JPH03294845A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
(従来技術)
写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。−方、カタログや、大型ポスターの製版には
、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広
く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗
くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに
線数/インキが大きく細い点の撮影になる。従って網階
調の再現性を維持するためより一層広いラチチュードを
有する画像形成方法が要求されている。
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。−方、カタログや、大型ポスターの製版には
、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広
く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗
くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに
線数/インキが大きく細い点の撮影になる。従って網階
調の再現性を維持するためより一層広いラチチュードを
有する画像形成方法が要求されている。
製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるいは
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オルソ
増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材料
はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために画
質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキセ
ノンランプ光源に対してより顕著となる。
広いラチチュードの要望に応えるシステムとし7て塩臭
化銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成
るリス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効
濃度をきわめて低くした(通常0.1モル/1以下)ハ
イドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非
画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒
化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られ
ている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低
いため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、
液温性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなさ
れて使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、作
業効率を低下させているのが現状であった。
化銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成
るリス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効
濃度をきわめて低くした(通常0.1モル/1以下)ハ
イドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非
画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒
化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られ
ている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低
いため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、
液温性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなさ
れて使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、作
業効率を低下させているのが現状であった。
このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
. 221. 857号、同4,224,401号、同
4,243゜739号、同4,272,606号、同4
,311.781号にみられるように、特定のアシルヒ
ドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真
感光材料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を
0.15モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する
現像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像
を形成するシステムが提案された。この新しい画像形成
システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率
の高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭
化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
. 221. 857号、同4,224,401号、同
4,243゜739号、同4,272,606号、同4
,311.781号にみられるように、特定のアシルヒ
ドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真
感光材料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を
0.15モル/1以上含み、良好な保存安定性を有する
現像液で処理して、γが10を越える超硬調のネガ画像
を形成するシステムが提案された。この新しい画像形成
システムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率
の高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭
化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定性、
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らにオリジナル再現性の改良されたシステムが望まれて
いる。
特開昭61−213847号、同64−72140号お
よびUS4,684,604号に酸化により写真有用基
を放出するレドックス化合物を含む感光材料が示され、
一方、塩臭化銀を用いた例は特開昭60−83028号
、同60−112034号、同62−235947号、
同63−103232号に示され、階調再現域を広げる
試みが示されている。しかしながら、ヒドラジン誘導体
を用いた超硬調処理システムではこれらのレドックス化
合物は硬調化を阻害する弊害があり、その特性を活すこ
とができなかった。
よびUS4,684,604号に酸化により写真有用基
を放出するレドックス化合物を含む感光材料が示され、
一方、塩臭化銀を用いた例は特開昭60−83028号
、同60−112034号、同62−235947号、
同63−103232号に示され、階調再現域を広げる
試みが示されている。しかしながら、ヒドラジン誘導体
を用いた超硬調処理システムではこれらのレドックス化
合物は硬調化を阻害する弊害があり、その特性を活すこ
とができなかった。
なかった。
(発明の目的)
従って本発明の目的は、第1に、安定性の高い現像液を
用いて硬調な画像が得られる製版用感光材料を提供する
ことにある。
用いて硬調な画像が得られる製版用感光材料を提供する
ことにある。
第2に、ヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀写真
感光材料において、高品質の網点が得られ、かつ網階調
の広い製版用感光材料を提供することにある。
感光材料において、高品質の網点が得られ、かつ網階調
の広い製版用感光材料を提供することにある。
第3に、ヒドラジン化合物を含有するハロゲン化銀写真
感光材料において、黒ボッの発生のない製版用感光材料
を提供することにある。
感光材料において、黒ボッの発生のない製版用感光材料
を提供することにある。
(発明の構成)
本発明のこれらの目的は、支持体上に塩化銀含有率が少
なくとも50モル%のハロゲン化銀とヒドラジン誘導体
を含むハロゲン化銀乳剤層を少なくとも1層有するハロ
ゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層
およびその他の親水性コロイド層の少なくとも1層に酸
化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス
化合物と下記一般式(I)で表わされる化合物を含有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって
達成された。
なくとも50モル%のハロゲン化銀とヒドラジン誘導体
を含むハロゲン化銀乳剤層を少なくとも1層有するハロ
ゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層
およびその他の親水性コロイド層の少なくとも1層に酸
化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス
化合物と下記一般式(I)で表わされる化合物を含有す
ることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によって
達成された。
一般式(I)
Z、及びZ、は各々ベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
表わす。
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
表わす。
R1及びR8は各々アルキル基またはアラルキル基を表
わす。Xは電荷バランス対イオンであり、nはO又はl
を表わす。
わす。Xは電荷バランス対イオンであり、nはO又はl
を表わす。
一般式(I)で表わされる実質的に可視域に吸収極大を
もたない化合物について説明する。
もたない化合物について説明する。
一般式(I)
Z、及び2.は各々ベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
表わす。
ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
表わす。
R1及びR2は各々アルキル基またはアラルキル基を表
わす。Xは電荷バランス対イオンであり、nはO又は1
を表わす。
わす。Xは電荷バランス対イオンであり、nはO又は1
を表わす。
ここで、一般式(I)がラジカル体となる場合には、好
ましくは、2..2.で示される原子群またはR1、R
2に示される基から水素原子が1個離脱したものであり
、特にR,、R2から水素原子が1個離脱したものが好
ましい。
ましくは、2..2.で示される原子群またはR1、R
2に示される基から水素原子が1個離脱したものであり
、特にR,、R2から水素原子が1個離脱したものが好
ましい。
また、一般式(I)において、置換基として酸化を有し
たもの(例えばR1、R9が酸基を有したアルキル基ま
たはアラルキル基)においては、それ自体が一般式(I
)で示される化合物となりうる。
たもの(例えばR1、R9が酸基を有したアルキル基ま
たはアラルキル基)においては、それ自体が一般式(I
)で示される化合物となりうる。
一般式(I)において、Zl及びZ、で形成される複素
環として好ましくはベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ナフトオキサゾール核、ナフトチアゾール核
、チアゾール核、またはオキサゾール核であり、更に好
ましくは、ベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾール核
、またはナフトオキサゾール核であり、最も好ましくは
、ベンゾオキサゾール核またはナフトオキサゾール核で
ある。一般式(I)において、Z、又はZ2で形成され
る複素環は少くとも一つの置換基で置換されティてモヨ
く、その置換基としてはハロゲン原子(例えば弗素、塩
素、臭素、沃素)、ニトロ基、アルキル基(好ましくは
炭素数1〜4のもの、例えばメチル基、エチル基、トリ
フルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基)、アリ
ール基(例えばフェニル基)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、エトキシ基
、プロポキシ基、ブトキシ基)、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜5のもの、
例えばエトキシカルボニル基)、ヒドロキシ基、シアノ
基等を挙げる事ができる。
環として好ましくはベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ナフトオキサゾール核、ナフトチアゾール核
、チアゾール核、またはオキサゾール核であり、更に好
ましくは、ベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾール核
、またはナフトオキサゾール核であり、最も好ましくは
、ベンゾオキサゾール核またはナフトオキサゾール核で
ある。一般式(I)において、Z、又はZ2で形成され
る複素環は少くとも一つの置換基で置換されティてモヨ
く、その置換基としてはハロゲン原子(例えば弗素、塩
素、臭素、沃素)、ニトロ基、アルキル基(好ましくは
炭素数1〜4のもの、例えばメチル基、エチル基、トリ
フルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基)、アリ
ール基(例えばフェニル基)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、エトキシ基
、プロポキシ基、ブトキシ基)、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜5のもの、
例えばエトキシカルボニル基)、ヒドロキシ基、シアノ
基等を挙げる事ができる。
一般式(I)でZl及びZ2に関し、ベンゾチアゾール
核としては、例えばベンゾチアゾール、5−クロロベン
ゾチアゾール、5−ニトロベンゾチアゾール、5−メチ
ルベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチアゾール、5
−ヨードベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾ
ール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベ
ンゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチアゾール、5
−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、5−フルオロ
ベンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチルベンゾチア
ゾール、5−トリフルオフメチルベンゾチアゾール、な
どを、ナフトチアゾール核としては例えば、ナフト[1
,2−d)チアゾール、ナフトC1,2−d)チアゾー
ル、ナフト〔2゜3−d〕チアゾール、5−メトキシナ
フト[1゜2−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔
2゜3−d〕チアゾール、などを、ベンゾセレナゾール
核としては例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベ
ンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、
5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、5−クロロ−6−
メチルベンゾセレナゾール、などを、ナフトセレナゾー
ル核としては例えば、ナフト[1,2−dlセレナゾー
ル、ナフト〔2゜1−d〕セレナゾールなどを、チアゾ
ール核としては例えば、チアゾール核、4−メチルチア
ゾール核、4−フェニルチアゾール核、4,5−ジメチ
ルチアゾール核、などを、チアゾリン核としては例えば
、チアゾリン核、4−メチルチアゾリン核などが挙げら
れる。
核としては、例えばベンゾチアゾール、5−クロロベン
ゾチアゾール、5−ニトロベンゾチアゾール、5−メチ
ルベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチアゾール、5
−ヨードベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾ
ール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベ
ンゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチアゾール、5
−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、5−フルオロ
ベンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチルベンゾチア
ゾール、5−トリフルオフメチルベンゾチアゾール、な
どを、ナフトチアゾール核としては例えば、ナフト[1
,2−d)チアゾール、ナフトC1,2−d)チアゾー
ル、ナフト〔2゜3−d〕チアゾール、5−メトキシナ
フト[1゜2−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔
2゜3−d〕チアゾール、などを、ベンゾセレナゾール
核としては例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベ
ンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、
5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、5−クロロ−6−
メチルベンゾセレナゾール、などを、ナフトセレナゾー
ル核としては例えば、ナフト[1,2−dlセレナゾー
ル、ナフト〔2゜1−d〕セレナゾールなどを、チアゾ
ール核としては例えば、チアゾール核、4−メチルチア
ゾール核、4−フェニルチアゾール核、4,5−ジメチ
ルチアゾール核、などを、チアゾリン核としては例えば
、チアゾリン核、4−メチルチアゾリン核などが挙げら
れる。
一般式(1)において21及びZ2に関し、ベンゾオキ
サゾール核としては例えば、ベンゾオキサゾール核、5
−クロロベンゾオキサゾール核、5〜メチルベンゾオキ
サゾール核、5−ブロモベンゾオキサゾール核、5−フ
ルオロベンゾオキサゾール核、5−フェニルベンゾオキ
サゾール核、5−メトキシベンゾオキサゾール核、5−
エトキシベンゾオキサゾール核、5−トリフルオロメチ
ルベンゾオキサゾール核、5−ヒドロキシベンゾオキサ
ゾール核、5−カルボキシベンゾオキサゾ−ル核、6−
メチルベンゾオキサゾール核、6−クロロベンゾオキサ
ゾール核、6−メドキシベンゾオキサゾール核、6−ヒ
ドロキシベンゾオキサゾール核、5,6−シメチルベン
ゾオキサゾール核などを、ナフトオキサゾール核として
は例えば、ナフト(2,1−d)オキサゾール核、ナフ
ト(1,2−d)オキサゾール核、ナフト〔2,3d〕
オキサゾール核、5−メトキシナフト〔1゜2−d〕オ
キサゾール核、などを挙げる事ができる。
サゾール核としては例えば、ベンゾオキサゾール核、5
−クロロベンゾオキサゾール核、5〜メチルベンゾオキ
サゾール核、5−ブロモベンゾオキサゾール核、5−フ
ルオロベンゾオキサゾール核、5−フェニルベンゾオキ
サゾール核、5−メトキシベンゾオキサゾール核、5−
エトキシベンゾオキサゾール核、5−トリフルオロメチ
ルベンゾオキサゾール核、5−ヒドロキシベンゾオキサ
ゾール核、5−カルボキシベンゾオキサゾ−ル核、6−
メチルベンゾオキサゾール核、6−クロロベンゾオキサ
ゾール核、6−メドキシベンゾオキサゾール核、6−ヒ
ドロキシベンゾオキサゾール核、5,6−シメチルベン
ゾオキサゾール核などを、ナフトオキサゾール核として
は例えば、ナフト(2,1−d)オキサゾール核、ナフ
ト(1,2−d)オキサゾール核、ナフト〔2,3d〕
オキサゾール核、5−メトキシナフト〔1゜2−d〕オ
キサゾール核、などを挙げる事ができる。
更にZ、及びZ2に関し、オキサゾール核としては例え
ば、オキサゾール核、4−メチルオキサゾール核、4−
フェニルオキサゾール核、4−メトキシオキサゾール核
、4,5−ジメチルオキサゾール核、5−フェニルオキ
サゾール核又は4−メトキシオキサゾール核などを、ピ
リジン核としては例えば2−ピリジン核、4−ピリジン
核、5−メチル−2−ピリジン核、3−メチル−4−ピ
リジン核などを、又キノリン核としては例えば、2−キ
ノリン核、4−キノリン核、3−メチル−2−キノリン
核、5−エチル−2−キノリン核、8−フルオロ−2−
キノリン核、6−メドキシー2−キノリン核、8−クロ
ロ−4−キノリン核、8−メチル−4−キノリン核、な
どを挙げる事ができる。
ば、オキサゾール核、4−メチルオキサゾール核、4−
フェニルオキサゾール核、4−メトキシオキサゾール核
、4,5−ジメチルオキサゾール核、5−フェニルオキ
サゾール核又は4−メトキシオキサゾール核などを、ピ
リジン核としては例えば2−ピリジン核、4−ピリジン
核、5−メチル−2−ピリジン核、3−メチル−4−ピ
リジン核などを、又キノリン核としては例えば、2−キ
ノリン核、4−キノリン核、3−メチル−2−キノリン
核、5−エチル−2−キノリン核、8−フルオロ−2−
キノリン核、6−メドキシー2−キノリン核、8−クロ
ロ−4−キノリン核、8−メチル−4−キノリン核、な
どを挙げる事ができる。
一般式(I)において、R,及びR2で表わされるアル
キル基は無置換及び置換アルキル基を含み、無置換アル
キル基としては、炭素原子の数が18以下、特に8以下
が好ましく、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクタデシル
基などがあげられる。また、置換アルキル基としては、
アルキル部分の炭素数原子の数が6以下のものが好まし
く、特に炭素原子の数が4以下のものが好ましく、例え
ば、スルホ基で置換されたアルキル基(スルホ基はアル
コキシ基やアリール基等を介して結合していてもよい。
キル基は無置換及び置換アルキル基を含み、無置換アル
キル基としては、炭素原子の数が18以下、特に8以下
が好ましく、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクタデシル
基などがあげられる。また、置換アルキル基としては、
アルキル部分の炭素数原子の数が6以下のものが好まし
く、特に炭素原子の数が4以下のものが好ましく、例え
ば、スルホ基で置換されたアルキル基(スルホ基はアル
コキシ基やアリール基等を介して結合していてもよい。
例えば2−スルホエチル基、3−スルホブロビル基、3
−スルホブチル基、4−スルホブチル基、2−(3−ス
ルホプロポキシ)エチル基、2− C2−(3−スルホ
プロポキシ)エトキシ〕エチル基、2−ヒドロキシ−3
−スルホプロピル基、p−スルホフェネチル基、p−ス
ルホフェニルプロピル基など)カルボキシ基で置換され
たアルキル基(カルボキシ基はアルコキシ基やアリール
基等を介して結合していてもよい。
−スルホブチル基、4−スルホブチル基、2−(3−ス
ルホプロポキシ)エチル基、2− C2−(3−スルホ
プロポキシ)エトキシ〕エチル基、2−ヒドロキシ−3
−スルホプロピル基、p−スルホフェネチル基、p−ス
ルホフェニルプロピル基など)カルボキシ基で置換され
たアルキル基(カルボキシ基はアルコキシ基やアリール
基等を介して結合していてもよい。
例えば、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基
、3−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基
、など)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロ
キシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、など)、ア
シロキシアルキル基(例えば、2−アセトキシエチル基
、3−アセトキシプロピル基など)、アルコキシアルキ
ル基(例えば2−メトキシエチル基、3−メトキシプロ
ピル基、など)、アルコキシカルボニルアルキル基(例
えば、2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシ
カルボニルプロピル基、4−エトキシカルボニルブチル
基、など)、ビニル基置換アルキル基(例えばアリル基
)、シアノアルキル基(例えば2−シアノエチル基など
)、カルバモイルアルキル基(例えば2−カルバモイル
エチル基など)、アリーロキシアルキル基(例えば2−
フェノキシエチル基、3−フェノキシプロピル基など)
、アラルキル基(例えば2−フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基など)、又はアリーロキシアルキル基(例
えば2−フェノキシエチル基、3−フェノキシプロピル
基など)などがあげられる。
、3−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基
、など)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロ
キシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、など)、ア
シロキシアルキル基(例えば、2−アセトキシエチル基
、3−アセトキシプロピル基など)、アルコキシアルキ
ル基(例えば2−メトキシエチル基、3−メトキシプロ
ピル基、など)、アルコキシカルボニルアルキル基(例
えば、2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシ
カルボニルプロピル基、4−エトキシカルボニルブチル
基、など)、ビニル基置換アルキル基(例えばアリル基
)、シアノアルキル基(例えば2−シアノエチル基など
)、カルバモイルアルキル基(例えば2−カルバモイル
エチル基など)、アリーロキシアルキル基(例えば2−
フェノキシエチル基、3−フェノキシプロピル基など)
、アラルキル基(例えば2−フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基など)、又はアリーロキシアルキル基(例
えば2−フェノキシエチル基、3−フェノキシプロピル
基など)などがあげられる。
R,、R,で示される置換基としては、特に、少なくと
も一方がスルホ基もしくはカルボキシル基を有したアル
キル基であることが好ましい。
も一方がスルホ基もしくはカルボキシル基を有したアル
キル基であることが好ましい。
電荷バランス対イオンXは、複素環中の四級アンモニウ
ム塩で生じた正電荷を相殺することができる任意の陰イ
オンであり、例えば、臭素イオン、塩素イオン、沃素イ
オン、p−トルエンスルホン酸イオン、エチルスルホン
酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオロメタンスルホ
ン酸イオン、チオシアンイオンなどである。この場合n
は1である。
ム塩で生じた正電荷を相殺することができる任意の陰イ
オンであり、例えば、臭素イオン、塩素イオン、沃素イ
オン、p−トルエンスルホン酸イオン、エチルスルホン
酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオロメタンスルホ
ン酸イオン、チオシアンイオンなどである。この場合n
は1である。
複素環四級アンモニウム塩がさらにスルホアルキル置換
基のような陰イオン置換基を含む場合は、塩はベタイン
の形をとることができ、その場合には対イオンは必要な
く、nは0である。複素環四級アンモニウム塩が2個の
陰イオン置換基、たとえば2個のスルホアルキル基を有
する場合には、X4は陰イオン性対イオンであり、例え
ばアルカリ金属イオン(ナトリウムイオン、カリウムイ
オンなど)やアンモニウム塩(トリエチルアンモニウム
など)などがあげられる。
基のような陰イオン置換基を含む場合は、塩はベタイン
の形をとることができ、その場合には対イオンは必要な
く、nは0である。複素環四級アンモニウム塩が2個の
陰イオン置換基、たとえば2個のスルホアルキル基を有
する場合には、X4は陰イオン性対イオンであり、例え
ばアルカリ金属イオン(ナトリウムイオン、カリウムイ
オンなど)やアンモニウム塩(トリエチルアンモニウム
など)などがあげられる。
ここで、[実質的に可視光域に吸収極大を持たない」化
合物とは写真感光材料上の残色が実用上問題のないレベ
ル以下の色調をもつ化合物を意味し、より詳しくは、現
像処理後の残色が実用上問題のないレベル以下の色調を
もつ化合物である。
合物とは写真感光材料上の残色が実用上問題のないレベ
ル以下の色調をもつ化合物を意味し、より詳しくは、現
像処理後の残色が実用上問題のないレベル以下の色調を
もつ化合物である。
好ましくは、上記化合物のメタノール中での吸収極大が
460nm以下のもの、より好ましくは430nm以下
のものである。
460nm以下のもの、より好ましくは430nm以下
のものである。
一般式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
−1
−2
−3
(CH2)s (CH2)sS03)1
−N(C2Ha)3 5Ose−4 −7− −8 −6− ■−11 1−16 ■−17 ■−18 ■−13 ■−14 2H5 (CH2)。
−N(C2Ha)3 5Ose−4 −7− −8 −6− ■−11 1−16 ■−17 ■−18 ■−13 ■−14 2H5 (CH2)。
Son”
−15
ose
−19
■−20
(CH2)3
(CH2)。
5O3H−N(CzHs )3
S03θ
■
■
CO□H
O3e
l−22
■−25
Js
■−23
■−24
C,R5
(CHz)s
03
■−26
2H5
、bu3Na
so、”’
本発明の一般式(I)で表わされる化合物の含有量はハ
ロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方
法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤
層の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の
量を選択することが望ましく、その選択のための試験の
方法は当業者のよく知るところである。通常は好ましく
はハロゲン化銀1モル当り10−6モルないしlXl0
−”モル、特に10−’ないし5X10−”モルの範囲
で用いられる。
ロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方
法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤
層の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の
量を選択することが望ましく、その選択のための試験の
方法は当業者のよく知るところである。通常は好ましく
はハロゲン化銀1モル当り10−6モルないしlXl0
−”モル、特に10−’ないし5X10−”モルの範囲
で用いられる。
本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうる
レドックス化合物について説明する。
レドックス化合物について説明する。
レドックス化合物のレドックス基としては、ハイドロキ
ノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、アミ
ノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒド
ロキシルアミン類、レダクトン類であることが好ましく
、ヒドラジン類であることがさらに好ましい。
ノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、アミ
ノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒド
ロキシルアミン類、レダクトン類であることが好ましく
、ヒドラジン類であることがさらに好ましい。
本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうる
レドックス化合物として用いられるヒドラジン類は好ま
しくは以下の一般式(II−1)、一般式(■−2)、
一般式(If−3)で表わされる。一般式(II−1)
で表わされる化合物が特に好ましい。
レドックス化合物として用いられるヒドラジン類は好ま
しくは以下の一般式(II−1)、一般式(■−2)、
一般式(If−3)で表わされる。一般式(II−1)
で表わされる化合物が特に好ましい。
一般式(II−1)
Rs−N−N−G+−(T ime)、−PUGI A
t 一般式(II−2) 一般式(II−3) これらの式中、R1は脂肪族基または芳香族基−〇−基
、−C−基、 S〇−基、−5O2−基 11 または−P−基を表わす。G、は単なる結合手、G、−
R。
t 一般式(II−2) 一般式(II−3) これらの式中、R1は脂肪族基または芳香族基−〇−基
、−C−基、 S〇−基、−5O2−基 11 または−P−基を表わす。G、は単なる結合手、G、−
R。
−O−−S−または−N−を表わし、R4は2
水素原子またはR3を表わす。
A1、A2は水素原子、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基またはアシル基を表わし置換されていて
も良い。一般式(II−1)ではAA!の少なくとも一
方は水素原子である。A、はA1と同義または−CHz
CH+T 1me)l PUGA。
ルスルホニル基またはアシル基を表わし置換されていて
も良い。一般式(II−1)ではAA!の少なくとも一
方は水素原子である。A、はA1と同義または−CHz
CH+T 1me)l PUGA。
を表わす。
A4はニトロ基、シアン基、カルボキシル基、スルホ基
または−G1 G2 Rsを表わす。
または−G1 G2 Rsを表わす。
Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表
わす。PUGは現像抑制剤を表わす。
わす。PUGは現像抑制剤を表わす。
一般式(II−1)、(II−2)、(IT−3)につ
いてさらに詳細に説明する。
いてさらに詳細に説明する。
一般式(■〜I)、(II−2)、(II−3)におい
て、R1で表される脂肪族基は好ましくは炭素数1〜3
0のものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基である。
て、R1で表される脂肪族基は好ましくは炭素数1〜3
0のものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基である。
このアルキル基は置換基を有していてもよい。
一般式(II−1)、(II−2)、(II−3)にお
いてRIで表される芳香族基は単環または2環のアリー
ル基または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテ
ロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を形成
してもよい。
いてRIで表される芳香族基は単環または2環のアリー
ル基または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテ
ロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を形成
してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリ
ン環、イソキノリン環等があるかなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ン環、イソキノリン環等があるかなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R8として特に好ましいものはアリール基である。
R3のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、
カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基
、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基とし
ては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭
素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素
数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1
〜30のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルア
ミノ基(好ましくは炭素数2〜40を持つもの)、スル
ホンアミド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)
、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの、
リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜40のもの)な
どである。
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、
カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基
、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基とし
ては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭
素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素
数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1
〜30のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルア
ミノ基(好ましくは炭素数2〜40を持つもの)、スル
ホンアミド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)
、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの、
リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜40のもの)な
どである。
一般式(II−1)、(If−2)、(II−3)と0
011
1 しては−C−基、−SO,−基が好ましく、−C基が最
も好ましい。
011
1 しては−C−基、−SO,−基が好ましく、−C基が最
も好ましい。
AI、A、としては水素原子が好ましく、A。
としては水素原子、−CH2−CH(−Time−)−
、PUGA4 が好ましい。
、PUGA4 が好ましい。
一般式(■〜1)、(II−2)、(II−3)におい
てTimeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機
能を有していてもよい。
てTimeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機
能を有していてもよい。
Timeで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の酸
化体から放出されるTime−PUGから一段階あるい
は、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる
基を表わす。
化体から放出されるTime−PUGから一段階あるい
は、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる
基を表わす。
Timeで表わされる二価の連結基としては、例えば米
国特許第4,248,962号(特開昭54−145,
135号)等に記載のp−ニトロフェノキシ誘導体の分
子内開環反応によってPUGを放出するもの、米国特許
第4. 310. 612号(特開昭55−53,33
0号)および同4゜358.525号等に記載の環開裂
後の分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米
国特許第4.330,617号、同4,446,216
号、同4,483,919号、特開昭59−121.3
28号等に記載のコハク酸モノエステルまたはその類縁
体のカルボキシル基の分子内閉環反応による酸無水物の
生成を伴って、PU、Gを放出するもの;米国特許第4
,409,323号、同4.421.845号、リサー
チ・ディスクロージャー誌Nα21,228 (198
1年12月)、米国特許第4,416,977号(特開
昭57−135.944号)、特開昭58−209,7
36号、同58−209,738号等に記載のアリール
オキシ基またはへテロ環オキシ基が共役した二重結合を
介した電子移動によりキノモノメタン、またはその類縁
体を生成してPUGを放出するもの;米国特許第4,4
20.554号(特開昭57−136,640号)、特
開昭57−135゜945号、同57−188,035
号、同58−98.728号および同58−209,7
37号等に記載の含窒素へテロ環のエナミン構造を有す
る部分の電子移動によりエナミンのγ位よりPUGを放
出するもの;特開昭57−56,837号に記載の含窒
素へテロ環の窒素原子と共役したカルボニル基への電子
移動により生成したオキシ基の分子内閉環反応によりP
UGを放出するもの;米国特許第4.146.396号
(特開昭52−90932号)、特開昭59−93,4
42号、特開昭59−75475号、特開昭60−24
9148号、特開昭60−249149号等に記載のア
ルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開
昭51−146,828号、同57−179.842号
、同59−104,641号に記載のカルボキシル基の
脱炭酸を伴ってPUGを放出するもの、−0−COOC
R,Rb−PUG(R,、R,は−価の基を表わす。)
の構造を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を
伴ってPUGを放出するもの;特開昭60−7.429
号に記載のイソシアナートの生成を伴ってPUGを放出
するもの;米国特許第4,438.1!]3号等に記載
のカラー現像薬の酸化体とのカップリング反応によりP
UGを放出するものなどを挙げることかできる。
国特許第4,248,962号(特開昭54−145,
135号)等に記載のp−ニトロフェノキシ誘導体の分
子内開環反応によってPUGを放出するもの、米国特許
第4. 310. 612号(特開昭55−53,33
0号)および同4゜358.525号等に記載の環開裂
後の分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米
国特許第4.330,617号、同4,446,216
号、同4,483,919号、特開昭59−121.3
28号等に記載のコハク酸モノエステルまたはその類縁
体のカルボキシル基の分子内閉環反応による酸無水物の
生成を伴って、PU、Gを放出するもの;米国特許第4
,409,323号、同4.421.845号、リサー
チ・ディスクロージャー誌Nα21,228 (198
1年12月)、米国特許第4,416,977号(特開
昭57−135.944号)、特開昭58−209,7
36号、同58−209,738号等に記載のアリール
オキシ基またはへテロ環オキシ基が共役した二重結合を
介した電子移動によりキノモノメタン、またはその類縁
体を生成してPUGを放出するもの;米国特許第4,4
20.554号(特開昭57−136,640号)、特
開昭57−135゜945号、同57−188,035
号、同58−98.728号および同58−209,7
37号等に記載の含窒素へテロ環のエナミン構造を有す
る部分の電子移動によりエナミンのγ位よりPUGを放
出するもの;特開昭57−56,837号に記載の含窒
素へテロ環の窒素原子と共役したカルボニル基への電子
移動により生成したオキシ基の分子内閉環反応によりP
UGを放出するもの;米国特許第4.146.396号
(特開昭52−90932号)、特開昭59−93,4
42号、特開昭59−75475号、特開昭60−24
9148号、特開昭60−249149号等に記載のア
ルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出するもの;特開
昭51−146,828号、同57−179.842号
、同59−104,641号に記載のカルボキシル基の
脱炭酸を伴ってPUGを放出するもの、−0−COOC
R,Rb−PUG(R,、R,は−価の基を表わす。)
の構造を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を
伴ってPUGを放出するもの;特開昭60−7.429
号に記載のイソシアナートの生成を伴ってPUGを放出
するもの;米国特許第4,438.1!]3号等に記載
のカラー現像薬の酸化体とのカップリング反応によりP
UGを放出するものなどを挙げることかできる。
これら、Timeで表わされる二価の連結基の具体例に
ついては特開昭61−236,549号、特願昭63−
98,803号等にも詳細に記載されている。
ついては特開昭61−236,549号、特願昭63−
98,803号等にも詳細に記載されている。
PUGは(Time−)−+PUGまたはPUGとして
現像抑制効果を有する基を表わす。
現像抑制効果を有する基を表わす。
PUGまたは(T im e ++ P U Gで表わ
される現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介
して結合している公知の現像抑制剤であり、これらはた
とえばシー・イー・チー・ミース(C,E。
される現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介
して結合している公知の現像抑制剤であり、これらはた
とえばシー・イー・チー・ミース(C,E。
K、 Mees )及びチー・エッチ・ジェームズ(T
、H。
、H。
James)著[ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラ
フィック・プロセス(The Theory of t
he Photo−graphic Processe
s)J第3版、1966マクミラン(IJa(mill
an)社刊、344頁〜346頁などに記載されている
。
フィック・プロセス(The Theory of t
he Photo−graphic Processe
s)J第3版、1966マクミラン(IJa(mill
an)社刊、344頁〜346頁などに記載されている
。
PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよい
。置換基の例としては例えばR3の置換基として列挙し
たものが挙げられ、これらの基はさらに置換されていて
もよい。
。置換基の例としては例えばR3の置換基として列挙し
たものが挙げられ、これらの基はさらに置換されていて
もよい。
好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボキ
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
また一般式(I[−1)、(II−2)、(I[−3)
において、R1または+Time−)−、PUGは、そ
の中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用さ
れているバラスト基や一般式(II−1)、(II−2
) (II−3)で表わされる化合物がハロゲン化
銀に吸着することを促進する基が組み込まれていてもよ
い。
において、R1または+Time−)−、PUGは、そ
の中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用さ
れているバラスト基や一般式(II−1)、(II−2
) (II−3)で表わされる化合物がハロゲン化
銀に吸着することを促進する基が組み込まれていてもよ
い。
バラスト基は一般式(II−1)、(II−2)、(I
I−3)で表わされる化合物が実質的に他層または処理
液中へ拡散できないようにするのに十分な分子量を与え
る有機基であり、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基
、エーテル基、チオエーテル基、アミド基、ウレイド基
、ウレタン基、スルホンアミド基などの一つ以上の組合
せからなるものである。バラスト基として好ましくは置
換ベンゼン環を有するバラスト基であり、特に分岐状ア
ルキル基で置換されたベンゼン環を有するバラスト基が
好ましい。
I−3)で表わされる化合物が実質的に他層または処理
液中へ拡散できないようにするのに十分な分子量を与え
る有機基であり、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基
、エーテル基、チオエーテル基、アミド基、ウレイド基
、ウレタン基、スルホンアミド基などの一つ以上の組合
せからなるものである。バラスト基として好ましくは置
換ベンゼン環を有するバラスト基であり、特に分岐状ア
ルキル基で置換されたベンゼン環を有するバラスト基が
好ましい。
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4−
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.4−)リ
アゾリン−3−チオン、1. 3. 4−オキサゾリン
−2−チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベン
ズオキサゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−
チオン、チオトリアジン、1,3−イミダシリン−2−
チオンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、
脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メ
ルカプト基(−3H基が結合した炭素原子の隣が窒素原
子の場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミ
ド基と同義であり、この基の具体例は上に列挙したもの
と同じである。)、ジスルフィド結合を有する基、ベン
ゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダ
ゾール、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチ
アゾール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾー
ル、オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オ
キサチアゾール、トリアジン、アザインデンのような窒
素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5貝ないし6
員の含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムの
ような複素環四級塩などが挙げられる。
チアゾリン−2−チオン、4−イミダシリン−2−チオ
ン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビッ
ール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2.4−)リ
アゾリン−3−チオン、1. 3. 4−オキサゾリン
−2−チオン、ベンズイミダシリン−2−チオン、ベン
ズオキサゾリン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−
チオン、チオトリアジン、1,3−イミダシリン−2−
チオンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、
脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メ
ルカプト基(−3H基が結合した炭素原子の隣が窒素原
子の場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミ
ド基と同義であり、この基の具体例は上に列挙したもの
と同じである。)、ジスルフィド結合を有する基、ベン
ゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダ
ゾール、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチ
アゾール、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾー
ル、オキサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オ
キサチアゾール、トリアジン、アザインデンのような窒
素、酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5貝ないし6
員の含窒素へテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムの
ような複素環四級塩などが挙げられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。
置換基としては、例えばR1の置換基として述べたもの
が挙げられる。
が挙げられる。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
I−1
−5
1−6
−3
−7
ll−9
■
■
2
■
7
■
9
■−20
■
4
■
5
−2 1
■
2
■
3
NO7
NO!
■
24
■−25
■−29
■
1
NO9
■−26
Hs
■−27
■−28
■−32
■−33
SU、Na
■
34
CaH+s
■−35
■−36
本発明に用いられるレドックス化合物としては上記のも
のの他に、例えば特開昭61−213゜847号、同6
2−260,153号、特願平1102.393号、同
1−102.394号、同1−102,395号、同1
,114,455号に記載されたものを用いることがで
きる。
のの他に、例えば特開昭61−213゜847号、同6
2−260,153号、特願平1102.393号、同
1−102.394号、同1−102,395号、同1
,114,455号に記載されたものを用いることがで
きる。
本発明に用いられるレドックス化合物の合成法は例えば
特開昭61−213,847号、同62260.153
号、米国特許第4. 684. 604号、特願昭63
−98,803号、米国特許第3,379.529号、
同3,620,746号、同4,377.634号、同
4.332.878号、特開昭49−129,536号
、同56−153,336号、同56−153,342
号などに記載されている。
特開昭61−213,847号、同62260.153
号、米国特許第4. 684. 604号、特願昭63
−98,803号、米国特許第3,379.529号、
同3,620,746号、同4,377.634号、同
4.332.878号、特開昭49−129,536号
、同56−153,336号、同56−153,342
号などに記載されている。
本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化銀1モルあた
りlXl0−’〜5X10−”モル、より好ましくはl
Xl0−’〜lXl0−”モルの範囲内で用いられる。
りlXl0−’〜5X10−”モル、より好ましくはl
Xl0−’〜lXl0−”モルの範囲内で用いられる。
本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶媒
、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパツール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセト
ン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して
用いることができる。
、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパツール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセト
ン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して
用いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒
を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用いる
こともできる。
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒
を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用いる
こともできる。
あるいは固体分散法として知られている方法によって、
レドックス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイ
ドミル、あるいは超音波によって分散して用いることも
できる。
レドックス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイ
ドミル、あるいは超音波によって分散して用いることも
できる。
本発明のレドックス化合物を含む層は、ヒドラジン造核
剤を含む感光性乳剤層の上層、または下層に設けられる
。本発明のレドックス化合物を含む層はさらに感光性も
しくは非感光性ハロゲン化銀乳剤粒子を含んでもよい。
剤を含む感光性乳剤層の上層、または下層に設けられる
。本発明のレドックス化合物を含む層はさらに感光性も
しくは非感光性ハロゲン化銀乳剤粒子を含んでもよい。
本発明のレドックス化合物を含む層と、ヒドラジン造核
剤を含む感光乳剤層との間にゼラチンまたは合成ポリマ
ー(ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど)を含
む中間層を設けてもよい。
剤を含む感光乳剤層との間にゼラチンまたは合成ポリマ
ー(ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど)を含
む中間層を設けてもよい。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式(
II[)によって表わされる化合物が好まし。
II[)によって表わされる化合物が好まし。
い。
一般式(III)
R,−N−N−V−R。
I Bz
式中、R5は脂肪族基または芳香族基を表わし、R6は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基またはヒ1 ドラジノ基を表わし、■は一〇−基、−SO。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基またはヒ1 ドラジノ基を表わし、■は一〇−基、−SO。
7
カルボニル基又はイミノメチレン基を表わし、B1、B
2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置
換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換も
しくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のアシル基を表わす。
2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置
換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換も
しくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のアシル基を表わす。
一般式(■)において、R6で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。この
アルキル基は置換基を有していてもよい。
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。この
アルキル基は置換基を有していてもよい。
一般式(II[)においてR,で表される芳香族基は単
環または2環の了り−ル基または不飽和へテロ環基であ
る。ここで不飽和へテロ環基はアリール基と縮環してい
てもよい。
環または2環の了り−ル基または不飽和へテロ環基であ
る。ここで不飽和へテロ環基はアリール基と縮環してい
てもよい。
R6として好ましいものはアリール基であり、特に好ま
しくはベンゼン環を含むものである。
しくはベンゼン環を含むものである。
R6の脂肪族基または芳香族基は置換されていてもよく
、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ア
リール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
アルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはアリー
ルスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル
基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基
、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、ス
ルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド基、ジ
アシルアミノ基、イミドR5 ましい置換基としてはアルキル基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜
30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜2
0のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20
のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、スルホンア
ミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、ウレ
イド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、リン
酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のもの)などで
ある。
、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ア
リール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
アルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはアリー
ルスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル
基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基
、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、ス
ルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド基、ジ
アシルアミノ基、イミドR5 ましい置換基としてはアルキル基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7〜
30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜2
0のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20
のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基
(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、スルホンア
ミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、ウレ
イド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、リン
酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のもの)などで
ある。
一般式(III)においてR6で表わされるアルキル基
としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり
、アリール基としては単環または2環のアリール基が好
ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。
としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり
、アリール基としては単環または2環のアリール基が好
ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。
1
■が−C−基の場合、R6が表わされる基のうち好まし
いものは水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、ト
リフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−
メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニル
メチル基など)、アラルキル基(例えば、0−ヒドロキ
シベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基
、3,5−ジクロロフェニル基、0−メタンスルホンア
ミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2
−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであり、特に
水素原子が好ましい。
いものは水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、ト
リフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−
メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニル
メチル基など)、アラルキル基(例えば、0−ヒドロキ
シベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基
、3,5−ジクロロフェニル基、0−メタンスルホンア
ミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2
−ヒドロキシメチルフェニル基など)などであり、特に
水素原子が好ましい。
R6は置換されていても良く、置換基としては、R6に
関して列挙した置換基が適用できる。
関して列挙した置換基が適用できる。
1
一般式(III)のVとしては−C−基が最も好ましい
。
。
又、R6はV Rsの部分を残余分子から分裂させ、
−V−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであってもよく、その例とし
ては例えば特開昭63−29751号などに記載のもの
が挙げられる。
−V−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであってもよく、その例とし
ては例えば特開昭63−29751号などに記載のもの
が挙げられる。
B1、B2としては水素原子が最も好ましい。
一般式(III)のR6またはR@はその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
またポリマーとしては例えば特開平1−100530号
に記載のものが挙げられる。
に記載のものが挙げられる。
一般式(III)のR5またはR6はその中にハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4゜385.108号、同4,4
59,347号、特開昭59−195,233号、同5
9−200゜231号、同59−201.045号、同
59−201.046号、同59−201.047号、
同59−201,048号、同59−201,049号
、特開昭61−170,733号、同61−270,7
44号、同62−948号、特願昭62−67.508
号、同62−67.501号、同62−67.510号
に記載された基があげられる。
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4゜385.108号、同4,4
59,347号、特開昭59−195,233号、同5
9−200゜231号、同59−201.045号、同
59−201.046号、同59−201.047号、
同59−201,048号、同59−201,049号
、特開昭61−170,733号、同61−270,7
44号、同62−948号、特願昭62−67.508
号、同62−67.501号、同62−67.510号
に記載された基があげられる。
一般式(III)で示される化合物の具体例を以下に示
す。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。
す。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。
ll−1
−2
I[I−3
ll−5
■−1
■−12
−8
ll−13
■−14
■−10
IJしaH
■−15
■−16
I4
−N
■−22
■−23
■−24
■−18
ll−19
■
0
■−25
■−26
曲
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCHDISCLOSURE
Item23516 (1983年11月号、P、34
6)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜0
80.207号、同4,269,929号、同4.27
6.364号、同4,278,748号、同4,385
,108号、同4,459,347号、同4,560,
638号、同4.478.928号、英国特許2,01
1,391B、特開昭60−179734号、同62−
270,948号、同63−29,751号、同61−
170゜733号、同61−270.74.4号、同6
2−948号、EP217,310号、またはUS 4
゜686.167号、特開昭62−178,246号、
同63−32,538号、同63−104゜047号、
同63−121,838号、同63−129.337号
、同63−223,744号、同63−234,244
号、同63−234,245号、同63−234,24
6号、同63−294.552号、同63−306,4
38号、特開平1−100,530号、同1. 105
. 941号、同1−105,943号、特開昭64−
1O,233号、特開平1−90,439号、特願昭6
3−105,682号、同63−114,118号、同
63−110.051号、同63−114.119号、
同63−116,239号、同63−147,339号
、同63−179,760号、同63−229,163
号、特願平1−18.377号、同1−18.378号
、同1−18.379号、同1−15,755号、同1
−16.814号、同1−40,792号、同1−42
.615号、同1−42,616号、同1−123.6
93号、同1−126.284号に記載されたものを用
いることができる。
ものの他に、RESEARCHDISCLOSURE
Item23516 (1983年11月号、P、34
6)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜0
80.207号、同4,269,929号、同4.27
6.364号、同4,278,748号、同4,385
,108号、同4,459,347号、同4,560,
638号、同4.478.928号、英国特許2,01
1,391B、特開昭60−179734号、同62−
270,948号、同63−29,751号、同61−
170゜733号、同61−270.74.4号、同6
2−948号、EP217,310号、またはUS 4
゜686.167号、特開昭62−178,246号、
同63−32,538号、同63−104゜047号、
同63−121,838号、同63−129.337号
、同63−223,744号、同63−234,244
号、同63−234,245号、同63−234,24
6号、同63−294.552号、同63−306,4
38号、特開平1−100,530号、同1. 105
. 941号、同1−105,943号、特開昭64−
1O,233号、特開平1−90,439号、特願昭6
3−105,682号、同63−114,118号、同
63−110.051号、同63−114.119号、
同63−116,239号、同63−147,339号
、同63−179,760号、同63−229,163
号、特願平1−18.377号、同1−18.378号
、同1−18.379号、同1−15,755号、同1
−16.814号、同1−40,792号、同1−42
.615号、同1−42,616号、同1−123.6
93号、同1−126.284号に記載されたものを用
いることができる。
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハロ
ゲン化銀1モルあたりlXl0−@モルないし5XIO
−’モル含有されるのが好ましく、特にlXl0−’モ
ルないし2X10−”モルの範囲が好ましい添加量であ
る。
ゲン化銀1モルあたりlXl0−@モルないし5XIO
−’モル含有されるのが好ましく、特にlXl0−’モ
ルないし2X10−”モルの範囲が好ましい添加量であ
る。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、塩化銀、塩臭
化銀、沃塩化銀、沃塩臭化銀のいずれでもよいが、少な
くとも50モル%が塩化銀から成るものである。なかで
も少な(とも70モル%が塩化銀から成るものが好まし
い。沃化銀含有率は3モル%以下、より好ましくは、0
.5モル%以下である。
化銀、沃塩化銀、沃塩臭化銀のいずれでもよいが、少な
くとも50モル%が塩化銀から成るものである。なかで
も少な(とも70モル%が塩化銀から成るものが好まし
い。沃化銀含有率は3モル%以下、より好ましくは、0
.5モル%以下である。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平
均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から
構成されていることをいう。
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、単分散である方が好ましい。ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平
均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から
構成されていることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(irreg
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであってもよい。
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(irreg
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであってもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
ても、異なる相からなっていてもよい。
別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
使用してもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させても
よい。
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、フ
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸
収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取
り扱われる際のセーフライト光に対する安全性を高める
ための、主として350nm〜600nmの領域に実質
的な光吸収をもつ染料が用いられる。
ィルター染料として、あるいはイラジェーション防止そ
の他、種々の目的で、水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸
収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取
り扱われる際のセーフライト光に対する安全性を高める
ための、主として350nm〜600nmの領域に実質
的な光吸収をもつ染料が用いられる。
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好ま
しい。
染料のモル吸光係数により異なるが、通常10−!g
/ rrr〜1 g/rrrの範囲で添加される。好ま
しくは50■〜500■/耐である。
/ rrr〜1 g/rrrの範囲で添加される。好ま
しくは50■〜500■/耐である。
染料の具体例は特願昭61−209169号に詳しく記
載されているが、いくつかを次にあげる。
載されているが、いくつかを次にあげる。
SO,K
SO,に
OsK
O2K
0sNa
SO,Na
上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロパツールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される。
メタノール、エタノール、プロパツールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される。
これらの染料は2種以上組合せて用いることもできる。
本発明の染料は、明室取扱いを可能にするに必要な量用
いられる。
いられる。
具体的な染料の使用量は、一般に10−”g/rrr〜
Ig/イ、特に10−’g/rrr〜0.5g/イの範
囲に好ましい量を見い出すことができる。
Ig/イ、特に10−’g/rrr〜0.5g/イの範
囲に好ましい量を見い出すことができる。
本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、公知の分
光増感色素を添加してもよ、い。
光増感色素を添加してもよ、い。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a、7)テ
トラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベン
ゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができる
。これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾー
ル類(例えば、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及び
ニトロインダゾール類(例えば5−ニトロインダゾール
)である。また、これらの化合物を処理液に含有させて
もよい。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a、7)テ
トラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベン
ゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼ
ンスルフオン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安
定剤として知られた多くの化合物を加えることができる
。これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾー
ル類(例えば、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及び
ニトロインダゾール類(例えば5−ニトロインダゾール
)である。また、これらの化合物を処理液に含有させて
もよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えば活性ビニル化合物(1,3゜5−トリアクリロイ
ル−へキサヒドロ−S−トリアジン、■、3−ビニルス
ルホニルー2−プロパツールなど)、活性ハロゲン化合
物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−8−トリアジ
ンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組み合
わせて用いることができる。
ル−へキサヒドロ−S−トリアジン、■、3−ビニルス
ルホニルー2−プロパツールなど)、活性ハロゲン化合
物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−8−トリアジ
ンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組み合
わせて用いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
又、寸度安定性の為にポリアルキルアクリレートの如き
ポリマーラテックスを含有せしめることができる。
ポリマーラテックスを含有せしめることができる。
本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭53−77616、同5
4−37732、同53−137゜133、同60−1
40,340、同60−14959、などに開示されて
いる化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物が有
効である。
現像の促進剤としては、特開昭53−77616、同5
4−37732、同53−137゜133、同60−1
40,340、同60−14959、などに開示されて
いる化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物が有
効である。
次に具体例を列挙する。
、S−S、
CH2CH
\CH2′
CHtCHzCHtCHzCOOH
C1e
CH2C82N(C2H5)2
N
(C2Hs) 2NCH2CHCH20HH
n−CtHoN(CtHtOH)t
これらの促進剤は、化合物の種類によって最適添加量が
異なるが1.0XIO−’〜0.5g/rrr。
異なるが1.0XIO−’〜0.5g/rrr。
好ましくは5.0X10−”〜0.1g/ポの範囲で用
いるのが望ましい。
いるのが望ましい。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真特
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,41
9,975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現
像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることが
できる。
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,41
9,975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現
像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることが
できる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0.15モル/1以上含み、pH
10,5〜12.3、特にpH11,0〜12,0の現
像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることができ
る。
しての亜硫酸イオンを0.15モル/1以上含み、pH
10,5〜12.3、特にpH11,0〜12,0の現
像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることができ
る。
本発明の方法において用いうる現像主薬には特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えばl−フェニル
−3−ピラゾリドン、4゜4−ジメチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN
−メチル−p−アミノフェノール)などを単独あるいは
組み合わせてもちいることができる。
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイド
ロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えばl−フェニル
−3−ピラゾリドン、4゜4−ジメチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN
−メチル−p−アミノフェノール)などを単独あるいは
組み合わせてもちいることができる。
本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬とし
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル
/j2.3−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類
はo、06モル/1以下の範囲で併用される。
てジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル
/j2.3−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類
はo、06モル/1以下の範囲で併用される。
また米国特許4269929号に記載されているように
、アミン類を現像液に添加することによって現像速度を
高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
、アミン類を現像液に添加することによって現像速度を
高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭酸塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロイ
ンダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如き現像
抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロイ
ンダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如き現像
抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができる。
又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現像
促進剤、界面活性剤(と(に好ましくは前述のポリアル
キレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルムの銀
汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾール
スルホン酸銀など)を含んでもよい。
促進剤、界面活性剤(と(に好ましくは前述のポリアル
キレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルムの銀
汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾール
スルホン酸銀など)を含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩などを含
んでもよい。
んでもよい。
本発明の方法における処理温度は普通18°Cから50
℃の間に選ばれる。
℃の間に選ばれる。
写真処理には自動現像機を用いるのが好ましいが、本発
明の方法により、感光材料を自動現像機に入れてから出
てくるまでのトータルの処理時間を90秒〜120秒に
設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得ら
れる。
明の方法により、感光材料を自動現像機に入れてから出
てくるまでのトータルの処理時間を90秒〜120秒に
設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得ら
れる。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56−2
4,347号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109,
743号に記載の化合物を用いることができる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭60−93,4
33号に記載の化合物あるいは特願昭61−28708
に記載の化合物を用いることができる。
4,347号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109,
743号に記載の化合物を用いることができる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭60−93,4
33号に記載の化合物あるいは特願昭61−28708
に記載の化合物を用いることができる。
以下実施例により、本発明の詳細な説明する。
(実施例)
以下に示すように乳剤[A)、CB)を調製した。
50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4X10
−’モルの6塩化イリジウム(III)カリおよびアン
モニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭化
カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のpA
gを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.28
μで、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単分散
乳剤を調製した。この乳剤をフロキュレーション法によ
り、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不活性
ゼラチンを加えた後、銀1モル当り10−3モルのKl
溶液に加え、15分分間時させた後降温した。
−’モルの6塩化イリジウム(III)カリおよびアン
モニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭化
カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間のpA
gを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.28
μで、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単分散
乳剤を調製した。この乳剤をフロキュレーション法によ
り、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40gの不活性
ゼラチンを加えた後、銀1モル当り10−3モルのKl
溶液に加え、15分分間時させた後降温した。
45℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4X10
−’モルの塩化イリジウム(III)カリ、2XIO”
モルの6塩化ロジウム(Illr)酸アンモニウムおよ
びアンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と塩化ナトリウ
ム、臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその
間のpAgを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ
0.28μで、平均塩化銀含有量70モル%の立方体単
分散乳剤を調整した。乳剤Aと同様に、脱塩し不活性ゼ
ラチンを加えた後60℃に保ち塩化金酸8■とチオ硫酸
ナトリウム5■を添加し化学熟成を施した。この乳剤に
さらに銀1モル当り10−’モルのKl溶液を加え15
分分間時させた後降温した。
−’モルの塩化イリジウム(III)カリ、2XIO”
モルの6塩化ロジウム(Illr)酸アンモニウムおよ
びアンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と塩化ナトリウ
ム、臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその
間のpAgを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ
0.28μで、平均塩化銀含有量70モル%の立方体単
分散乳剤を調整した。乳剤Aと同様に、脱塩し不活性ゼ
ラチンを加えた後60℃に保ち塩化金酸8■とチオ硫酸
ナトリウム5■を添加し化学熟成を施した。この乳剤に
さらに銀1モル当り10−’モルのKl溶液を加え15
分分間時させた後降温した。
これらの乳剤を分割して増感色素として銀1モルあたり
lXl0−’モルの5,5′−ジクロロ−9−エチル−
3,3′−ビス(3−スルフォプロピル)オキサカルボ
シアニン(増感色素1)、および5− [3−(4−ス
ルホブチル)−5−クロロ−2−オキサゾリジリデン〕
−1−ヒドロキシエチル−3−(2−ピリジル)−2−
チオヒダントイン(増感色素2)と、本発明の一般式(
I)および(IF)の化合物を表1のように添加した。
lXl0−’モルの5,5′−ジクロロ−9−エチル−
3,3′−ビス(3−スルフォプロピル)オキサカルボ
シアニン(増感色素1)、および5− [3−(4−ス
ルホブチル)−5−クロロ−2−オキサゾリジリデン〕
−1−ヒドロキシエチル−3−(2−ピリジル)−2−
チオヒダントイン(増感色素2)と、本発明の一般式(
I)および(IF)の化合物を表1のように添加した。
また、次のヒドラジン誘導体を添加し
更に5−メチルベンズトリアゾール、4−ヒドロキシ−
1,3,3a、7−チトラザインデン、ハイドロキノン
200■/イ、下記化合物(イ)、(ロ)、(ハ)及び
ゼラチンに対して30wt%のポリエチルアクリレート
及びゼラチン硬化剤として下記化合物(ニ)を添加し、
塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層(0,5μ)を
有するポリエチレンテレフタレートフィルム(150μ
)上に銀量3.4g/rrfとなるように塗布した。
1,3,3a、7−チトラザインデン、ハイドロキノン
200■/イ、下記化合物(イ)、(ロ)、(ハ)及び
ゼラチンに対して30wt%のポリエチルアクリレート
及びゼラチン硬化剤として下記化合物(ニ)を添加し、
塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層(0,5μ)を
有するポリエチレンテレフタレートフィルム(150μ
)上に銀量3.4g/rrfとなるように塗布した。
15.0■/d
CI
(保護層の塗布)
この上に保護層として、ゼラチン1. 5g/rrr、
ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)
0. 3g/n(を次の界面活性剤を用いて塗布した。
ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)
0. 3g/n(を次の界面活性剤を用いて塗布した。
(CI(2CH÷、。(−CH,C÷、。
Cool(C00C2H400C
−(−C−CH,−)−
Ha
200■/d
(ニ)
H
C)it = CH302CHtCHCI(!5OIC
H= CH2ゼラチンに対して2.(1wt% CH,C00C,H,。
H= CH2ゼラチンに対して2.(1wt% CH,C00C,H,。
CHCOOC,H,、31rng/d
S Os N a
C,F、7SO2NCH,C00K
CsHr 2. 5■/イこれらの試料を
、3200°にのタングステン光で光学クサビおよびコ
ンタクトスクリーン(富士フィルム、150Lチエーン
ドツト型)を通して露光後、次の現像液で34℃30秒
間現像し、定着、水洗、乾燥した。
、3200°にのタングステン光で光学クサビおよびコ
ンタクトスクリーン(富士フィルム、150Lチエーン
ドツト型)を通して露光後、次の現像液で34℃30秒
間現像し、定着、水洗、乾燥した。
得られたサンプルの写真性および黒ボッの測定結果を表
2に示した。網階調は次式で表わした。
2に示した。網階調は次式で表わした。
*網階調−95%の網点面積率を与える露光量(1og
E95%)−5%の網点面積率を与える露光量(fog
E5%) 網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、「l」が最も悪い品質を示す。製版
用網点原版としては、「5」、r4Jが実用可能で、「
3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、「1」は
実用不可能な品質である。「4」と「3」の中間のもの
はr3. 5Jとした。
E95%)−5%の網点面積率を与える露光量(fog
E5%) 網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、「l」が最も悪い品質を示す。製版
用網点原版としては、「5」、r4Jが実用可能で、「
3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、「1」は
実用不可能な品質である。「4」と「3」の中間のもの
はr3. 5Jとした。
黒ボッは顕微鏡観察により5段階に評価したもので、「
5」が最もよく 「1」が最も悪い品質を表わす。「5
」又は「4」は実用可能で「3」は粗悪だか、ぎりぎり
実用でき「2j又は「1」は実用不可である。「4」と
「3」の中間のものはr3.5Jと評価した。
5」が最もよく 「1」が最も悪い品質を表わす。「5
」又は「4」は実用可能で「3」は粗悪だか、ぎりぎり
実用でき「2j又は「1」は実用不可である。「4」と
「3」の中間のものはr3.5Jと評価した。
本発明の試料は、高い硬調性を維持し網階調が広い。網
点の品質は、試料1.IL21.31ではスムーズさに
欠け、試料2〜10,22〜30では光学濃度が低く、
ぼやけた状態になっているのに対し、本発明の試料では
光学濃度が高く、スムーズな形状をしている。さらに試
料12〜14.32〜34と比べ黒ボッが良化されてい
る。
点の品質は、試料1.IL21.31ではスムーズさに
欠け、試料2〜10,22〜30では光学濃度が低く、
ぼやけた状態になっているのに対し、本発明の試料では
光学濃度が高く、スムーズな形状をしている。さらに試
料12〜14.32〜34と比べ黒ボッが良化されてい
る。
表。
2
表。
Claims (4)
- (1)支持体上に塩化銀含有率が少なくとも50モル%
のハロゲン化銀とヒドラジン誘導体を含むハロゲン化銀
乳剤層を少なくとも1層有するハロゲン化銀写真感光材
料において、該ハロゲン化銀乳剤層およびその他の親水
性コロイド層の少なくとも1層に酸化されることにより
現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物と下記一般式
( I )で表わされる化合物を含有することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ Z_1及びZ_2は各々ベンゾオキサゾール核、ベンゾ
チアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾ
ール核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、
チアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナ
ゾール核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダ
ゾール核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子
群を表わす。 R_1及びR_2は各々アルキル基またはアラルキル基
を表わす。Xは電荷バランス対イオンであり、nは0又
は1を表わす。 - (2)レドックス化合物がレドックス基としてハイドロ
キノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、ア
ミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒ
ドロキシルアミン類、レダクトン類を有することを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写
真感光材料。 - (3)レドックス化合物がレドックス基としてヒドラジ
ン類を有することを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - (4)レドックス化合物が下記一般式(II−1)、(I
I−2)、(II−3)で表わされることを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 一般式(II−1) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(II−2) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(II−3) ▲数式、化学式、表等があります▼ これらの式中、R_3は脂肪族基または芳香族基を表わ
す。G_1は▲数式、化学式、表等があります▼基、▲
数式、化学式、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基、−SO−基、−SO_2−基ま
たは▲数式、化学式、表等があります▼基を表わす。G
_2は単なる結合手、−O−、−S−または▲数式、化
学式、表等があります▼を表わし、R_4は水素原子ま
たはR_3を表わす。 A_1、A_2は水素原子、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基またはアシル基を表わし置換されて
いても良い。一般式(II−1)ではA_1、A_2の少
なくとも一方は水素原子である。A_3はA_1と同義
または▲数式、化学式、表等があります▼ を表わす。 A_4はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ
基または−G_1−G_2−R_3を表わす。 Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表
わす。PUGは現像抑制剤を表わす。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9839190A JPH03294845A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US07/684,087 US5230983A (en) | 1990-04-13 | 1991-04-12 | Silver halide photographic material |
| DE69125305T DE69125305T2 (de) | 1990-04-13 | 1991-04-15 | Photographisches Silberhalogenidmaterial |
| EP91105967A EP0452848B1 (en) | 1990-04-13 | 1991-04-15 | Silver halide photographic material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9839190A JPH03294845A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03294845A true JPH03294845A (ja) | 1991-12-26 |
Family
ID=14218548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9839190A Pending JPH03294845A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03294845A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61213847A (ja) * | 1985-03-19 | 1986-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6461743A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic sensitive material |
| JPS6472139A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material which is improved in retouch work |
| JPH021844A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-08 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1990
- 1990-04-13 JP JP9839190A patent/JPH03294845A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61213847A (ja) * | 1985-03-19 | 1986-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6461743A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic sensitive material |
| JPS6472139A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material which is improved in retouch work |
| JPH021844A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-08 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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