、上述のようなズームレンズ25以外に、それぞれ開
口径の異なる複数個のアパーチャを切り換え使用するこ
とによって、レーザ光線のビーム径を変更するようなも
のであってもよい。
髪1皇旌拠
第6図は本発明の第3実施例を示している。
第6図に示したX線管装置の特徴は、レーザ光源20か
ら照射されたレーザ光fALBを反射する手段とて、例
えば反射ミラー30を備え、この反射ミラー30を回転
制御部32で回転制御されるモータ31によって任意の
角度に設定できるようにしたことにある0本実施例によ
れば、陰極10aの熱電子放出局部14の表面上で、レ
ーザ光tALBの入射位置を任意に設定rることができ
る。すなわち、陰極10aの任をの複数個所をそれぞれ
局部的に加熱することができるので、その個所からそれ
ぞれ放出された熱電子が陽極10bのターゲット12の
それぞれ異なる位置に衝突することにより、複数個の焦
、点を形成することができる。また、焦点の離間距離は
、前記反射ミラー30の回動角度を変えることにより、
任意に調整することができる。なお、保持における反射
手段は、プリズム等の光学手段で構成することも可能で
ある。
ら照射されたレーザ光fALBを反射する手段とて、例
えば反射ミラー30を備え、この反射ミラー30を回転
制御部32で回転制御されるモータ31によって任意の
角度に設定できるようにしたことにある0本実施例によ
れば、陰極10aの熱電子放出局部14の表面上で、レ
ーザ光tALBの入射位置を任意に設定rることができ
る。すなわち、陰極10aの任をの複数個所をそれぞれ
局部的に加熱することができるので、その個所からそれ
ぞれ放出された熱電子が陽極10bのターゲット12の
それぞれ異なる位置に衝突することにより、複数個の焦
、点を形成することができる。また、焦点の離間距離は
、前記反射ミラー30の回動角度を変えることにより、
任意に調整することができる。なお、保持における反射
手段は、プリズム等の光学手段で構成することも可能で
ある。
また、上述の各実施例では、回転陽極型のX線管装置を
例にとって説明したが、本発明は固定陽極型のX線管装
置にも適用することができる。
例にとって説明したが、本発明は固定陽極型のX線管装
置にも適用することができる。
G2発明の効果
この発明によれば次のような効果を奏する。
すなわち、この発明によれば、従来装置のような陰極加
熱用のフィラメント回路が不要になり、その分、陰極構
造を電気回路的に簡単化することが可能になる。
熱用のフィラメント回路が不要になり、その分、陰極構
造を電気回路的に簡単化することが可能になる。
また、陰極を加熱するためにレーザ光線を使ったので、
次のような応用も容易である。
次のような応用も容易である。
すなわち、レーザ光線のビーム径を任意に変更すること
によって、陽極に形成される佳点の大きさを任意に設定
・変更することができる。さらに、陰極へのレーザ光線
入射位置を任意に変えることで、陰極の複数個所を局部
的に加熱して、陽極上に複数個の焦点を形成するという
応用も可能であり、各軟点の離間距離は、レーザ光線を
反射する反射ミラーの角度を調整することなどにより、
任意に設定することができる。
によって、陽極に形成される佳点の大きさを任意に設定
・変更することができる。さらに、陰極へのレーザ光線
入射位置を任意に変えることで、陰極の複数個所を局部
的に加熱して、陽極上に複数個の焦点を形成するという
応用も可能であり、各軟点の離間距離は、レーザ光線を
反射する反射ミラーの角度を調整することなどにより、
任意に設定することができる。
第1図ないし第4回は、この発明の第1実施例に係り、
第1図はX線管装置の概略構成を示した回路図、第2図
はX線管の概略構成図、第3図は陰極におけるレーザ光
線入射面の平面図、第4図は第3図のrV−rV断面図
である。第5図はこの発明の第2実施例の説明図、第6
閣はこの発明の第3実施例の説明図である。 第7図は従来装置の概略構成を示した回路図である。 10・・・X線管 10b・・・陽極 14・・・熱電子放出局部 16・・・レーザ光線反射膜 25・・・ズームレンズ 31・・・モータ 10.1・・・陰極 13・・・溝 15・・・外周凸部 20・・・レーザ光源 30・・・反射ミラー 32・・・回転制御部
第1図はX線管装置の概略構成を示した回路図、第2図
はX線管の概略構成図、第3図は陰極におけるレーザ光
線入射面の平面図、第4図は第3図のrV−rV断面図
である。第5図はこの発明の第2実施例の説明図、第6
閣はこの発明の第3実施例の説明図である。 第7図は従来装置の概略構成を示した回路図である。 10・・・X線管 10b・・・陽極 14・・・熱電子放出局部 16・・・レーザ光線反射膜 25・・・ズームレンズ 31・・・モータ 10.1・・・陰極 13・・・溝 15・・・外周凸部 20・・・レーザ光源 30・・・反射ミラー 32・・・回転制御部
Claims (1)
- (1)陰極局部を加熱することにより放出した熱電子を
陽極に衝突させることによりX線を発生させるX線管装
置であって、X線管の外部からX線管内部の前記陰極局
部にレーザ光線を照射して、陰極局部を加熱するレーザ
光源を備えたことを特徴とするX線管装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8707190A JPH03285239A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | X線管装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8707190A JPH03285239A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | X線管装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03285239A true JPH03285239A (ja) | 1991-12-16 |
Family
ID=13904713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8707190A Pending JPH03285239A (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | X線管装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03285239A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1208582A4 (en) * | 1999-05-13 | 2003-01-29 | Photoelectron Corp | MINITURIZED X-RAY SOURCE AND FLEXIBLE PROBE |
| JP2006134876A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | General Electric Co <Ge> | 電子放出器アセンブリ、及び電子ビームを発生する方法 |
| JP2007080818A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Siemens Ag | X線放射器 |
| DE102006024435A1 (de) * | 2006-05-24 | 2007-11-29 | Siemens Ag | Röntgenstrahler |
| US7526068B2 (en) | 2001-06-19 | 2009-04-28 | Carl Zeiss Ag | X-ray source for materials analysis systems |
| USRE41741E1 (en) | 2001-06-19 | 2010-09-21 | Carl Zeiss Ag | Optically driven therapeutic radiation source having a spiral shaped thermionic cathode |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP8707190A patent/JPH03285239A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1208582A4 (en) * | 1999-05-13 | 2003-01-29 | Photoelectron Corp | MINITURIZED X-RAY SOURCE AND FLEXIBLE PROBE |
| US7526068B2 (en) | 2001-06-19 | 2009-04-28 | Carl Zeiss Ag | X-ray source for materials analysis systems |
| USRE41741E1 (en) | 2001-06-19 | 2010-09-21 | Carl Zeiss Ag | Optically driven therapeutic radiation source having a spiral shaped thermionic cathode |
| JP2006134876A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | General Electric Co <Ge> | 電子放出器アセンブリ、及び電子ビームを発生する方法 |
| JP2007080818A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Siemens Ag | X線放射器 |
| DE102006024435A1 (de) * | 2006-05-24 | 2007-11-29 | Siemens Ag | Röntgenstrahler |
| DE102006024435B4 (de) * | 2006-05-24 | 2012-02-16 | Siemens Ag | Röntgenstrahler |
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