JPH03295427A - 温度センサー - Google Patents
温度センサーInfo
- Publication number
- JPH03295427A JPH03295427A JP9879890A JP9879890A JPH03295427A JP H03295427 A JPH03295427 A JP H03295427A JP 9879890 A JP9879890 A JP 9879890A JP 9879890 A JP9879890 A JP 9879890A JP H03295427 A JPH03295427 A JP H03295427A
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- JP
- Japan
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- hydrogen
- temp
- temperature
- sample
- temperature sensor
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- Pending
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- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は真空装置内において温度を測定する温度セン
サーに関するものである。
サーに関するものである。
[従来の技術]
第3図は例えば刊行物(理化学辞典岩波書店刊P、10
01)に示されている、従来から温度を測定するために
用いられてきた熱電対により、真空装置内で所定の試料
の温度を測定する状態を示す構成図である0図において
(1)は真空装置、(2)は真空ポンプ、(4)はハー
メチックシール、(6)は被温度測定用試料、(7)は
ヒーター、(8)は試料台、(9)はヒーター電源、(
10)は熱電対、(11)は電圧計である。
01)に示されている、従来から温度を測定するために
用いられてきた熱電対により、真空装置内で所定の試料
の温度を測定する状態を示す構成図である0図において
(1)は真空装置、(2)は真空ポンプ、(4)はハー
メチックシール、(6)は被温度測定用試料、(7)は
ヒーター、(8)は試料台、(9)はヒーター電源、(
10)は熱電対、(11)は電圧計である。
次に動作について説明する。ヒーター(7)により加熱
された被温度測定用試料(6)の温度は、熱電対(3)
によって測定され電圧計(5)にその起電力が表示され
る。この起電力の値から被温度測定用試料(6)の温度
を知ることができる。
された被温度測定用試料(6)の温度は、熱電対(3)
によって測定され電圧計(5)にその起電力が表示され
る。この起電力の値から被温度測定用試料(6)の温度
を知ることができる。
[発明が解決しようとする課題]
従来の、一種の温度センサーである熱電対による温度測
定は上記のようにしておこなわれるので、真空装置内に
熱電対用の配線を施す必要があり、温度を測定する位置
と数が制限されるという課題があった。
定は上記のようにしておこなわれるので、真空装置内に
熱電対用の配線を施す必要があり、温度を測定する位置
と数が制限されるという課題があった。
この発明は、かかる課題を解決するためになされたもの
で、真空装置内の温度センサー用の配線を無くシ、真空
装置内の配線の困難な場所でも温度が測定でき、−度に
何か所でも温度を測定できる温度センサーを得ることを
目的とする。
で、真空装置内の温度センサー用の配線を無くシ、真空
装置内の配線の困難な場所でも温度が測定でき、−度に
何か所でも温度を測定できる温度センサーを得ることを
目的とする。
[課題を解決するための手段]
この発明の温度センサーは加熱により水素ガスを放出す
る水素化アモルファスシリコンで構成される水素放出素
子、および1−記放出した水素ガスを検出する水素ガス
検出器を備えたものである。
る水素化アモルファスシリコンで構成される水素放出素
子、および1−記放出した水素ガスを検出する水素ガス
検出器を備えたものである。
[作用コ
この発明の温度センサーは真空装置内での配線が無いこ
とにより、装置内の任意の場所の温度を図ることができ
る。また水素放出後は膜面に形状変化がみられることか
ら、同時に何箇所もの温度を測定でき、どの場所で温度
」−屏があったかも知ることができる。
とにより、装置内の任意の場所の温度を図ることができ
る。また水素放出後は膜面に形状変化がみられることか
ら、同時に何箇所もの温度を測定でき、どの場所で温度
」−屏があったかも知ることができる。
[実施例]
第1図はこの発明の一実施例の温度センサーを用いて、
真空装置内で被温度測定用試料を測定する状態を示す構
成図である0図において(3)は水素放出素子、(5)
は水素検出器である。
真空装置内で被温度測定用試料を測定する状態を示す構
成図である0図において(3)は水素放出素子、(5)
は水素検出器である。
即ち、ヒーター(7)により被温度測定用試料(6)が
加熱され、ある一定温度以上になると被温度測定用試料
(6)の脇に置かれたこの発明の一実施例の温度センサ
ーに係わる水素放出素子から水素が放出され、これを水
素検出器が感知することにより被温度測定用試料(6)
の温度を知ることができる。
加熱され、ある一定温度以上になると被温度測定用試料
(6)の脇に置かれたこの発明の一実施例の温度センサ
ーに係わる水素放出素子から水素が放出され、これを水
素検出器が感知することにより被温度測定用試料(6)
の温度を知ることができる。
この発明の一実施例の温度センサーに係わる水素放出素
子は、加熱により水素を放出する水素化アモルファスシ
リコンで構成されるが、どのような状態で構成されるか
によって水素放出開始温度が異なる。即ち、水素放出素
子と17で例えば膜厚が1μm程度の膜状の水素化アモ
ルファスシリコンのもので、水素放出開始温度は300
℃付近であり、膜厚が薄くなると水素放出開始温度が低
くなり、膜厚が厚くなると水素放出開始温度が高くなり
、一般的に200〜450℃の水素放出開始温度を示す
ものが用いられる。第2図はこの発明の一実施例の温度
センサーに係わる水素放出素子を構成する水素化アモル
ファスシリコンの加熱による水素放出量変化を示す特性
図であり、横軸は温度(’C)縦軸は水素放出量であり
、この場合は水素放出開始温度が200℃の場合である
。即ち、この発明の温度センサーは使用前に水素放出開
始温度を予め測定しておくことにより、水素を検出した
時の温度を知ることができる。
子は、加熱により水素を放出する水素化アモルファスシ
リコンで構成されるが、どのような状態で構成されるか
によって水素放出開始温度が異なる。即ち、水素放出素
子と17で例えば膜厚が1μm程度の膜状の水素化アモ
ルファスシリコンのもので、水素放出開始温度は300
℃付近であり、膜厚が薄くなると水素放出開始温度が低
くなり、膜厚が厚くなると水素放出開始温度が高くなり
、一般的に200〜450℃の水素放出開始温度を示す
ものが用いられる。第2図はこの発明の一実施例の温度
センサーに係わる水素放出素子を構成する水素化アモル
ファスシリコンの加熱による水素放出量変化を示す特性
図であり、横軸は温度(’C)縦軸は水素放出量であり
、この場合は水素放出開始温度が200℃の場合である
。即ち、この発明の温度センサーは使用前に水素放出開
始温度を予め測定しておくことにより、水素を検出した
時の温度を知ることができる。
また、上記実施例では被温度測定用試料の脇にこの発明
の一実施例の温度センサーを置いて−1−記被温度測定
用試料の温度を測定したが、水素化アモルファスシリコ
ンは水素放出後は膜面に形状変化がみられることから、
上記のように例えば各種膜厚の水素化アモルファスシリ
コン膜で構成された。即ち各種水素放出開始温度を有す
る水素放出素子を作製し、それらを真空装置内に同時に
設置することにより、この発明の実施例の温度センサー
の設置された場所の上昇温度領域を知ることができる。
の一実施例の温度センサーを置いて−1−記被温度測定
用試料の温度を測定したが、水素化アモルファスシリコ
ンは水素放出後は膜面に形状変化がみられることから、
上記のように例えば各種膜厚の水素化アモルファスシリ
コン膜で構成された。即ち各種水素放出開始温度を有す
る水素放出素子を作製し、それらを真空装置内に同時に
設置することにより、この発明の実施例の温度センサー
の設置された場所の上昇温度領域を知ることができる。
さらに、上記実施例では温度センサーにより温度を測定
するだけであったが、温度コントローラーを設けて測定
した温度により測定点の温度が一定の温度域」二に上が
らなくなる機能を付けてもよい。
するだけであったが、温度コントローラーを設けて測定
した温度により測定点の温度が一定の温度域」二に上が
らなくなる機能を付けてもよい。
[発明の効果]
以上説明した通り、この発明は加熱により水素ガスを放
出する水素化アモルファスシリコンで構成される水素放
出素子、および上記放出した水素ガスを検出する水素ガ
ス検出器を備えたものを用いることにより、真空装置内
の温度センサー用の配線を無くシ、真空装置内のどの様
な場所でも温度が測定でき、−度に何か所でも温度を測
定できる温度センサーを得ることができる。
出する水素化アモルファスシリコンで構成される水素放
出素子、および上記放出した水素ガスを検出する水素ガ
ス検出器を備えたものを用いることにより、真空装置内
の温度センサー用の配線を無くシ、真空装置内のどの様
な場所でも温度が測定でき、−度に何か所でも温度を測
定できる温度センサーを得ることができる。
第1図はこの発明の一実施例の温度センサーを用いて、
真空装置内で被温度測定体を測定する状態を示す構成図
、第2図はこの発明の一実施例の温度センサーに係わる
水素放出素子を構成する水素化アモルファスシリコンの
加熱による水素放出量変化を示す特性図、第3図は、従
来の熱電対により、真空装置内で所定の試料の温度を測
定する状態を示す構成図である。 図において(3)は水素放出素子、(5)は水素検出器
、(6)は被温度測定用試料である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
真空装置内で被温度測定体を測定する状態を示す構成図
、第2図はこの発明の一実施例の温度センサーに係わる
水素放出素子を構成する水素化アモルファスシリコンの
加熱による水素放出量変化を示す特性図、第3図は、従
来の熱電対により、真空装置内で所定の試料の温度を測
定する状態を示す構成図である。 図において(3)は水素放出素子、(5)は水素検出器
、(6)は被温度測定用試料である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 加熱により水素ガスを放出する水素化アモルファスシリ
コンで構成される水素放出素子、および上記放出した水
素ガスを検出する水素ガス検出器を備えた温度センサー
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9879890A JPH03295427A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 温度センサー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9879890A JPH03295427A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 温度センサー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03295427A true JPH03295427A (ja) | 1991-12-26 |
Family
ID=14229376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9879890A Pending JPH03295427A (ja) | 1990-04-13 | 1990-04-13 | 温度センサー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03295427A (ja) |
-
1990
- 1990-04-13 JP JP9879890A patent/JPH03295427A/ja active Pending
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