JPH03290291A - オフセットブランケットの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は、オフセット印刷に使用されるオフセットブ
ランケットに関するものである。

〈従来の技術〉 従来、上記オフセットブランケットにおいては、特に高
速印刷時や、コート紙のような表面が平滑な紙の印刷時
に、紙とブランケットとの間に粘着力が生じて、上記紙
がカールしたり、破れたりするというトラブルが発生す
ることがある。これは、いわゆる紙離れ性（排紙性）が
悪いために起る現象で、このようなトラブルが発生する
と、印刷機による印刷物の生産性が大きくダウンする。

したがって、オフセットブランケットには良好な排紙性
か要求される。

オフセットブランケットは、通常、少なくとも１層の基
材からなる支持体層の表面に、未加硫のゴム層を形成し
たのち、この未加硫ゴム層を加硫して表面ゴム層を形成
することで製造される。そして、通常は、加硫後の表面
ゴム層の表面を、パフ等によって研磨して、その表面粗
さを整えることが行われている。

ところが、上記研磨による表面粗さの調整法では、表面
粗さが極めて大きくなるか、或いは、全く平滑になって
しまうかの二者択一になるため、排紙性と、網点再現性
等の印刷適性、印刷後のインキの洗浄性等の作業性とを
両立できない。

すなわち、表面粗さが極めて大きい表面ゴム層は排紙性
に優れるため、高速印刷機や、表面が平滑な紙の印刷に
適したものとなる。しかし、網点再現性が低下し、また
、印刷後のインキの洗浄性が低下するという問題がある
。

一方、平滑な表面ゴム層は、網点再現性やインキの洗浄
性には優れるものの、紙への密着性が大きく、排紙性が
悪化してしまう。

未加硫ゴム層の表面に、打粉としてのタルクを散布した
状態で加硫を行った後、タルクを除去して、加硫後の表
面ゴム層の表面粗さを整える方法がある。この方法によ
れば、表面ゴム層の表面粗さは、タルクの粒径に対応す
るので、前記排紙性、印刷適性、作業性を両立し得る表
面粗さを有する表面ゴム層を形成することが容易になる
。

しかし、タルクは、加硫後の表面ゴム層から完全に除去
することが困難で、表面ゴム層に残留したタルクが、イ
ンキの転移等を阻害するという問題がある。

そこで、上記タルクに代えてデンプンの粉末を用い、加
硫後に、上記デンプンを水酸化ナトリウム水溶液で溶解
除去して、表面ゴム層の表面粗さを整える方法が提案さ
れた（特開昭６２−２５３４９３号公報参照）。

デンプンを溶解するために水酸化ナトリウム水溶液を使
用するのは、以下の理由による。

すなわち、水または冷水を使用すると、デンプンを完全
に溶解させるまでに長時間を要し、生産性が著しく低下
する。一方、温水を使用すると、溶解速度は向上するが
、溶液が糊状になって、表面ゴム層からの除去が困難に
なり、結果的に、高い生産性が得られない。これに対し
、水酸化ナトリウム水溶液を用いた場合には、デンプン
が加水分解されて分子量が低下するので、表面ゴム層か
ら速やかに溶解、除去することができる。

しかし、上記方法では、加硫後の表面ゴム層に残留する
水酸化ナトリウムを中和して除去しなければならず、そ
の分だけ工程が増加して、生産効率が低下するという問
題がある。また、水酸化ナトリウムや、中和のための酸
が原因となって、作業環境の悪化や、工場周辺の環境保
全等の問題を生じるおそれがある。このため、安全対策
や、排水処理設備等が必要となって、製造コストが上昇
するという問題がある。

冷水ないし温水による溶解除去が可能な砂糖、ポリビニ
ルアルコール、アラビアゴム、ゼラチン、尿素、カルボ
キシメチルセルロース等の水溶性の有機物、或いは硫酸
ナトリウム、塩化ナトリウム、硝酸アンモニウム等の水
溶性の無機物を用いる方法も提案されている（特開平１
−１４１０３５号公報参照）。

ところが、上記有機物のうち、ポリビニルアルコールは
、重合度にもよるが水溶性が悪く、水洗、除去に長時間
を要するため、生産性を向上することができない。

また、上記ポリビニルアルコール以外の化合物は、水溶
性に優れているため、高い吸湿性を示し、潮解したり、
含水状態になったりするという問題がある。このため、
上記化合物は、印刷適性、洗浄性に優れた表面ゴム層を
形成するのに適した、粒径２０μ出前後の粉末状にする
ことが困難であり、粒径の大きいまま使用したのでは、
印刷適性、作案件に優れた表面状態を有する表面ゴム層
を形成することができない。また、含水状態の粉末を使
用した場合には、ゴムの加硫に悪影響を与えるおそれも
ある。

この発明は以上の事情に鑑みてなされたものであって、
排紙性、印刷適性、作業性等に優れた表面ゴム層を有す
るオフセットブランケットを、安全、安価、且つ効率良
く、高い生産性をもって製造することができる製造方法
を提供することを目的としている。

く課題を解決するための手段および作用〉上記課題を解
決するための、この発明のオフセットブランケットの製
造方法は、支持体層上に、デキストリン粉末を、少なく
とも表層部に混入、および／または表面に付着させた未
加硫ゴム層を形成し、上記未加硫ゴム層を加硫して表面
ゴム層を形成したのち、上記デキストリン粉末を水洗除
去することを特徴としている。

上記構成からなる、この発明のオフセットブランケット
の製造方法においては、デンプンの加水分解生成物であ
る、水溶性に優れたデキストリンを使用しているので、
未加硫ゴム層加硫後の水洗除去が容易になる。また、上
記デキストリンは、従来用いられていた、種々の水溶性
の化合物のように高い吸湿性を示さないので、排紙性、
印刷適性、作業性に優れた表面ゴム層を形成するのに適
した粒径を有する粉末状で使用することができる。

以下に、この発明のオフセットブランケットの製造方法
を、図面を参照しつつ説明する。

まず、支持体層１を用意する（第１図）。なお図では、
複数枚の織布１１，１１・・・と、合成樹脂発泡体等か
らなる圧縮性層１２とを、接着剤層Ｇ。

Ｇ・・・を介して積層してなる、圧縮性オフセットブラ
ンケット用の支持体層１を示しているが、他の層構成の
支持体層を使用することもできる。

次に、上記支持体層１の表面に、未加硫ゴム層を形成す
る。上記未加硫ゴム層としては、第２図（ωに示すよう
に、水溶性のデキストリン粉末Ｄ１Ｄ・・・を少なくと
も表層部に混入、分散させた未加硫ゴム層２１、第２図
中）に示すように、表面に上記デキストリン粉末り、Ｄ
・・・を付着させた未加硫ゴム層２２、または、第２図
（Ｃ）に示すように、水溶性のデキストリン粉末り、Ｄ
・・・を少なくとも表層部に混入、分散させると共に、
表面に上記デキストリン粉末り、Ｄ・・・を付着させた
未加硫ゴム層２３の何れかを選択することができる。ま
た、図示していないが、上記未加硫ゴム層としては、水
溶性のデキストリン粉末を層全体に混入、分散させた未
加硫ゴム層や、さらに、水溶性のデキストリン粉末を層
全体に混入、分散させると共に、その表面に上記デキス
トリン粉末を付着させた未加硫ゴム層を用いることもで
きる。

第２図（ａｌに示す未加硫ゴム層２１は、デキス・トリ
ン粉末り、Ｄ・・・が混入されていないゴム糊を支持体
層１上に塗布するか、あるいは、デキストリン粉末り、
Ｄ・・・が混入されていないゴム板を支持体層１上に積
層して下地層２１ａを形成した後、この下地層２１ａの
表面に、デキストリン粉末り。

Ｄ・・・が混入されたゴム糊を塗布して表層２１ｂを形
成することで形成される。

第２図＜ｔｎに示す未加硫ゴム層２２は、デキストリン
粉末り、Ｄ・・・が混入されていないゴム糊を支持体層
１上に塗布した後、表面に、デキストリン粉末り、Ｄ・
・を散布することで形成される。

第２図（Ｃ１に示す未加硫ゴム層２３は、第２図（ａｌ
に示す未加硫ゴム層２１と同様にして、デキストリン粉
末り、Ｄ・・・を含まない下地層２３ａと、デキストリ
ン粉末り、Ｄ・・・を含む表層２３ｂとを形成した後、
表面に、デキストリン粉末り、Ｄ・・・を散布すること
で形成される。

次に、上記未加硫ゴム層２１．２２または２３を、従来
公知のゴム加硫装置を用いて加硫すると、支持体層１の
表面に、上記未加硫ゴム層２１゜２２または２３が加硫
される。

この後、上記未加硫ゴム層２１．２２または２３の加硫
により形成された表面ゴム層２を冷水ないし温水で洗浄
すると、表面ゴム層２の少なくとも表層部に混入、分散
されたデキストリン粉末り、Ｄ・・・、および／または
表面に付着したデキストリン粉末り、Ｄ・・・が溶出し
て除去される。そして、上記表面ゴム層２の表層部およ
び／または表面に、上記デキストリン粉末り、Ｄ・・・
に対応した凹部が形成されて、表面ゴム層２の表面粗さ
が整えられたオフセットブランケットが完成する（第３
図）。なお、上記デキストリン粉末り、Ｄ・・・は、水
溶性に優れ、冷水または常温の水でも速やかに溶解する
ので、表面ゴム層２の洗浄には、加熱エネルギーを必要
とする温水でなく、上記冷水ないし常温の水を使用する
ことが好ましい。

未加硫ゴム層２１〜２３を構成する際に使用されるゴム
糊としては、未加硫状態の原料ゴムを、加硫剤、加硫促
進剤、加硫促進助剤、充填剤等の各種添加剤と共に、溶
媒中に溶解、あるいは分散、混合させた液状ないし糊状
のものが使用される。

上記ゴム糊は、バーコード法、ロールコート法等の従来
公知の種々の塗布方法により、前記支持体層１上に塗布
される。

また、ゴム板としては、溶媒を除く上記各成分を混練し
、板状に成形したものが用いられる。

上記ゴム糊およびゴム板に含まれる原料ゴムと０ しては、天然ゴムラテックス、スチレン−ブタジェンゴ
ム、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、エチレン・プロ
ピレンゴム、エチレン・プロピレン・ジエンゴム、アク
リルゴム、多硫化ゴム、エピクロルヒドリンゴム、ウレ
タンゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴム、ブタジェンゴ
ム、ブチルゴム、イソプレンゴム等が挙げられる。

また、デキストリンとしては、デンプンを希酸または加
熱により僅かに加水分解した高分子量の、いわゆる可溶
性デンプンから、ヨウ素デンプン反応を呈しない低分子
量のものまで、従来公知の種々のデキストリンを使用す
ることができ、特に、流動焙焼法等で製造される黄色デ
キストリンが好適に使用される。

上記デキストリンの粒径は、本発明によって製造される
オフセットブランケットにおける表面ゴム層の排紙性、
印刷適性、作業性を考慮すると１〜５０μｍの範囲内で
あることが好ましく、１０〜２０μｍの範囲内であるこ
とがより好ましい。デキストリン粉末の粒径が１μｍ未
満では排紙性が悪化１ し、５０μｎを超えると、印刷適性、作業性が悪化する
おそれがある。

上記デキストリン粉末り、Ｄ・・・を、ゴム糊中に混入
、分散させる場合には、原料ゴムに対するデキストリン
粉末り、Ｄ・・・の配合割合を、５０〜１５０重量％の
範囲内にすることが好ましい。原料ゴムに対するデキス
トリン粉末り、Ｄ・・・の配合割合が５０重量％未満で
は、形成される表面ゴム層の表面粗さが不足して排紙性
が悪化するおそれがある。また、原料ゴムに対するデキ
ストリン粉末り、Ｄ・・・の配合割合が１５０重量％を
超えると、表面ゴム層の強度が不十分になるおそれがあ
る。

なお、デキストリン粉末り、Ｄ・・・が混入、分散され
た上に、さらにデキストリン粉末り、Ｄ・・・を散布す
る場合には、原料ゴムに対するデキストリン粉末り、Ｄ
・・・の配合割合は、上記下限範囲より少なくても良い
。

一方、上記デキストリン粉末り、Ｄ・・・を、未加硫ゴ
ム層の表面に付着させる場合の付着量は、１０〜２０ｇ
／ｒｒｆの範囲内であることが好ましい。

２ デキストリン粉末り、Ｄ・・・の付着量が１０ｇ／ｒｒ
？未満では、形成される表面ゴム層の表面粗さが不足す
るおそれがある。また、デキストリン粉末り。

Ｄ・・・の付着量が２０ｇ１ｒｄを超えると、デキスト
リン粉末の付着ムラによる厚みのばらつきが起り、表面
ゴム層の表面粗さにばらつきが生じるおそれがある。な
お、デキストリン粉末り、Ｄ・・・が混入、分散された
上に、さらにデキストリン粉末り、　Ｄ・・・を散布す
る場合には、デキストリン粉末り、　Ｄ・・・の付着量
は、上記下限範囲より少なくても良い。

加硫剤としては、例えばテトラメチルチウラムジスルフ
ィド（ＴＭ・ＴＤ）　、Ｎ、Ｎ’　−ジチオビスモルホ
リン等の有機含硫黄化合物や硫黄等が挙げられる。

また、加硫促進剤としては、ジベンゾチアジルジスルフ
ィド（ＭＢＴＳ）　、Ｎ−シクロへキシル−２−ベンゾ
チアジルスルフェンアミド（ＣＢ　５）Ｎ−オキシジエ
チレン−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド（、ＯＢ
　Ｓ　）　、Ｎ　−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチア
ジルスルフェンアミド（ＴＢＢＳ）３ 等のチアゾール類が主促進剤として挙げられ、必要に応
じて、１，３−ジフェニルグアニジン（ＤＰＧ）、テト
ラメチルチウラムモノスルフィド（ＴＭＴＭ）　、ジメ
チルジチオカーバミン酸亜鉛（ＺｎＭＤＣ）、エチルフ
ェニルジチオカーバミン酸亜鉛（ＺｎＥＰＤＣ）　、お
よび加硫剤のところで挙げたテトラメチルチウラムジス
ルフィド（ＴＭＴＤ）等を２次促進剤として適宜配合す
ることもできる。

加硫促進助剤としては、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、
酸化鉛等の金属酸化物や炭酸亜鉛、あるいは、ステアリ
ン酸、オレイン酸、綿実脂肪酸等ノ脂肪酸類、ジシクロ
ヘキシルアミン、トリエタノールアミン等のアミン類、
ジエチレングリコール等の多価アルコール類等が挙げら
れる。

充填剤としては、炭酸カルシウム、ハードフレソフトク
レー、硫酸バリウム、珪藻上、タルク、マイカ、アスベ
スト、グラファイト、軽石等の無機充填剤；再生ゴム、
粉末ゴム、アスファルト類、スチレン樹脂、にかわ等の
有機充填剤が挙４ げられる。

上記加硫剤、加硫促進剤、充填剤等は、原料ゴムの種類
等に応じて、適宜に配合することができる。

〈実施例〉 以下、実施例にもとづいて、この発明を説明する。

実施例１ 原料ゴムとしてのアクリロニトリルブタジェンゴム１０
０重量部に、コーンスターチから流動焙焼法で製造した
黄色デキストリン粉末（平均重合度３１０００〜３７０
００、粒径１２〜１８μ１ｌｌ）１００重量部と、加硫
剤としての硫黄２重量部、加硫促進剤としてのテトラメ
チルチウラムジスルフィド（ＴＭＴＤ）１重量部、加硫
促進助剤としての酸化亜鉛５重量部、充填剤としての含
水珪酸２０重量部を配合し、粘度が５００ｃＰになるま
でトルエンを加えて、均一に攪拌混合してゴム糊を作成
した。

次に、綿製の基布３枚がゴム系接着剤を介して５ 積層された、略矩形状の支持体層（縦１０ｍ１横１３ｍ
、厚み１．９ｍｍ）の表面に形成された、アクリロニト
リルブタジェンゴム系の下地層（厚み０．５ｍｍ）の表
面に、上記ゴム糊を薄く糊引きして表層を形成し、上記
下地層と表層とｂ・らなる未加硫ゴム層を形成した。

次に、上記未加硫ゴム層の表層がある程度乾燥した段階
で、コーンスターチから流動焙焼法で製造した黄色デキ
ストリン粉末（平均重合度３１０００〜３７０００、粒
径１２〜１８μｍ）を散布して、未加硫ゴム層の表面に
付着させた。黄色デキストリン粉末の付着量は１６　ｇ
　／　ｃｏ？であった。

次に、上記未加硫ゴム層の表面に離型紙を重ねた状態で
、支持体層をドラムに巻き付け、加硫缶に入れて１４０
℃で５時間加硫させた。

加硫終了後、支持体層をドラムから巻戻して、表面ゴム
層を冷水で手洗いし、黄色デキストリン粉末を除去して
、オフセットブランケットを得た。

得られたオフセットブランケットの表面を観察６ したところ、表面ゴム層の表層部に、上記黄色デキスト
リン粉末の粒径に相当する、１２〜１８μｍの四部が多
数形成された、厚み２０μｍの多孔質層が確認された。

また、この表面ゴム層の表面粗さは、十点平均粗さで５
〜８μ出であった。

実施例２ 表面ゴム層の表層を形成するためのゴム糊として、黄色
デキストリン粉末１００重量部を配合していないものを
使用したこと以外は、上記実施例１と同様にしてオフセ
ットブランケットを得た。

得られたオフセットブランケットの表面を観察したとこ
ろ、表面ゴム層の表層部に、黄色デキストリン粉末の粒
径に相当する、１２〜１８μｍの凹部が多数形成された
、厚み２０μｍの多孔質層が確認された。また、この表
面ゴム層の表面粗さは、十点平均粗さで５〜８μｍであ
った。

実施例３ 未加硫ゴム層の表層上に黄色デキストリン粉末を散布し
なかったこと以外は、上記実施例１と同様にしてオフセ
ットブランケットを得た。

得られたオフセットブランケットの表面を観察したとこ
ろ、表面ゴム層の表層部に、黄色デキストリン粉末の粒
径に相当する、１２〜１８μｍの凹部が多数形成された
、厚み２０μｍの多孔質層が確認された。また、この表
面ゴム層の表面粗さは、十点平均粗さで５〜８μｍてあ
った。

比較例１，２ 表面ゴム層の表層を形成するだめのゴム糊として、黄色
デキストリン粉末１００重量部を配合していないものを
使用すると共に、形成された未加硫ゴム層の表層上に黄
色デキストリン粉末を散布しなかったこと以外は、上記
実施例１と同様にしてオフセットブランケットを製造し
た後、表面ゴム層の表面をパフ研磨して、その表面粗さ
（十点平均粗さＲＺ）を、下記表１に示す値に調整した
。

表１ ７ ８ 上記実施例並びに比較例で得られたオフセットブランケ
ットについて、下記の各試験を行った。

網点再現性試験 上記実施例並びに比較例のオフセットブランケットを、
オフセット印刷機（リョービ社製）に装填し、網点原版
［網点のサイズ１５０線（１１ｎｃｈの長さに網点が１
５０個）］を使用して、下記条件で、コート紙（三菱製
紙社製）に印刷して、印刷物の状態を観察した。

・試験条件 印刷速度・・・５０００　ｒｐｈ ベ　タ　濃度・・・１．５ ０一ル温度・・・２３℃ 室　　　　　　温・・・２３℃ 湿　　　　　　度・・・５５％ その結果、比較例２のオフセットブランケットが最も網
点再現性に優れており、実施例１−〜３のオフセットブ
ランケットは、無方向性の細かい髭が観察されたものの
、階調再現性がよく、網点形状も良好であった。これに
対し、比較例１のオフ９ セットブランケットは、研磨ピッチによる髭が観察され
、網点も太る傾向にあった。

べた着肉性試験 べた原版を用いて、上記と同様の条件で、コート紙（三
菱製紙社製）に印刷して、印刷物の状態を観察した。

その結果、実施例１〜３のオフセットブランケットにお
いては、濃度ムラが少なく、良好な印刷が得られたが、
比較例２のオフセットブランケットでは、白抜けが目立
ち、比較例１のオフセットブランケットでは、研磨ピッ
チによる濃度ムラが観察された。

洗浄性試験 上記実施例並びに比較例のオフセットブランケットを用
いて、油性インクによる５０００枚の全面べた印刷を行
った後、上記油性インク用の洗浄剤（大日本インキ社製
の商品名「グイクリーン」）を用いて、それぞれ同じ条
件でオフセットブランケットの表面を洗浄して、洗浄性
を観察した。その結果、比較例２のオフセットブランケ
ットが最０ も洗浄性に優れており、次に実施例１〜３のオフセット
ブランケットが洗浄性に優れていた。これに対し、比較
例１のオフセットブランケットは、研磨ピッチの部分に
インキの残留が観察された。

排紙性試験 実機印刷を行った際の排紙台を比較したところ実施例１
〜３のオフセットブランケットを用いたききが最も排紙
台が小さく、次いで比較例１のオフセットブランケット
、比較例２のオフセットブランケットの順に排紙台が大
きくなった。

また、べた原版を用いて、１時間当たりの印刷枚数３０
００枚、５０００枚、８０００枚の各印刷速度で、コー
ト紙（三菱製紙社製）に全面べた印刷を行った際のコー
ト紙１０枚分のカール高を測定したところ下記表２に示
すように、実施例１〜３のオフセットブランケットを用
いたときが最もカール高が低く、次いで比較例１のオフ
セットブランケット、比較例２のオフセットブランケッ
トの順にカール高が高くなった。

上記カール高の測定値を、前記網点再現性、べ２ま た着肉性、排紙台、並びに、洗浄性の評価と共に、下記
表２に示す。なお、表２において、◎は極めて良好、○
は良好、△はやや不良、×は不良を示す。　　　　　　
　　　　　　　　（以下余白）　２ 比較例３〜９ 黄色デキストリン粉末に代えて、下記の水溶性の有機物
を使用したこと以外は、前記実施例１と同様にして、オ
フセットブランケットを製造した。

　３ 比較例３：デンプン（平均分子量 １００００００〜５ｏｏｏｏｏｏ、 粒径１０〜６０μｍ） 比較例４：砂糖（粒径１５０〜５００μｍ）比較例５：
ポリビニルアルコール（粒径５０〜１５０μｍ） 比較例６：アラビアゴム（粒径７０〜１５０μｍ）比較
例７：ゼラチン（粒径５０〜１５０μｍ）比較例８：尿
素（粒径５０〜１００μｍ）比較例９：カルボキシメチ
ルセルロース（粒径１００〜５００μｍ） そして、上記各比較例のオフセットブランケットを用い
て、前記と同様にして網点再現性、べた着肉性、排紙台
、並びに、洗浄性を評価した。結果を、前記実施例１の
評価と併せて、各化合物の４ 水溶性、溶解除去に要するコスト、排水が環境に与える
影響の有無と共に、下記表３に示す。なお、表３におい
て、◎は極めて良好、Ｏは良好、△はやや不良、Ｘは不
良、−は測定不能を示す。

（以下余白） 　５ ６ 上記表３の結果から明らかなように、ポリビニルアルコ
ールを用いた比較例５では、加硫後の水洗により、上記
ポリビニルアルコールを完全に除去することができず、
網点再現性、べた着肉性、排紙性、および洗浄性を評価
することができなかった。

また、デンプンを用いた比較例３においては、加硫後の
水洗、除去に長時間を要した。

さらに、水溶性に優れた有機物を用いた比較例４、並び
に比較例６〜９では、これらの有機物の粒径が大きいた
め、印刷に適した表面粗さを有する表面ゴム層を形成す
ることができなかった。

これに対し、実施例１では、排紙性、印刷適性、作業性
等を両立し得る表面ゴム層を有するオフセットブランケ
ットを、安全、安価、且つ効率良く製造することができ
ることが判明した。

〈発明の効果〉 この発明のオフセットブランケットの製造方法は、以上
のように構成されており、デンプンの加水分解生成物で
ある、水溶性に優れたデキストリ７ ンを使用しているので、未加硫ゴム層加硫後の水洗除去
が容易になる。また、上記デキストリンは、従来用いら
れていた、種々の水溶性の化合物のように高い吸湿性を
示さないので、排紙性、印刷適性、作業性に優れた表面
ゴム層を形成するのに適した粒径を有する粉末状で使用
することができる。

したがって、この発明のオフセットブランケットの製造
方法によれば、排紙性、印刷適性、作業性等に優れた表
面ゴム層を有するオフセットブランケットを、安全、安
価、且つ効率良く、高い生産性をもって製造することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のオフセットブランケットの製造方法
に使用される支持体層の一例を示す模式的断面図、第２
図（ａ）〜（ｅ）は、それぞれ、上記支持体層の表面に
未加硫ゴム層を形成した状態を示す模式的断面図、第３
図は上記未加硫ゴム層を加硫後にデキストリン粉末を水
洗除去して完成されたオフセットブランケットを示す模
式的断面図である。 　８ １・・・支持体層、２・・・表面ゴム層、２１．２２．
２３・・・未加硫ゴム層、２１ｂ、２３ｂ・・・表層、 Ｄ・・・デキストリン粉末。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、支持体層上に、デキストリン粉末を、少なくとも表
   層部に混入、および／または表面に付着させた未加硫ゴ
   ム層を形成し、上記未加硫ゴム層を加硫して表面ゴム層
   を形成したのち、上記デキストリン粉末を水洗除去する
   ことを特徴とするオフセットブランケットの製造方法。